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第17讲 电子衍射

第17讲 电子衍射
第17讲 电子衍射

第二章电子衍射谱的标定

第二章 电子衍射谱的标定 2. 1透射电镜中的电子衍射 透射电镜中的电子衍射基本公式为: λL Rd = R 为透射斑到衍射斑的距离(或衍射环半径),d 为晶面间距,λ为电子波长,L 为有效相机长度。 p i M M f L 0= 0f 为物镜的焦距,i M 中间镜放大倍数,p M 投影镜的放大倍数,在透射电镜 的工作 中,有效的相机长度L ,一般在照相底板中直接标出,各种类型的透射电镜标注方法不同,λ为电子波长,由工作电压决定,工作电压一般可由底板标注确定,对没有标注的早期透射电镜在拍摄电子衍射花样时,记录工作时的加速电压,由电压与波长对应表中查出λ。 K L =λ K 为有效机相常数,单位ο A mm ,如加速电压U =200仟伏,则ο A 2 1051.2-?=λ,若有 效相机长度mm L 800=,则ο A mm K 08.2010 51.28002 =??=- 透射电镜的电子衍射有效相机常数确定方法: 电子衍射有效相机常数确定方法,一般有三种方法 ①按照相底片直接标注计算: H -800透射电镜的电子衍射底片下方有一列数字,如: 0.80 91543 4A 90.5.21; 0.80表示有效相机长度mm M L 8008.0==,91543为片号,4A 其A 表示工作电压200千伏查表知电子波长ο A 2 10 51.2-?=λ则有效相机常数K 为: ο A mm L K 08.201051.28002 =??==-λ H -800透射电镜中,电子衍射底片第一个数字为相机长度如:0.80,0.40,……第三个数字为工作电压U ,分别为4A ,4b ,4c ,4d ,相对应的工作电压分别为200,175,150,100千伏,对应的电子波长分别为:2 2 2 2 10 70.3,1095.2,1071.2,1051.2----????埃。 由电镜有关参数确定的相机常数是不精确的,常因电镜中电气参数变化而改变,产生一些误差,电镜工作者常要根据经验作些修正。 ②用金Au 多晶环状花样校正相机常数 例如喷金Au 多晶样品在H -800透射电镜下拍摄多晶环状花样,如照片上标注为

第六章习题Complex-revised

《结构化学》第六章习题 6001 试述正八面体场中,中心离子d 轨道的分裂方式。 6002 试用分子轨道理论阐明X-,NH3和CN-的配体场强弱的次序。 6003 按配位场理论,在O h场中没有高低自旋络合物之分的组态是:---------------- ( ) (A) d3 (B) d4(C) d5(D) d6(E) d7 6004 凡是中心离子电子组态为d6的八面体络合物,其LFSE 都是相等的,这一说法是否正确? 6005 络合物的中心离子的d 轨道在正方形场中,将分裂成几个能级:---------------- ( ) (A) 2 (B) 3 (C) 4 (D) 5 6006 Fe(CN)63-的LFSE=________________。 6007 凡是在弱场配位体作用下,中心离子d 电子一定取高自旋态;凡是在强场配位体作用下,中心离子d 电子一定取低自旋态。这一结论是否正确? 6008 t,故LFSE为_____________。 Fe(CN)64-中,CN-是强场配位体,Fe2+的电子排布为6 g2 6009 尖晶石的一般表示式为AB2O4,其中氧离子为密堆积,当金属离子A占据正四面体T d空隙时,称为正常尖晶石,而当A占据O h空隙时,称为反尖晶石,试从晶体场稳定化能计算说明NiAl2O4晶体是什么型尖晶石结构( Ni2+为d8结构)。

