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数模混合电路设计1

T

R R TC ??≡

1

依赖于迁移率、阈值电压、栅氧化层电容,因而精度差

依赖于源漏电压,因而有较强的非线性特征

用于非关键路径或具有自动调整的电路(负反馈环)

方块数的计算方法

()1

??

?

?

?????≈DS th GS ox ds V V V L W C r μ0.56

0.5

14+0.56*4+0.5*2=17.24

高频时应当考虑趋肤效应

孤立导体

低频高频

导体

低频高频

趋肤深度:电流密度降低到表面电流密度的1/e 时的厚度

1

/f δπμρ

=

dc l

R wt

ρ=

2()

hf l

R w t ρδ=

+22ac dc

hf

R R R

κ=+ 1.44

κ≈

任何两个连线层都可以用作平板电容,

层间绝缘介质较厚,0.5~1.0微米, 5e -5 pF/um 2

有的工艺有专门的电容工序(绝缘介质薄)

底层极板与别的连线层、特别是衬底间的寄生电容通常不可忽略,约占10-30%

用于非关键路径或具有自动调整的电路(负反馈环)

d

衬底W

L

)

22()

2)(2(d

WL

L W d L d W d

C ++≈++≈

εε

电容

三明治结构

同层导体

n

F j j V C C )

/1(0φ?≈

n =1/3,缓变结n =1/2,

突变结

φ

φTC V n TC n TC F Si ??

???????≈/11

)1(TC ~200ppm/°C 较大的反偏电压TC ~100ppm/°C 零电压偏置

1-5fF/um 2

含寄生电阻

确保Vgs>>阈电压,保证工作在强反型,否则损耗大电容值很小,而且非线性严重

R ds

R ds /2

R ds /2

4

R ds

特别注意: 极性

Vin Vout

VAGCcntl

C

gate drain source

N+N+

pWell

考虑沟道中电荷层的厚度(capMod=3),相当于对栅氧化层电容串联了一个电容.

,ox cen ox eff

ox cen

C C C C C =

+Si

cen

DC

C X ε=积累/耗尽工作区

0.25

161exp [cm]

3210gs bs fb sub DC

debye cde ox V V V N X L a T ???

????

=????×?????

?

反型工作区

()1

0.7,7421.9101 [cm]2gst eff th fb B DC

ox

V

V v X T ??????+??Φ????=×+?????

?????

简单情形(地/ 单一导体)

T

W

H

???

????

???????????

?

???+?

?????++==5

.025

.006.177.0H T H W H W C εN.P. van der Meijs and J.T. Fokkema ,“VLSI circuit reconstruction from

mask topology ”, Integration, Vol.2, no.2,1984:85-119E. Barke , “Line -to -Ground Capacitor Calculation for VLSI:

A Comparison,”IEEE Trans, Vol.CAD -7, no.2, Feb, 1988:295-298.

三明治情形

T

W

H 1

H 2

n

n n x

x x x f /12

1212

)(???

????

?+=+加权平均

N.P. van der Meijs and J.T. Fokkema

取n =4,得:

??

?

?????????

??

???

????++????

????++???+?

???

????+==25

.02222

5

.025

.021*********.077.011H H T

H H W H H W C ε

同层多导体情形

T

W

H 1

S

34

.1222

.0222

.007.083.003.08.215.12????

??????

??????

??

????+=???

?

???

??

?????+=+=H S H T H T H W C H T H W C C C C mutual

Single mutual Single total εε

平面螺旋电感

2r

2

7

2

0104rn

rn L Square ?×≈≈πμSquare

Octagon Square Circle L L L L 91.04/==π其它形状:同直径的面积之比的平方根3

/163

/10102.1??

????×≈???

?

????≈?PL PL n μ匝数的计算方法

P 是每米的匝数

空心平面螺旋电感

2r

a

r a

n L re HollowSqua 14225.372

20?≈

μ其中,a 是中位圈的半径精度在5%左右,Q 值更高

a

平面螺旋电感的特点

面积大

串连电阻有损耗

与衬底间的电容也有损耗10nH 左右

Q 值低,5~10, 通常<5

C1R1C1R1

C ox 2

C ox 2

衬底

C p

L R s

)

1(/δ

σδt S e w l

R ??≈l 是电感线圈的总长度

w ,t 分别是导线的宽度和厚度

σ为导线的电导率,δ称为趋肤深度

2σμδw =

ox ox P t nw C /2

ε=oxs ox ox t wl C /ε=)/(21sub wlG R =2

/1sub wlC C =ox t 电感两端所在连线层间的氧化层厚度oxs t 电感主线圈与衬底间的氧化层厚度单位面积的电导、电容,

由衬底材料及其与电感主线圈层的距离决定

sub sub C G ,

空心电感,优化n

在电感下交替放置n阱和衬底,使感生电流深入到衬底的底部

采用多晶硅或金属掩蔽层,减

小衬底噪声到电感底耦合效应,减小损耗;但电容会增加,降低自激频率

综合使用上述策略,可将Q提

高约50%

d

Choong-Mo Nam Young-Se Kwon,

High-performance planar inductor on thick oxidized porous silicon(OPS) substrate, Microwave and Guided Wave Letters, IEEE [see also IEEE Microwave and Wireless Components Letters], August, 1997, pp.236-238

246810121416182022High-Q Inductors

Q -f a c t o r

Frequency (GHz)

d =200μm

100μm 20μm 10μm

5μm 1μm Decreasing d

(d : remaining Si)Courtesy :黄茹, 2007

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