离子液体AlCl3Et3NHCl中电沉积法制备金属铝
９４２ＡｃｔａＰｈｙｓ．?Ｃｈｉｍ．Ｓｉｎ．，２００８Ｖ０１．２４
值对比图，可以看出与理论三维瞬时成核过程大致
符合，说明Ａｌ在铝电极上的成核机理为三维瞬时成
核过程．
２．４恒电位沉积金属铝
研究了离子液体２Ａ１Ｃ１３／Ｅｔ．＃ｌＩ－ＩＣｌ中铝片电极上
恒电位沉积金属铝的工艺条件，考察了电位、时间和
温度等条件对电流效率和沉积铝形貌的影响．
２．４．１电位的影响
图５为室温不同电位条件下电解１ｈ的电流
效率图，图６为电解铝的ＳＥＭ图．图５表明，电位
在一２．４Ｖ时电流效率最高．从图６中可看出，在电位
为一２．３Ｖ时，沉积的Ａｌ颗粒比较分散并有空隙，而
在一２．４、一２．５和一２．６Ｖ后，形貌都类似，虽覆盖了整
个电极，但局部都有堆积情形，可能是电极面积比较小、电位较高、电流较大、电解时间较长导致的．因在一２．４Ｖ时电流效率最高，故选一２．４Ｖ来考察时问和温度对电解的影响．
２．４．２时间的影响
在室温和一２．４Ｖ电位下，不同电解时间下的电流效率见图７，沉积铝的ＳＥＭ图见图８．由图７可知，电解时间为２０ｍｉｎ时电流效率最高，随着电解时间增加，电流效率逐步降低．随电解时间增加，电流消耗在电解杂质电阻上、导线和接触点电阻上增加，导致电流效率降低；随着电解时间的增加，沉积的铝增多，样品流失到电解质中的也增多而导致电流效率降低．由图８可看出，电解时间为２０和３０ｍｉｎ时的形貌比较致密和平整．随着电解时间的增加，如９０ｍｉｎ时表面形貌出现局部堆积，可能是电
－２６０－２．５５－２５０－２４５－２．４０－２．３５—２．３０—２２５
Ｅ／Ｖ（ｖｓＰｔ）
图Ｓ离子液体２ＡＩＣＩ／Ｅｔ３ＮＨＣｌ中铝电极上不同电位下
沉积Ａｌ的电流效率图
Ｆｉｇ．５Ｃｕｒｒｅｎｔｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙｏｆ
ａｌｕｍｉｎｕｍｅｌｅｃｔｒｏｄｅｐｏｓｉｔｓｐｒｅｐａｒｅｄｏｎＡ１ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｆｒｏｍ
２ＡＩＣｌ３／Ｅｔ３ＮＨＣＩｉｏｎｉｃｌｉｑｕｉｄａｔｒｏｏｍｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｗｉｎｌｄｉｆｆｅｒｅｎｔｐｏｔｅｎｔｉａｌｓｆｏｒ１ｈｅｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓ
图６离子液体２ＡＩＣＩＪＥｔ翘ｑＨＣｌ中不同电位下铝电极上
沉积Ａｌ的ＳＥＭ图
Ｆｉｇ．６
ＳＥＭｍｉｃｒｏｇｒａｐｈｓｏｆａｌｕｍｉｎｕｍｅｌｅｃｔｒｏｄｅｐｏｓｉｔｓｐｒｅｐａｒｅｄｏｎＡｌｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｆｒｏｍ２ＡＩＣｌ３／Ｅｔ小ＩＨＣＩｉｏｎｉｃｌｉｑｕｉｄａｔ
ｒｏｏｍｔｅｍｐｅｒａｔａｒｅｗｉｔｈｄｉｆｆｅｒｅｎｔｐｏｔｅｎｔｉａｌｓ
ｆｏｒ１ｈｅｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓ
剧Ｖ（ｖｓＰｔ）：ａ）－２．３，ｂ）－２．４，ｃ）－２．５，ｄ）－２．６
极面积小而电解时间长，电极表面覆盖满后，已沉积铝的表面没有新鲜电极表面光滑和平整，铝继续沉积会出现局部堆积现象．故选电解时间２０ｍｉｎ来考察温度的影响．
２．４．３温度的影响
图９为电位一２．４Ｖ和电解时间２０ｍｉｎ条件下，不同温度条件下电沉积电流效率图，图１０为不同温度条件下的ＳＥＭ图．由图９可知，电解温度为室温时电流效率最高，随温度升高，电流效率都很低．这是
，／ｍＩｎ
图７离子液体２ＡＩＣｌ３／Ｅｔ＝ＩＮＨＣＩ中不同时间铝电极上
沉积Ａｌ的电流效率图
