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电镀与其他镀的区别

电镀与其他镀的区别
电镀与其他镀的区别

1.目前镀锌与发蓝两种防锈功能比较强?那种成本比较低?

钢制件的表面发黑处理,也有被称之为发蓝的。发黑处理现在常用的方法有传统的碱性加温发黑和出现较晚的常温发黑两种。但常温发黑工艺对于低碳钢的效果不太好。A3钢用碱性发黑好一些。碱性发黑细分出来,又有一次发黑和两次发黑的区别。发黑液的主要成分是氢氧化钠和亚硝酸钠。发黑时所需温度的宽容度较大,大概在135摄氏度到155摄氏度之间都可以得到不错的表面,只是所需时间有些长短而已。实际操作中,需要注意的是工件发黑前除锈和除油的质量,以及发黑后的钝化浸油。发黑质量的好坏往往因这些工序而变化金属“发蓝”药液采用碱性氧化法或酸性氧化法;使金属表面形成一层氧化膜,以防止金属表面被腐蚀,此处理过程称为“发蓝”。黑色金属表面经“发蓝”处理后所形成的氧化膜,其外层主要是四氧化三铁,内层为氧化亚铁。

(1)金属表面务必洗净和干燥以后,才能进行“发篮”处理。

(2)金属器件进行“发蓝”处理条件与金属中的含碳量有关。

(3)每隔一星期左右按期分析溶液中硝酸钠、亚硝酸钠和氢氧化钠的含量,以便及时补充有关成分。一般使用半年后就应更换全部溶液。

(4)金属“发蓝”处理后,最好用热肥皂水漂洗数分钟,再用冷水冲洗。然后,又用热水冲洗,吹干。

钢铁零件的表面进行发蓝处理,就能大大增强抗蚀能力,延长使用寿命。像武器、弹簧、钢丝等常用此法。基本原理是铁在含有氧化剂和苛性钠的混合溶液中,一定温度下经一定时间后,反应生成亚铁酸钠(Na2FeO2)和铁酸钠(Na2Fe2O4),亚铁酸钠与铁酸钠又相互作用生成四氧化三铁氧化膜。

但传统的常温发蓝工艺存在着附着力和耐磨性差的缺点。

锌镀层对铁基体既有机械保护作用,又有电化学保护作用,抗腐蚀性能良好。

镀锌工艺:分热镀锌、冷镀锌等,而且现在还要无氰化物镀锌。而且镀锌废水处理是个问题。

电镀锌:就是利用电解,在制件表面形成均匀、致密、结合良好的金属或合金沉积层的过程。

与其他金属相比,锌是相对便宜而又易镀覆的一种金属,属低值防蚀电镀层。被广泛用于保护钢铁件,特别是防止大气腐蚀,并用于装饰。镀覆技术包括槽镀(或挂镀)、滚镀(适合小零件)、自动镀和连续镀(适合线材、带材)。

目前,国内按电镀溶液分类,可分为四大类:

1.氰化物镀锌:

由于(CN)属剧毒,所以环境保护对电镀锌中使用氰化物提出了严格限制,不断促进减少氰化物和取代氰化物电镀锌镀液体系的发展,要求使用低氰(微氰)电镀液。

采用此工艺电镀后,产品质量好,特别是彩镀,经钝化后色彩保持好。

2.锌酸盐镀锌:

此工艺是由氰化物镀锌演化而来的。目前国内形成两大派系,分别为: a) 武汉材保所的”DPE”系列;b) 广电所的”DE”系列。都属于碱性添加剂的锌酸盐镀锌;PH值为12.5~13。