6010 在Fe(CN)64-中的Fe2+离子半径比Fe(H2O)62+中的Fe2+离子半径大还是小?为什么? 6011 作图证明CO 是个强配位体。 6012 CoF63-的成对能为21?000 cm-1,分裂能为13?000 cm-1,试写出: (1) d 电子排布(2) LFSE 值(3) 电子自旋角动量(4) 磁矩 6013 已知ML6络合物中(M3+为d6),f=1,g= 20?000 cm-1,P= 25?000 cm-1,它的LFSE绝对值等于多少?------------------------------------ ( ) (A) 0 (B) 25?000 cm-1(C) 54?000 cm-1(D) 8000 cm-1 6014 四角方锥可认为是正八面体从z方向拉长,且下端没有配体L的情况。试从正八面体场的d 轨道能级图出发,作出四角方锥体场中的能级分裂图,并简述理由。 6015 某AB6n-型络合物属于O h群,若中心原子A 的d电子数为6,试计算配位场稳定化能,并简单说明你的计算方案的理由。 6016 下列络合物哪些是高自旋的?------------------------------------ ( ) (A) [Co(NH3)6]3+(B) [Co(NH3)6]2+(C) [Co(CN)6]4- (D) [Co(H2O)6]3+ 6017 凡是低自旋络合物一定是反磁性物质。这一说法是否正确? 6018 Fe的原子序数为26,化合物K3[FeF6]的磁矩为5.9玻尔磁子,而K3[Fe(CN)6]的磁矩为 1.7玻尔磁子,这种差别的原因是:------------------------------------ ( ) (A) 铁在这两种化合物中有不同的氧化数

第九章 电子衍射

第九章 电子衍射 1、 分析电子衍射与 X 射线衍射有何异同?(**) 电子衍射原理与X 射线相似 相同之处:都是满足布拉格方程作为产生衍射的必要条件,两种衍射技术所得到的衍射花样在几何特征上是大致相似的。 不同之处: 1)电子波的波长比X 射线短得多,在同样满足布拉格条件时,它的衍射角θ很小,约为10e-2rad 。而X 射线产生衍射时其衍射角最大可接近π/2。(这是电子衍射花样特征不同与x 射线衍射的主要原因) 2)在进行电子衍射操作时采用薄晶样品,薄样品的倒易阵点会沿着厚度方向延伸成杆状,因此,增加了倒易点阵与爱瓦德球相交截的机点,结果使略微偏离布拉格条件的电子束可能发生衍射。 3)因为电子波的波长短,采用爱瓦德球图解式,反射球的半径很大,在衍射角θ较小的范围内反射球的球面可以近似的看成是一个平面,从而也可以认为电子衍射产生的衍射斑点大致分布在一个二维倒易截面内,这个结果使晶体产生的衍射花样能比较直接地反映晶体内各晶面的位向,给分析带来不少方便。 4)原子对电子的散射能力远高于对X 射线的散射能力(约高四个数量级),故电子衍射束的强度较大,摄取衍射花样时曝光时间仅需数秒钟。 2、倒易点阵与正点阵之间关系如何?倒易点阵与晶体的电子衍射斑点之间有何对应关系?(**) 答:倒易点阵是与正点阵相对应的量纲为长度倒数的一个三维空间(倒易空间)点阵,通过倒易点阵可以把晶体的电子衍射斑点直接解释成晶体相应晶面的衍射结果,可以认为电子衍射斑点就是就是与晶体相对应的倒易点阵中某一倒易面上阵点排列的像。 关系: 1)倒易矢量ghkl 垂直于正点阵中对应的(hkl )晶面,或平行于它的法向Nhkl 2)倒易点阵中的一个点代表正点阵中的一组晶面 3)倒易矢量的长度等于正点阵中的相应晶面间距的倒数,即ghkl=1/dhkl 。 4)对正交点阵有a*//a,b*//b,c*//c,a*=1/a,b*=1/b,c*=1/c 5)只有在立方点阵中,晶面法向和同指数的晶向市重合的,即倒易矢量ghkl 是与相应指数的晶向[hkl]平行 6)某一倒易基矢垂直于正交点阵中和自己 3、 何为零层倒易截面和晶带定理?说明同一晶带中各晶面及其倒易矢量与晶带轴之间的关系。 零层倒易截面:通过倒易原点的倒易平面,用(uvw )0*表示。 晶带定理::同一晶带中所有晶面的法线都与晶带轴垂直,hu+kv+lw=0 关系:我们可以将晶带轴用正点阵矢量r=ua+vb+wc 表达,晶面法向量用倒易矢量r*=ha*+kb*+lc*表达。由于r*与r 垂直,所以: 从而得到hu+kv+lw=0。(凡是属于 [uvw]晶带的晶面,它们的晶面指数(hkl )都必须符合上式的条件) ()()0r r ha kb lc ua vb wc ****?=++?++=