Ｆｉｇ．７Ｃｕｒｒｅｎｔｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙｏｆａｌｕｍｉｎｕｍｅｌｅｃｔｒｏ－
ｄｅｐｏｓｉｔｓｐｒｅｐａｒｅｄｏｎＡＩｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｆｒｏｍ２ＡＩＣＩＪ
Ｅｔ小／ＨＣＩｉｏｎｉｃｌｉｑｕｉｄａｔ一２．４Ｖ（ｖｓＰｔ）ｗｉⅡｌｄｉｆｆｅｒｅｎｔｅｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓ
ｔｉｍｅｓａｔｒｏｏｍｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ
∞∞舳加砷∞∞如加ｍ
ｏ
ＮＯ．６高丽霞等：离子液体ＡＩＣＩ：｛，！Ｅｔ：ｊＮＨｃｌ中电移ｃ积法制备金属铝９４３
图８离子液体２ＡＩＣｌ３／Ｅｔ小ＩＨＣｌ中不同时Ｉ司铝电极上沉积ＡＩ的ＳＥＭ图Ｆｉｇ．８
ＳＥＭｍｉｃｒｏｇｒａｐｈｓｏｆａｌｕｍｉｎｕｍｅｌｅｃｔｒｏｄｅｐｏｓｉｔｓｐｒｅｐａｒｅｄｏｎＡＩｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｆｒｏｍ２ＡＩＣｌ３／Ｅｔ弘ＮＨＣＩｉｏｎｉｃｌｉｑｕｉｄａｔ一２．４ＶｆｎｓＰｔ）ｗｉｔｈｄｉｆｆｅｒｅｎｔｅｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓ
ｔｉｍｅｓａｔｒｏｏｍｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ
ｔ／ｍｉｎ：ａ）２０；ｂ）３０；ｃ）４５；ｄ）９０
因为温度升高，离子液体的电导率升高，电流增大，能谱图中各组分的含量．从图１１（ｂ）和表１可看出，电流损耗也增大，故电流效率降低．从图ｌｏ可看出，Ａｌ的峰很强，含量达到９６％劬）以上；还可看出含有温度升高，沉积的铝变得比较松散，可能由于温度升少量的氧，由于会属Ａｌ比较活泼，这可能是样品接高、电流增大、沉积速度加快，形貌没有室温时致密．触到空气被氧化造成的；还含有少量的氯，这是由所以，在此电极尺寸下电解电位一２．４Ｖ，电解时问２０于样品处理时没有洗干净，离子液体中的元素氯残ｍｉｎ，室温时电流效率达７３％，形貌最好．
２．５沉积铝的纯度
图ｌｌ（ａ）为测得的在一２．４Ｖ（ｖｓＰｔ）、８０℃时电解
２０ｍｉｎ的ＳＥＭ图，图１１（ｂ）为对应图ｌｌ（ａ）中所划定
区域内沉积Ａｌ纯度的能谱图．表ｌ为对应图ｌｌ（ｂ）
图９离子液体２ＡＩＣＩｄＥｔ，ＮＨＣＩ中不同温度下铝电极上
沉积Ａｌ的电流效率图
Ｆｉｇ．９Ｃｕｒｒｅｎｔｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙｏｆ
ａｌｕｍｉｎｕｍｅｌｅｃｔｒｏ－ｄｅｐｏｓｉｔｓｐｒｅｐａｒｅｄｏｎＡｌｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｆｒｏｍ２ＡＩＣＩ／
Ｅｔ弘ＮＨＣＩｉｏｎｉｃｌｉｑｕｉｄａｔ－２．４ＶｆｎｓＰｔ）ｗｉｔｈｄｉｆｆｅｒｅｎｔｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｓｆｏｒ２０ｍｉｎｅｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓ图１０离子液体２ＡＩＣｌ３／Ｅｔ３ＮＨＣＩ中不同温度下铝电极上
沉积Ａｌ的ＳＥＭ图
Ｆｉｇ．１０
ＳＥＭｍｉｃｒｏｇｒａｐｈｓｏｆａｌｕｍｉｎｕｍｅｌｅｃｔｒｏ－ｄｅｐｏｓｉｔｓｐｒｅｐａｒｅｄｏｎＡＩｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｆｒｏｍ２ＡＩＣｌ３／