采用此工艺,镀层晶格结构为柱状,耐腐蚀性好,适合彩色镀锌。

注意:产品出槽后—>水洗—>出光(硝酸+盐酸) —>水洗—>钝化—>水洗—>水洗—>烫干—>烘干—>老化处理(烘箱内80~90oC。

3.氯化物镀锌

此工艺在电镀行业应用比较广泛,所占比例高达40%。

钝化后(兰白)可以锌代铬(与镀铬相媲美),特别是在外加水溶性清漆后,外行人是很难辩认出是镀锌还是镀铬的。

此工艺适合于白色钝化(兰白,银白)。

4.硫酸盐镀锌

此工艺适合于连续镀(线材、带材、简单、粗大型零、部件)。成本低廉。

2.什么是真空电镀,都有那些工序。

问:真空电镀和其它的电镀有什么大的曲别。

湿法工艺:

1.化学浸镀

2.电镀

3.喷导电涂料

干法工艺

1.真空蒸镀

2.阴极溅镀

3.离子镀

4.烫金

5.熔融喷镀

真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。

加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。

在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进行调整。此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。

置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。

在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低( 10-5Pa )。

镀层厚度0.04-0.1um,太薄,反射率低;太厚,附着力差,易脱落。厚度0.04时反射率为90%

https://www.sodocs.net/doc/6b16644755.html,/question/11154824.html?si=3

3.如何判断内存金手指是电镀还是化学镀

内存的金手指通常有两种制造方法,电镀和化学镀。电镀金手指耐磨度和电气性能较化学镀的金手指好,电镀的薄20微米左右,不过肉眼很难看得出。电镀的金手指在末端会有一个“小辫子”(这是生产工艺造成,电镀必须要各金手指是导通的,电镀完后再分板将导通线切断)。

4.电镀于化学镀的差别!

问:电镀于化学镀的差别!

答:通常的置换镀金(IG)液能够腐蚀化学镀镍(EN)层,其结果是形成置换金层,并将磷残留在化学镀镍层表面,使EN/IG两层之间容易形成黑色(焊)区(Black pad),它在焊接时常造成焊接不牢(Solder Joint Failure)金层利落(Peeling)。延长镀金的时间虽可得加较厚的金层,但金层的结合力和键合性能迅速下降。本文比较了各种印制板镀金工艺组合的钎焊性和键合功能,探讨了形成黑色焊区的条件与机理,同时发现用中性化学镀金是解决印制板化学镀镍/置换镀金时出现黑色焊区问题的有效方法,也是取代电镀镍/电镀软金工艺用于金线键合(Gold Wire Bonding)的有效工艺。

一引言

随着电子设备的线路设计越来越复杂,线路密度越来越高,分离的线路和键合点也越来越多,许多复杂的印制板要求它的最后表面化处理(Final Surface Finishing)工艺具有更多的功能。即制造工艺不仅可制成线更细,孔更小,焊区更平的镀层,而且所形成的镀层必须是可焊的、可键合的、长寿的,并具有低的接触电阻。[1]

目前适于金线键合的镀金工艺是电镀镍/电镀软金工艺,它不仅镀层软,纯度高(最高可达99.99%),而且具有优良的钎焊性和金线键合功能。遗憾的是它属于电镀型,不能用于非导通线路的印制板,而要将多层板的所有线路光导通,然后再复原,这需要花大量的人力和物力,有时几乎是不可能实现的。[2]另外电镀金层的厚度会随电镀时的电流密度而异,为保证最低电流处的厚度,电流密度高处的镀层就要超过所要求的厚度,这不仅提高了成本,也为随后的表面安装带来麻烦。

化学镀镍/置换镀金工艺是全化学镀工艺,它可用于非导通线路的印制板。这种镀层组合的钎焊性优良,但它只适于铝线键合而不适于金线键合。通常的置换镀金液是弱酸性的,它能腐蚀化学镀镍磷层(Ni2P)而形成置换镀金层,并将磷残留在化学镀镍层表面,形成黑色(焊)区(Black pad),它在焊接焊常造成焊接不牢(Solder Joint Failure)或金层脱落(Peeling)。试图通过延长镀金时间,提高金层厚度来解决这些问题,结果反而使金层的结合力和键合功能明显下降。[3]