电子衍射谱的标定

第二章 电子衍射谱的标定 2. 1透射电镜中的电子衍射 透射电镜中的电子衍射基本公式为: R 为透射斑到衍射斑的距离(或衍射环半径),d 为晶面间距,λ为电子波长,L 为有效相机长度。 0f 为物镜的焦距,i M 中间镜放大倍数,p M 投影镜的放大倍数,在透射电镜 的工作 中,有效的相机长度L ,一般在照相底板中直接标出,各种类型的透射电镜标注方法不同,λ为电子波长,由工作电压决定,工作电压一般可由底板标注确定,对没有标注的早期透射电镜在拍摄电子衍射花样时,记录工作时的加速电压,由电压与波长对应表中查出λ。 K 为有效机相常数,单位ο A mm ,如加速电压U =200仟伏,则ο A 2 1051.2-?=λ,若有 效相机长度mm L 800=,则ο A mm K 08.2010 51.28002 =??=- 透射电镜的电子衍射有效相机常数确定方法: 电子衍射有效相机常数确定方法,一般有三种方法 ①按照相底片直接标注计算: H -800透射电镜的电子衍射底片下方有一列数字,如: 0.80 91543 4A ; 0.80表示有效相机长度mm M L 8008.0==,91543为片号,4A 其A 表示工作电压200千伏查表知电子波长ο A 2 10 51.2-?=λ则有效相机常数K 为: H -800透射电镜中,电子衍射底片第一个数字为相机长度如:0.80,0.40,……第三个数字为工作电压U ,分别为4A ,4b ,4c ,4d ,相对应的工作电压分别为200,175,150,100千伏,对应的电子波长分别为:2 2 2 2 10 70.3,1095.2,1071.2,1051.2----????埃。 由电镜有关参数确定的相机常数是不精确的,常因电镜中电气参数变化而改变,产生一些误差,电镜工作者常要根据经验作些修正。 ②用金Au 多晶环状花样校正相机常数 例如喷金Au 多晶样品在H -800透射电镜下拍摄多晶环状花样,如照片上标注为 0.40 92298 4A 工作电压为200仟伏 电子波长为: ο A 2 1051.2-?=λ 由仪器确定的相机常数 ο A mm L K 04.10==λ

第九章电子衍射

第九章电子衍射 1、分析电子衍射与 X 射线衍射有何异同(**) 电子衍射原理与X射线相似 相同之处:都是满足布拉格方程作为产生衍射的必要条件,两种衍射技术所得到的衍射花样在几何特征上是大致相似的。 不同之处: 1)电子波的波长比X射线短得多,在同样满足布拉格条件时,它的衍射角θ很小,约为10e-2rad。而X射线产生衍射时其衍射角最大可接近π/2。(这是电子衍射花样特征不同与x射线衍射的主要原因) 2)在进行电子衍射操作时采用薄晶样品,薄样品的倒易阵点会沿着厚度方向延伸成杆状,因此,增加了倒易点阵与爱瓦德球相交截的机点,结果使略微偏离布拉格条件的电子束可能发生衍射。 3)因为电子波的波长短,采用爱瓦德球图解式,反射球的半径很大,在衍射角θ较小的范围内反射球的球面可以近似的看成是一个平面,从而也可以认为电子衍射产生的衍射斑点大致分布在一个二维倒易截面内,这个结果使晶体产生的衍射花样能比较直接地反映晶体内各晶面的位向,给分析带来不少方便。 4)原子对电子的散射能力远高于对X射线的散射能力(约高四个数量级),故电子衍射束的强度较大,摄取衍射花样时曝光时间仅需数秒钟。 2、倒易点阵与正点阵之间关系如何倒易点阵与晶体的电子衍射斑点之间有何对应关系(**) 答:倒易点阵是与正点阵相对应的量纲为长度倒数的一个三维空间(倒易空间)点阵,通过倒易点阵可以把晶体的电子衍射斑点直接解释成晶体相应晶面的衍射结果,可以认为电子衍射斑点就是就是与晶体相对应的倒易点阵中某一倒易面上阵点排列的像。 关系: 1)倒易矢量ghkl垂直于正点阵中对应的(hkl)晶面,或平行于它的法向Nhkl 2)倒易点阵中的一个点代表正点阵中的一组晶面 3)倒易矢量的长度等于正点阵中的相应晶面间距的倒数,即ghkl=1/dhkl。

投射电子显微镜电子衍射--陈巧林

材料现代分析技术 课程设计 2014 ~ 2015学年第一学期 设计题目透射电子显微镜电子衍射 专业年级2013级材料科学与工程 姓名学号陈巧林3135902043 指导教师张明昕 成绩 福建农林大学材料工程/学院 2015 年 1 月 3 日