Ｅｔ正ＮＨＣＩｉｏｎｉｃｌｉｑｕｉｄａｔ－２．４Ｖ（ｖｓＰｔ）ｗｉｔｈｄｉｆｆｅｒｅｎｔｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｓｆｏｒ２０ｍｉｎｅｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓ
刀℃：ａ）２５，ｂ）７０
９４４ＡｃｔａＰｈｙｓ．一Ｃｈｉｍ．Ｓｉｎ．，２００８Ｖ０１．２４
图１１（ａ）离子液体２Ａ１Ｃ１３／Ｅｔ≈ＮＨＣｌ中在一２．４Ｖ（ｗ
Ｐｔ）、８０℃、电解２０ｍｉｎ条件下在铝电极上沉积ＡＩ的ＳＥＭ图，（ｂ）图（ａ）中所划定区域的能谱图
Ｆｉｇ．１１（ａ）ＳＥＭｍｉｃｒｏｇｒａｐｈｏｆｅｌｅｃｔｒｏｄｅｐｏｓｉｔｅｄＡｌ
ｏｎＡｌｓｕｂｓｔｒａｔｅｆｒｏｍ２ＡＩＣｌ３／Ｅｔ小ＩＨＣｌｉｏｎｉｃｌｉｑｕｉｄａｔ－２．４Ｖ（ｖｓＰｔ）ｆｏｒ２０ｍｉｎｅｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓａｔ８０ｏＣ。ａｎｄ
（ｂ）ＥＤＡＸｐｒｏｆｉｌｅｆｏｒｔｈｅａｒｅａｓｈｏｗｎｉｎｔｈｅＳＥＭ
ｍｉｃｒｏｇｒａｐｈ（ａ）
表１图ｌｌｂ中各元素的含量
Ｔａｂｌｅ１ＣｏｎｔｅｎｔｏｆｔｈｅｅｌｅｍｅｎｔｉｎＦｉｇ．１１（ｂ）
Ⅲ：ｍａｓｓｆｒａｃｔｉｏｎ．工：ａｔｏｍｉｃｆｒａｃｔｉｏｎ
留到样品上造成的．总的来说沉积Ａｌ的纯度是比较高的．
３结论
（１）不同比例ＡＩＣＩＪＥｔＪＮ－ＨＣＩ离子液体的电导率随温度升高而升高，符合Ａｒｒｈｅｎｉｕｓ规律．
（２）在２Ａ１Ｃ１ＪＥｂ，ＮＨＣＩ离子液体中，在铝电极上的循环伏安研究结果表明有一个明显的成核罔，说明在铝电极表面上沉积过程可能是成核控制过程；计时电流试验结果表明，Ａｌ在铝电极上的成核机理为三维瞬时成核过程．
（３）在铝片（５ｍｍｘ６ｍｉｌｌ）电极上的恒电位电解结果显示，存电位一２．４Ｖ（ｖｓＰｔ），电解时间２０ｍｉｎ，室温时形貌比较致密和平整，电流效率高达７３％．（４）在２Ａｌｃｌ：；／Ｅｔ３ＮＨＣＩ的离子液体中沉积铝的纯度达到９６％（ｗ）１．以Ｉｚ．
Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅｓ
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离子液体AlCl3/Et3NHCl中电沉积法制备金属铝
作者：高丽霞， 王丽娜， 齐涛， 李玉平， 初景龙， 曲景奎， GAO Li-Xia， WANG Li-Na，QI Tao， LI Yu-Ping， CHU Jing-Long， QU Jing-Kui
作者单位：中国科学院过程工程研究所,绿色过程与工程院重点实验室,北京,100190
刊名：
物理化学学报
英文刊名：ACTA PHYSICO-CHIMICA SINICA
年，卷(期)：2008，24(6)
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1.会议论文张丽鹏.于先进.洪淑翠.董云会.李德刚.张欣铝基离子液体(BMIM)Br-AlC13的制备与电沉积应用2008 在高纯氩气气氛下,将AlC13与溴化1-丁基-3-甲基咪唑(BMIM)Br反应合成透明的铝基离子液体(BMIM)Br-AlC13;采用红外光谱仪、扫描电镜及X射线能谱仪对其结构进行表征.在298.15 K下进行16 h铝电沉积实验,通过循环伏安曲线法测定其电化学窗口.研究结果表明:铝基离子液体(BMIM)Br-AlC13的电化学窗口为3.40 V;扫描电镜分析表明,阴极新生态的铝晶粒生长完整、晶界完善;X射线能谱分析阴极表面新生态铝的结果显示主元素为铝,微量元素为氧.