化学镀镍/化学镀钯/置换镀金工艺也是全化学镀工艺,可用于非导通线路的印制板,而且键合功能优良,然而钎焊性并不十分好。开发这一新工艺的早期目的是用价廉的钯代替金,然而近年来钯价猛涨,已达金价的3倍多,因此应用会越来越少。

化学镀金是和还原剂使金络离子直接被还原为金属金,它并非通过腐蚀化学镀镍磷合金层来沉积金。因此用化学镀镍/化学镀金工艺来取代化学镀镍/置换镀金工艺,就可以从根本上消除因置换反应而引起的黑色(焊)区问题。然而普通的市

售化学镀金液大都是酸性的(PH4-6),因此它仍存在腐蚀化学镀镍磷合金的反应。只有中性化学镀金才可避免置换反应。实验结果表明,若用化学镀镍/中性化学镀金或化学镀镍/置换镀金(<1min)/中性化学镀金工艺,就可以获得既无黑色焊区侍猓志哂杏帕嫉那ズ感院吐痢⒔鹣呒瞎δ艿亩撇悖视贑OB

(Chip-on-Board)、BGA(Ball Grid Arrays)、MCM(Multi-Chip Modules)和CSP(Chip Scale Packages)等高难度印制板的制造。

自催化的化学镀金工艺已进行了许多研究,大致可分为有氰的和无氰的两类。无氰镀液的成本较高,而且镀液并不十分稳定。因此我们开发了一种以氰化金钾为金盐的中性化学镀金工艺,并申请了专利。本文主要介绍中性化学镀金工艺与其它咱镀金工艺组合的钎焊性和键合功能。

二实验

1 键合性能测试(Bonding Tests)

键合性能测试是在AB306B型ASM装配自动热声键合机(ASM Assembly Automation Thermosonic Bonding Machine )上进行。金线的一端被键合到金球上,称为球键(Ball Bond)。金线的另一端则被键合到金焊区(Gold pad),称为楔形链(Wedge Bond),然后用金属挂钩钩住金线并用力向上拉,直至金线断裂并自动记下拉断时的拉力。若断裂在球键或楔形键上,表示键合不合格。若是金线本身被拉断,则表示键合良好,而拉断金线所需的平均拉力(Average Pull Force )越大,表示键合强度越高。

在本实验中,金球键的键合参数是:时间45ms、超声能量设定55、力55g;而楔形键的键合参数是:时间25ms、超声能量设定180、力155。两处键合的操作温度为140℃,金线直径32μm(1.25mil)。

2 钎焊性测试(Solderability Testing)

钎焊性测试是在DAGE-BT 2400PC型焊料球剪切试验机(Millice Solder Ball Shear Test Machine)上进行。先在焊接点上涂上助焊剂,再放上直径0.5mm

的焊料球,然后送入重熔(Reflow)机上受热焊牢,最后将机器的剪切臂靠到焊料球上,用力向后推挤焊料球,直至焊料球被推离焊料接点,机器会自动记录推开焊料球所需的剪切力。所需剪切力越大,表示焊接越牢。

3 扫描电镜(SEM)和X-射线电子衍射能量分析(EDX)

用JSM-5310LV型JOEL扫描电镜来分析镀层的表面结构及剖面(Cross Section)结构,从金/镍间的剖面结构可以判断是否存在黑带(Black band)或黑牙(Black Teeth)等问题。EDX可以分析镀层中各组成光素的相对百分含量。

三结果与讨论

1 在化学镀镍/置换镀金层之间黑带的形成

将化学镀镍的印制板浸入弱酸性置换镀金液中,置换金层将在化学镀镍层表面形成。若小心将置换金层剥掉,就会发现界面上有一层黑色的镍层,而在此黑色镍层的下方,仍然存在未变黑的化学镀镍层。有时黑色镍层会深入到正常镀镍层的深处,若这层深处的黑色镍层呈带状,人们称之为“黑带”(Black band),黑带区磷含量高达12.84%,而在政党化学镀镍区磷含量只有8.02%。在黑带上的金层很容易被胶带粘住而剥落(Peeling)。有时腐蚀形成的黑色镍层呈牙状,人们称之为“黑牙”(Black teeth)。