目录 第一章透射电子显微镜结构和主要性能参数 1.1 概述 1.2 透射电子显微镜的结构 1.2.1 电子光学部分 1.2.2 真空系统 1.2.3 供电控制系统 1.3 透射电子显微镜主要的性能参数 1.3.1 分辨率 1.3.2 放大倍数 1.3.3 加速电压 第二章透射电镜的成像原理与电子衍射 2.1 透射电镜的成像方式 2.2衬度理论 2.3 电子衍射原理 2.3.1 布拉格定律 2.3.2 倒易点阵与爱瓦尔德球图解法 2.4 电子衍射基本公式 2.5 电子显微镜中的电子衍射 2.5.1有效相机常数 2.5.2选区电子衍射 2.5.3 透射电镜的电子衍射花样 2.6选区电子衍射注意事项 2.6.1常见的几种衍射图谱 2.6.2单晶电子衍射花样的标定 第三章透射电子显微镜分析样品制备 3.1 透射电镜复型技术(间接样品) 3.1.1塑料——碳二级复型 3.1.2萃取复型(半直接样品) 3.2 金属薄膜样品的制备 3.2.1薄膜制备的基本要求 3.2.2一般程序 3.3 陶瓷材料试样的制备 3.3.1颗粒试样的制备方法 3.3.2陶瓷薄膜试样(离子减薄)

第一章透射电子显微镜结构和主要性能参数 1.1 概述 透射电子显微镜(Transmission electron microscopy,缩写TEM),简称透射电镜,是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上,电子与样品中的原子碰撞而改变方向,从而产生立体角散射。散射角的大小与样品的密度、厚度相关,因此可以形成明暗不同的影像,影像将在放大、聚焦后在成像器件(如荧光屏、胶片、以及感光耦合组件)上显示出来。 由于电子的德布罗意波长非常短,透射电子显微镜的分辨率比光学显微镜高的很多,可以达到0.1~0.2nm,放大倍数为几万~百万倍。因此,使用透射电子显微镜可以用于观察样品的精细结构,甚至可以用于观察仅仅一列原子的结构,比光学显微镜所能够观察到的最小的结构小数万倍。TEM在中和物理学和生物学相关的许多科学领域都是重要的分析方法,如癌症研究、病毒学、材料科学、以及纳米技术、半导体研究等等。 在放大倍数较低的时候,TEM成像的对比度主要是由于材料不同的厚度和成分造成对电子的吸收不同而造成的。而当放大率倍数较高的时候,复杂的波动作用会造成成像的亮度的不同,因此需要专业知识来对所得到的像进行分析。通过使用TEM不同的模式,可以通过物质的化学特性、晶体方向、电子结构、样品造成的电子相移以及通常的对电子吸收对样品成像。 第一台TEM由马克斯·克诺尔和恩斯特·鲁斯卡在1931年研制,这个研究组于1933年研制了第一台分辨率超过可见光的TEM,而第一台商用TEM于1939年研制成功。第一部实际工作的TEM,现在在德国慕尼黑的的遗址博物馆展出。恩斯特·阿贝最开始指出,对物体细节的分辨率受到用于成像的光波波长的限制,因此使用光学显微镜仅能对微米级的结构进行放大观察。通过使用由奥古斯特·柯勒和莫里茨·冯·罗尔研制的紫外光显微镜,可以将极限分辨率提升约一倍。然而,由于常用的玻璃会吸收紫外线,这种方法需要更昂贵的石英光学元件。当时人们认为由于光学波长的限制,无法得到亚微米分辨率的图像。 1928年,柏林科技大学的高电压技术教授阿道夫·马蒂亚斯让马克斯·克诺尔来领导一个研究小组来改进阴极射线示波器。这个研究小组由几个博士生组成,这些博士生包括恩斯特·鲁斯卡和博多·冯·博里斯。这组研究人员考虑了透镜设计和示波器的列排列,试图通过这种方式来找到更好的示波器设计方案,同时研制可以用于产生低放大倍数(接近1:1)的电子光学原件。1931年,这个研究组成功的产生了在阳极光圈上放置的网格的电子放大图像。这个设备使用了两个磁透镜来达到更高的放大倍数,因此被称为第一台电子显微镜。在同一年,西门子公司的研究室主任莱因霍尔德·卢登堡提出了电子显微镜的静电透镜的专利。 自从60年代以来,商品透射电子显微镜都具有电子衍射功能,而且可以利用试样后面的透镜,选择小至1微米的区域进行衍射观察,称为选区电子衍射,而在试样之后不用任何透镜的情形称高分辨电子衍射。带有扫描装置的透射电子显微镜可以选择小至数千埃甚至数百埃的区域作电子衍射观察,称微区衍射。入射电子束一般聚焦在照相底板上,但也可以聚焦在试样上,此时称会聚束电子衍射。