2.学位论文范春华室温熔盐电沉积铝的研究2007
铝由于具有各种优异的性能而有着广泛的应用前景。近年来，随着室温熔盐发展，可以使铝镀层在低温下进行。
本文采用AlCl3-EMIC室温熔盐作为电解质，利用电化学方法研究了熔盐电沉积铝的阴极过程，通过电沉积实验分析了实验参数如熔盐温度、电流密度、脉冲宽度、脉冲间隔、电沉积时间等对镀层性能的影响，确定了比较适宜的工艺参数。
研究表明，60℃时在摩尔比为2∶1的AlCl3/EMIC体系中，以铝丝为参比电极，在钨电极上存在欠电位沉积现象。铝的析出电位为-0.06V，峰电位为-0.3V，其电化学反应为准可逆过程，产物不溶解；电结晶过程为三维瞬时形核半球形扩散长大过程；以铝丝为参比电极，在铝电极上铝的析出电位为-0.06V，峰电位为-0.35V，其电化学反应为准可逆过程，产物不溶解，电结晶过程为三维瞬时形核半球形扩散长大过程。适当地增加过电位可使晶核密度增加，有利于获得较好的沉积层。
本文采用直流和脉冲技术电沉积铝，研究表明，采用脉冲电沉积方法得到的镀层性能优于直流电沉积方法。以铜为基体材料，用直流电沉积在
AlCl3-EMIC熔盐体系中，当实验参数为：温度60℃，电流密度20mA/cm2，工作时间30min，AlCl3/EMIC摩尔比为2∶1时，得到的镀层表面光洁、平整，颗粒尺寸大约为4μm，厚度145μm与基体结合紧密。而利用脉冲电沉积时，当实验条件为温度60℃，电流密度20mA/cm2，脉冲宽度9ms，脉冲间隔1ms，工作时间30min，AlCl3/EMIC摩尔比为2∶1，得到的镀层致密、光滑、有金属光泽、颗粒平均尺寸为2μm，厚度达到125μm、与基体结合紧密，性能优于直流电沉积得到的镀层。
3.期刊论文梁成浩.曹彩红.黄乃宝.LIANG Cheng-hao.CAO Cai-hong.HUANG Nai-bao氯铝酸熔融盐中电沉积铝及
铝合金研究的进展-电镀与环保2009,29(5)
综述了近年来在无机及有机氯铝酸熔融盐中电沉积铝和铝合金研究的进展,着重介绍了电沉积金属及其合金的熔融盐,电沉积铝_及其合金的无机和有机氯铝酸熔融盐,并进行展望.与其他熔融盐相比,氯铝酸熔融盐具有溶解能力强,易于配制,废液易于处理和价廉等优点,在电镀生产中有着广阔的应用前景.