为何在形成置换金层的同时会形成黑色镍层呢?这要从置换反应的机理来解释。大家知道,化学镀镍层实际上是镍磷合金镀层(Ni2P)。在弱酸性环境中它与金液中的金氰络离子发生下列反应:

Ni2P+4[Au(CN)2]― →4Au+2[Ni(CN)4]2―+P

结果是金层的形成和镍磷合金被金被腐蚀,其中镍变成氰合镍络离子(Ni(CN)4)2―,而磷则残留在表面。磷的残留将使化学镀镍层变黑,并使表面磷含量升高。为了重现这一现象,我们也发现若将化学镀镍层浸入其它强腐蚀(Microetch)溶液中,它也同样变黑。EDX分析表明,表面层的镍含量由78.8%下降至48.4%,而磷的含量则由8.56%上升到13.14%。

2 黑色(焊)区对钎焊性和键合功能的影响

在焊接过程中,金和正常镍磷合金镀层均可以熔入焊料之中,但残留在黑色镍层表面的磷却不能迁移到金层并与焊料熔合。当大量黑色镍层存在时,其表面对焊料的润湿大为减低,使焊接强度大大减弱。此外,由于置换镀金层的纯度与厚度(约0.1μm都很低。因此它最适于铝线键合,而不能用于金线键合。

3置换镀金液的PH值对化学镀镍层腐蚀的影响

无电(解)镀金可通过两种途径得到:

1)通过置换反应的置换镀金(Immtrsion Gold, IG)

2)通过化学还原反应的化学镀金(Electroless Gold,EG)

置换镀金是通过化学镀镍磷层同镀金液中的金氰络离子的直接置换反应而施现Ni2P+4[Au(CN)2]―→4Au+2[Ni(CN)4]2―+P

如前所述,反应的结果是金的沉积镍的溶解,不反应的磷则残留在化学镀镍层的表面,并在金/镍界面上形成黑区(黑带、黑牙…等形状)。

另一方面,化学镀金层是通过金氰络离子接被次磷酸根还原而形成的

2[Au(CN)2]―+H2PO―2 +H2O→2Au +A2PO―3 +4CN―+H2↑

反应的结果是金离子被还为金属金,而还原剂次磷酸根被氧化为亚磷酸根。因此,这与反应并不涉及到化学镀镍磷合金的腐蚀或磷的残留,也就不会有黑区问题。表1用SEM剖面分析来检测各种EN/金组合的黑带与腐蚀

结果表明,黑带(Black Band)或黑区(Black pad)问题主要取决于镀金溶液的PH值。PH值越低,它对化学镀镍层的腐蚀越快,也越容易形成黑带。若用一步中性化学镀金(EN/EG-1)或两步中性化学镀金(EN/EG-1/EG-2),就不再观察到腐蚀或黑带,也就不会出现焊接不牢的问题。

4各种印制板镀金工艺组合的钎焊性比较

表2是用焊料球剪切试验法(Solder Ball Shear Test)测定各种印制板镀金工艺组合所得镀层钎焊性的结果。表中的断裂模式(Failure mode)1表木焊料从金焊点(Gold pad)处断裂;断裂模式2表示断裂发生在焊球本身。

表2各种印制板镀金工艺组合所得镀层的钎焊性比较

表2的结果表明,电镀镍/电镀软金具有最高的剪切强度(1370g)或最牢的焊接。化学镀镍/中性化学镀金/中性化学镀金也显示非常好的剪切强度要大于800g。5各种印制板镀金工艺组合的金线键合功能比较