电子衍射-1

第七章电子衍射 n7.1 概述 n7.2 电子束的布拉格衍射 n7.3 g矢量(衍射晶面矢量) n7.4 电子衍射的基本公式和产生衍射的 条件 n7.5 零层倒易面 n7.6 标准电子衍射花样

第一节概述 透射电镜的最主要特点是它既可以进行形貌分析又可以作电子衍射分析。 从光路中可以看到,若减小中间镜的电流,在维持像距不变的条件下使焦距和物距变长,这样就可把中间镜的物平面移至物镜的背焦面上,此时,在荧光屏上即显示出一幅反映试样晶体结构的衍射花样。

电子衍射的原理和X射线衍射相似,是以满足(或基本满足)布拉格方程作为产生衍射的必要条件。但是也有不同之处: 1)波长不同,导致衍射角不同,电子衍射角θ很小,约为10-2rad。 2)电子衍射操作时采用薄晶样品,尺寸效应 3)电子束波长短,导致反射球半径很大 4)原子对电子的散射能力远高于对X射线的散射能力,故电子衍射束的强度较大。

第二节电子束的布拉格衍射 一、电子衍射时布拉格方程的形式 把晶面间距d hkl 除以衍射级数n 是意味着任意 (hkl )晶面的n 级衍射,均可看成是与之平行但晶面间距小n 倍(nh hk hl )晶面的一级衍射。 在实际工作中,常常毋需考虑(hkl )晶面的n 级衍射,而只要考虑它的一级衍射就可以了。 2sin hkl d n θλ=2(hkl d n θλ =

电子衍射的布拉格方程与X射线一致,但是: 1)电子衍射时衍射角极小(由于波长短);2)电子衍射操作过程中,常在稍微偏离布拉格条件下的情况下亦极易测得衍射束的强度(样品很薄)。

图7-1符合布拉格条件(a)和不符合布拉格条件时 衍射束的振幅(b)

(完整版)结构化学第二章答案

【1.1】将锂在火焰上燃烧,放出红光,波长λ=670.8nm ,这是Li 原子由电子组态 (1s)2(2p) 1 →(1s)2 (2s)1 跃迁时产生的,试计算该红光的频率、波数以及以kJ ·mol -1 为单位的能量。 解:81 141 2.99810m s 4.46910s 670.8m c νλ--??===? 41711 1.49110cm 670.810cm νλ--===??% 34141 23-1 -16.62610J s 4.46910 6.602310mol 178.4kJ mol A E h N s ν--==??????=? 【1.3】金属钾的临阈频率为 5.464×10-14s -1 ,如用它作为光电极的阴极当用波长为300nm 的紫外光照射该电池时,发射光电子的最大速度是多少? 解:2 01 2hv hv mv =+ ()1 2 01 8 1 2 341419 31 2 2.998102 6.62610 5.46410300109.10910h v v m m s J s s m kg υ------??=? ??? ???????-??? ??????=???????g g 1 34141 2 31512 6.62610 4.529109.109108.1210J s s kg m s ----??????=?????=?g g 【1.4】计算下列粒子的德布罗意波的波长: (a ) 质量为10-10 kg ,运动速度为0.01m ·s -1 的尘埃; (b ) 动能为0.1eV 的中子; (c ) 动能为300eV 的自由电子。 解:根据关系式: (1)3422 101 6.62610J s 6.62610m 10kg 0.01m s h mv λ----??===??? 34-11 (2) 9.40310m h p λ-== = =?