4.学位论文高志坤非水溶液电沉积铝2005
研究非水溶液电解法制备金属铝。电解质溶液为二甲苯与无水溴化铝体系，电解液组成为AlBr3(43.7Wt％)和二甲苯，阴极电流密度为8mA/cm2，非水溶液电解法制备金属铝的电流效率达到97.5％，镀层均匀、层面致密。
(1)通过正交实验确定了合成无水AlBr3的最佳反应条件并制备和提纯了无水AlBr3。其中原料配比影响最大，反应温度次之，反应时间影响最小。确定其最佳反应条件为：原料配比为1/2，反应温度为40℃，反应时间为2小时。
(2)研究了无水溴化铝在苯、甲苯、二甲苯和乙苯中的电导行为，用线性拟合的方法求得25℃下溴化铝在苯、甲苯、二甲苯和乙苯溶液中的摩尔电导率，分别为74.5、264.5、265.4、261.5S.cm2.mol-1，并对溴化铝-芳香烃溶液的电导率随温度变化情况进行了研究。结果表明溴化铝在苯、甲苯、二甲苯和乙苯溶液中表现出强电解质的性质。
(3)研究了无水溴化铝在苯、甲苯、二甲苯和乙苯中的极化曲线，阴极电流密度在200-500A.m-2范围内，在相同的过电位下二甲苯和乙苯的极化速率比苯和甲苯溶液的低。可见在二甲苯和乙苯溶液中铝沉积是主要的阴极反应，在苯和甲苯溶液中主要是由于析氢过程和组成电解液的有机物质减少造成。而乙苯在温度超过60℃时，发生岐化反应。因此，苯和甲苯溶剂不能作为铝沉积溶剂，从极化曲线的分析我们选择了二甲苯作为铝沉积的溶剂。
(4)电流密度与阴极电流效率有着密切关系。当电流密度小于7mA/cm2时，阴极电流效率能够达到97％以上，相对的铝沉积层晶粒粗大且分布均匀。电流密度过大时，阴极电流效率降低、铝沉积层致密并产生枝晶现象。电解时间、电极极距都影响电解沉积层质量和阴极电流效率。随着电解时间的延长，阴极电流效率降低，晶粒尺寸增大。如果电流密度为10mA/cm2，当电解时间大于4小时后开始出现枝晶现象。电子显微镜分析表明：随着电流密度的增加，沉积层粒度逐渐变小，同时沉积致密性也逐渐增加。
(5)电解过程中，槽电压呈曲线变化。槽电压稳态值与电流密度呈规律性变化，随着电流密度的增加而逐渐增大。
5.期刊论文范春华.李冰.江卢山.FAN Chun-hua.LI Bing.JIANG Lu-shan室温氯化铝-有机熔盐电沉积铝的研究进
展-材料保护2007,40(10)
介绍了室温有机氯化铝熔盐中铝电沉积的研究发展状况,分析了铝在不同室温熔盐中的电沉积机理;着重介绍了铝在有机烷基吡啶、烷基咪唑啉、三甲基苯胺氯化物、苄基三甲基氯化铵有机烷盐中的电沉积情况;介绍了这些熔盐的理化性质、铝电沉积时的电流密度、电流效率和沉积层的厚度以及这些熔盐在工业生产应用中的利弊.
6.期刊论文孙淑萍.李东春铝在室温熔盐中的电沉积-轻合金加工技术2003,31(11)
介绍了在室温熔盐中铝的电沉积.着重介绍了在卤化铝、有机烷基吡啶铝、烷基咪唑鎓盐铝、三甲基苯胺氯化物等熔盐中铝的电沉积情况;介绍了熔盐的组成、铝电沉积时的电流密度、电流效率和沉积层的厚度等;在室温熔盐中铝的电沉积机理以及在工业生产中的应用前景.
7.学位论文涂抚洲铝上电镀和非晶态Ni-P、Ni-Fe-P、Ni-W-P合金电沉积的工艺及理论研究1999
该文研究了非晶态Ni-P、Ni-Fe-P、Ni-W-P合金电沉积以及铝上电镀的工艺和理论,主要包括以下一些内容:非晶态Ni-P合金电沉积的研究表明,Ni-
P合金的非晶态结构主要是由合金中的磷含量决定的,当合金中的磷由无到有不断增加时,镀层的结构按晶体--微晶--非晶态的规律变化;非晶态Ni-P合金具有优良的耐蚀性,其耐蚀的原因是合金中镍和磷原子间形成了类似于Ni<,3>P的稳定结构.工艺条件试验结果表明,溶液的pH和H<,3>PO<,3>浓度对非晶态Ni-P合金电沉积的影响最大,在电沉积过程中溶液的pH非常不稳定,从而导致镀层质量变坏甚至使电镀过程不能进行.可溶性阳极(镍)和各种不溶性阳极(如钛、铅、不锈钢、石墨、铂金、DSA等)实验表明,DSA和Ni混合阳极既实用又经济,可长期保持镀液和镀层在Ni-P合金电沉积过程中的稳定,是非晶态Ni-P合金电沉积应用于工业化生产的一种有效措施.Ni-P电沉积液中加入一定量的混合配合剂,可大大增强Ni-P合金电沉积的分散能力.