表3是用ASM装配自动热声键合机测定各种印制板镀金工艺组合所得镀层的金线键合测试结果。

表3各种印制板镀金工艺组合所得镀层的金线键合测试结果

由表3可见,传统的化学镀镍/置换镀金方法所得的镀层组合,有8个点断裂在金球键(Ball Bond)处,有2个点断裂在楔形键(Wedge Bond)或印制的镀金焊点上(Gold Pad),而良好的键合是不允许有一点断裂在球键与楔形键处。这说明化学镀镍/置换镀金工艺是不能用于金线键合。化学镀镍/中性化学镀金/中性化学镀金工艺所得镀层的键合功能是优良的,它与化学镀镍/化学镀钯/置换镀

金以及电镀镍/电镀金的键合性能相当。我们认出这是因为化学镀金层有较高的纯度(磷不合共沉积)和较低硬度(98VHN25)的缘故。

6化学镀金层的厚度对金线键合功能的影响

良好的金线键合要求镀金层有一定的厚度。为此我们有各性化学镀金方法分别镀取0.2至0.68μm厚的金层,然后测定其键合性能。表4列出了不同金层厚度时所得的平均拉力(Average Pull Force)和断裂模式(Failure Mode)。

表4化学镀金层的厚度对金线键合功能的影响

由表4可见,当化学镀金层厚度在0.2μm时,断裂有时会出现在楔形键上,有时在金线上,这表明0.2μm厚度时的金线键合功能是很差的。当金层厚度达0.25μm以上时,断裂均在金线上,拉断金线所需的平均拉力也很高,说明此时的键合功能已很好。在实际应用时,我们控制化学镀金层的厚度在0.5-0.6μm,可比电镀软金0.6-0.7μm略低,这是因为化学镀金的平整度比电镀金的好,它不受电流分布的影响。

四结论

1 用中性化学镀金取代弱酸性置换镀金时,它可以避免化学镀镍层的腐蚀,从而根本上消除了在化学镀镍/置换镀金层界面上出现黑色焊区或黑带的问题。

2 金厚度在0.25至0.50μm的化学镀镍/中性化学镀金层同时具有优良的钎焊性和金线键合功能,因此它是理想的电镀镍/电镀金的替代工艺,适于细线、高密度印制板使用。

3 电镀镍/电镀金工艺不适于电路来导通的印制板,而中性化学镀金无此限制,因而具有广阔的应用前景。

5.热镀和电镀

问:如何区分电镀和热镀产品,从外观,或厚度,或性能

答:1.电镀层均匀,厚度很薄;热镀层较厚,厚度不均匀。

2.电镀外观光亮,热镀颜色较暗。

3.电镀层因为较薄,耐蚀性较差。热镀层因为较厚,而且与基体金属形成渗入层,耐蚀性好

化学镀和电镀的知识点电镀镍与化学镀镍的区别

化学镀和电镀的知识点电镀镍与化学镀镍的区别 化学镀和电镀的知识点电镀镍与化学镀镍的区别 (2012-05-21 09:46:29) 转载▼ 化学镀和电镀的知识点电镀镍与化学镀镍的区别 1. 化学镀镍层是极为均匀的,只要镀液能浸泡得到,溶质交换充分,镀层就会非常均匀,几乎可以达到仿形的效果。 2. 化学镀目前市场上只有纯镍磷合金的一种颜色,而电镀可以实现很多色彩。 3. 化学镀是依靠在金属表面所发生的自催化反应,化学镀与电镀从原理上的区别就是电镀需要外加的电流和阳极。 4. 化学镀过以对任何形状工件施镀,但电镀无法对一些形状复杂的工件进行全表面施镀。 5. 电镀因为有外加的电流,所以镀速要比化学镀快得我,同等厚度的镀层电镀要比化学镀提前完成。 6. 高磷的化学镀镍层为非晶态,镀层表面没有任何晶体间隙,而电镀层为典型的晶态镀层。 7. 化学镀层的结合力要普遍高于电镀层。 8. 化学镀由于大部分使用食品级的添加剂,不使用诸如氰化