低能电子衍射

低能电子衍射 摘要:低能电子衍射技术(LEED)是研究物质表面原子结构的主要手段之一。本文综合数篇文献,主要介绍了低能电子衍射技术的原理和应用。 关键词:低能电子衍射;表面结构 1.前言 自从Davisson和Germer发现低能电子衍射(LEED)现象以来[1],LEED已经历了好几个发展阶段。早在七十年代初期,LEED已发展成为可以确定简单金属表面原子结构的有力工具,而且在当时亦是唯一的手段。随着表面科学的迅速成长和壮大,目前已有不下十种方法可用以确定表面的原子结构。但LEED仍然是当今确定表面原子结构的主要手段之一。事实上,在已确定数百种表面的原子结构中,用LEED方法确定的占绝大部分[2]。LEED确定的表面原子结构的可信性大、精度高(可达0.01A)。LEED不仅可准确地确定表面最外一个原子层中的原子位置,而且还可确定其底下的几个原子层中的原子位置。近十年来,LEED取得了很大的进展,成为更有效的分析表面结构之手段。 近年来,LEED沿着两条平行的路线发展,一些人继续研究清洁和吸附表面的有序结构,它们随温度和覆盖度的变化,报告二维晶胞的信息和形成条件.另一部分工作是仔细地从这些有序表面结构测量衍射束强度与电子能量、角度和温度的关系,决定表面原子的位置、它们的距离和近邻之间的夹角.迄今已报道了1000多种有序表面结构和100多种表面结构的定量分析结果。 LEED在一友面研究中大致起着三方面的功能:①认证表面的有序程序及表面的周期性和对称性;②确定单胞内原子的位置;③测定表面的缺陷及缺陷随温度、时间和吸附量的变化。第一个功能是人们熟悉的。第二个功能常被认为是LEED的主要功能而被强调,所以亦相当熟悉。但由于庞大而耗时的计算程序,繁冗而低效率的尝试一误差探索过程,令人生畏止步。幸而,近十年来的迅速发展,正在深刻地改变这一状况。第三个功能则往往被遗忘,但它是近年得到快速发展的一个肥沃领域。LEED已成为表面实验室最“常规”的装备之一,因此,如何从LEED提取有用信息,一直为广大表面科学家所关注。

第七章 多晶体织构的测定

第七章多晶体织构的测定 【教学内容】 1.织构及其表示方法。 2.丝织构指数的测定。 3.正极图与反极图的获得与分析。 【重点掌握内容】 1.极射赤面投影法。 2.丝织构指数的测定。 3.正极图与反极图的测定与分析。 【了解内容】 织构的种类和表示方法。 【教学难点】 极射赤面投影法。 【教学目标】 1.了解利用X射线衍射分析方法测定多晶体织构的意义、原理和方法。 2.培养学生善于利用织构测定方法解决实际问题的能力。 【教学方法】 以课堂教学为主,并通过一定的习题练习,使学生了解X射线衍射分析方法在多晶体形变的各种织构的测定方法。 多晶体材料在制备、合成及加工等工艺过程形成择优取向,即各晶粒的取向朝一个或几个特定方向偏聚的现像,这种组织状态称为织构。如材料经拉拔、轧制、挤压、旋压等压力加工后,由于塑性变形中晶粒方位转动、变形而形成形变织构;退火后又产生不同冷加工状态的退火织构(或再结晶织构):铸造材料具有某些晶向垂直于模壁的组织特点,电镀、真空蒸镀、溅射等方法制备的薄膜材料也表现出特殊的择优取向。不仅金属、在陶瓷、天然岩石、天然和人造纤维材料中都存在织构,所以说择优取向在多晶材料中几乎是无所不在的。 织构使多晶体材料的物理、力学、化学性能发生各向异性,这种性质有时是有害的,如冷轧钢板的择优取向使用它制成的冲压件出现“制耳”和厚度不均匀以致折皱的疵病;而有时又是有益的,如冷轧硅钢片经适当退火得到的“高斯织构”有利于减小磁损,织构还可以作为一些材料的强化方法加以利用。因而测定织构并给它一定的指标是材料研究的一个重要方面,多处来X射线衍射是揭示材料织构特征的主要方法。近年来背散射电子衍射(EBSD)法在结构测定上亦得到广泛应用。 本章介绍织构的分类以及其表达和测定方法。因要涉及晶体空间方位关系的表示,需先介绍一种特殊的投影方法——极射赤面投影法。 第一节极射赤面投影法 极射赤面投影法:为了在平面上表达三维晶体中晶面、晶向的方位以及它们之间的角度关系,目前最常用方法是极射赤面投影。 一、极射赤面投影法的特点 极射赤面投影(见图7-1)法的特点如下:

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