8.会议论文朱洪平碳纤维电沉积铜解决碳纤维／铝复合材料界面问题1994
碳纤维／铝复合材料界面相容性差，界面反应生成Ａｌ<,4>Ｃ<,3>。为此采用连续三步电沉积法对碳纤维电沉积铜获得碳／铜复合丝，使界面结合强度得到改善。该文对碳纤维／铝复合材料界面问题及连续三步电沉积工艺，作了初步分析讨论。
9.学位论文陈彦含饱和LaCl<,3>（NdCl<,3>）-AlCl<,3>-EMIC离子液体中电沉积铝的研究2008
本文制备了AlCl3-EMIC(摩尔比2：1)、含有饱和LaCl3-AlCl3-EMIC以及含有饱和NdCl3-AlCl3-EMIC三种离子液体，在三种体系中，研究铝的还原机理和形核机理，分析LaCl3和NdCl3的加入对电沉积铝镀层的影响。
利用循环伏安法和计时电流法分析铝在三种体系中的阴极反应过程和形核机理。研究表明：LaCl3和NdCl3的加入使得铝的还原电位负移；三种体系中铝的阴极反应都是准可逆的；在钨电极上均是三维瞬时成核，成半球状生长。
采用SEM、XRD、EDS和ICP对镀层进行分析，结果表明：镀层为高纯度的铝；随着电流密度的增大，Al呈现(200)面择优生长：通过ICP检测计算到
Al和La的相对含量为1000：1，Al和Nd的相对含量为1000：2.76；随着电流密度的增大，颗粒逐渐减小，更优越的镀层颗粒形状为米粒状，大小在
0.51μm左右。
在含有饱和LaCl3-AlCl3-EMIC离子液体中，利用直流电源，在室温和60℃下分别进行电沉积实验。结果表明：当电流密度为10mA/cm2～14mA/cm2时可获得银白色、致密、有会属光泽的镀层。在60℃时，电流密度为15mA/cm2～30mA/cm2时可获得银灰色、致密无光泽的镀层。
在含有饱和INdCl3-AlCl3-EMIC离子液体中，进行直流电沉积和脉冲电沉积，着重研究了三个脉冲参数对铝沉积层的影响。研究表明：采用脉冲电沉积可以有效地减少孔隙。当ton/toff=8：2，f=100Hz，i=15mA/cm2时可以获得颗粒呈米粒状，大小在0.5μm左右，无孔隙，致密光滑有金属光泽的镀层。
10.期刊论文张欣.张丽鹏.于先进.ZHANG Xin.ZHANG Li-peng.YU Xian-jin室温离子液体电沉积铝及其合金的研
究进展-中国有色冶金2009,""(2)
介绍了室温离子液体电沉积铝及其合金的研究现状,讨论了铝在吡啶盐类、季铵盐类和咪唑盐类离子液体中电沉积的电化学行为,探讨了铝舍金在离子液体中的电沉积.
引证文献(3条)
1.苏立峰.李亚琼.吴开基.殷韧.郭之号.翟秀静.符岩.李斌川离子液体1-丁基-3-甲基咪唑-氯铝酸盐体系的电化学
研究[期刊论文]-材料与冶金学报 2009(2)
2.李岩.凌国平.刘柯钊.陈长安.张桂凯热处理对201不锈钢与铝镀层界面组织转变的影响[期刊论文]-材料科学与工程学报 2009(3)
3.田国才.李坚.华一新离子液体在有色金属冶金中的应用[期刊论文]-过程工程学报 2009(1)
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