物等有害物质,所以化学镀比电镀要环保一些。关于化学镀镍层的工艺特点 1. 厚度均匀性 厚度均匀和均镀能力好是化学镀镍的一大特点,也是应用广泛的原因之一,化学镀镍避免了电镀层由于电流分布不均匀而带来的厚度不均匀,电镀层的厚度在整个零件,尤其是形状复杂的零件上差异很大,在零件的边角和离阳极近的部位,镀层较厚,而在内表面或离阳极远的地方镀层很薄,甚至镀不到,采用化学镀可避免电镀的这一不足。化学镀时,只要零件表面和镀液接触,镀液中消耗的成份能及时得到补充,任何部位的镀层厚度都基本相同,即使凹槽、缝隙、盲孔也是如此。 2. 不存在氢脆的问题 电镀是利用电源能将镍阳离子转换成金属镍沉积到阳极上,用化学还原的方法是使镍阳离子还原成金属镍并沉积在基 体金属表面上,试验表明,镀层中氢的夹入与化学还原反应无关,而与电镀条件有很大关系,通常镀层中的含氢量随电流密度的增加而上升。3. 很多材料和零部件的功能如耐蚀、抗高温氧化性等均是由材料和零部件的表面层体现出来,在一般情况下可以采用某些具有特殊功能的化学镀镍层取代 用其他方法制备的整体实心材料,也可以用廉价的基体材料化学镀镍代替有贵重原材料制造的零部件,因此,化学镀镍

塑胶电镀中真空电镀的做法

塑胶电镀中真空电镀的做法 常见的塑胶电镀工艺有两种:水电镀和真空离子镀. 真空离子镀,又称真空镀膜.真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法,做出来的产品金属感强,亮度高.而相对其他的镀膜法来说,成本较低,对环境的污染小,现在为各行业广泛采用. 真空电镀适用范围较广,如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高,单价比水电镀昂贵. 现对其工艺流程作简要介绍:产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装. 一般真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆,再做电镀.由于素材是塑料件,在注塑时会残留空气泡,有机气体,而在放置时会吸入空气中的水分. 另外,由于塑料表面不够平整,直接电镀的工件表面不光滑,光泽低,金属感差,并且会出现气泡,水泡等不良状况.喷上一层底漆以后,会形成一个光滑平整的表面,并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生,使得电镀的效果得以展现.真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊.工艺有蒸镀、溅镀、枪色等. 水电镀因工艺较简单,从设备到环境得要求均没有真空离子镀苛刻,从而被广泛应用. 但水电镀有个弱点,只能镀ABS料和ABS+PC料(此料镀的效果也不是很理想).而ABS 料耐温只有80℃,这使得它的应用范围被限制了.而真空电镀可达200℃左右,这对使用在高温的部件就可以进行电镀处理了.像风嘴、风嘴环使用PC料,这些部件均要求耐130℃的高温.另,一般要求耐高温的部件,做真空电镀都要在最后喷一层UV油,这样使得产品表面即有光泽、有耐高温、同时又保证附着力. 两种工艺的优缺点: A、简单来说,真空电镀不过UV油,其附着力很差,无法过百格TEST,而水电镀的明显好于真空电镀!因此,为保证真空电镀的附着力,均需后续进行特殊的喷涂处理,成本当然高些. B、水电镀颜色较单调,一般只有亮银和亚银等少数几种,对于闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等五花八门的七彩色就无能为力了. 而真空电镀可以解决七彩色的问题. C、水电镀一般的镀层材质采用“六价铬”,这是非环保材料.对于“六价铬”有如下的要求:欧盟: 76/769/EEC:禁止使用; 94/62/EC:<100ppm; ROHS:<1000ppm 如此严格的要求,国内一些厂家已开始尝试使用“三价铬”来替代“六价铬”;而真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合环保要求. 简单一点,就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的表面处理技术. 它有真空蒸发镀,溅射镀,离子镀等,获得这些沉积方法的途径有多种:电加热、离子束、电子束、直流溅射、磁控溅射、中频溅射、射频建设、脉冲溅射、微波增强等离子体、多弧等等很多种方法,可以根据的需求和经济技术条件考虑选用的涂层设备. 相对于传统的湿发电镀,真空电镀具有以下优点: 1.沉积材料广泛:可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属,通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层,而且可以根据需要设计涂层体系. 2.节约金属材料:由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良,沉积的镀层可以远远小于常规湿法电镀镀层,达到节约的目的. 3.无环境污染:由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面,没有溶液污染,所以对环境的危害相当小. 但是由于获得真空和等离子体的仪器设备精密昂贵,而且沉积工艺还掌握在少数技术人员手中,没有大量被推广,其投资和日常生产维护费用昂贵.但是随着社会的不断进步,真空电镀的优势会越来越明显,在某些行业取代传统的湿法电镀是大势所趋.

电镀镍与化学镀镍

电镀镍的特点、性能、用途: 1、电镀镍层在空气中的稳定性很高,由于金属镍具有很强的钝化能力,在表面能迅速生成一层极薄的钝化 膜,能抵抗大气、碱和某些酸的腐蚀。 2 、电镀镍结晶极其细小,并且具有优良的抛光性能。经抛光的镍镀层可得到镜面般的光泽外表,同时在大 气中可长期保持其光泽。所以,电镀层常用于装饰。 3、镍镀层的硬度比较高,可以提高制品表面的耐磨性,在印刷工业中常用镀镍层来提高铅表面的硬度。 由于金属镍具有较高的化学稳定性,有些化工设备也常用较厚的镇镀层,以防止被介质腐蚀。镀镍层 还广泛的应用在功能性方面,如修复被磨损、被腐蚀的零件,采用刷镀技术进行局部电镀。采用电铸 工艺,用来制造印刷行业的电铸版、唱片模以及其它模具。厚的镀镍层具有良好的耐磨性,可作为耐 磨镀层。尤其是近几年来发展了复合电镀,可沉积出夹有耐磨微粒的复合镍镀层,其硬度和耐磨性比镀 镍层更高。若以石墨或氟化石墨作为分散微粒,则获得的镍-石墨或镍-氟化石墨复合镀层就具有很好的 自润滑性,可用作为润滑镀层。黑镍镀层作为光学仪器的镀覆或装饰镀覆层亦都有着广泛的应用。 4、镀镍的应用面很广,可作为防护装饰性镀层,在钢铁、锌压铸件、铝合金及铜合金表面上,保护基体材 料不受腐蚀或起光亮装饰作用;也常作为其他镀层的中间镀层,在其上再镀一薄层铬,或镀一层仿金层, 其抗蚀性更好,外观更美。在功能性应用方面,在特殊行业的零件上镀镍约1~3mm厚,可达到修复目

的。特别是在连续铸造结晶器、电子元件表面的模具、合金的压铸模具、形状复杂的宇航发动机 部件和微型电子元件的制造等方应用越来越广泛。 5、在电镀中,由于电镀镍具有很多优异性能,其加工量仅次于电镀锌而居第二位,其消耗量占到镍总产量 的10%左右。 化学镀镍的特点、性能、用途: 1、厚度均匀性厚度均匀和均镀能力好是化学镀镍的一大特点,也是应用广泛的原因之一,化学镀镍避 免了电镀层由于电流分布不均匀而带来的厚度不均匀。化学镀时,只要零件表面和镀液接触,镀液中消 耗的成份能及时得到补充,镀件部位的镀层厚度都基本相同,即使凹槽、缝隙、盲孔也是如此。 2、镀件不会渗氢,没有氢脆,化学镀镍后不需要除氢。 3、很多材料和零部件的功能如耐蚀、抗高温氧化性等比电镀镍好。 4、可沉积在各种材料的表面上,例如:钢镍基合金、锌基合金、铝合金、玻璃、陶瓷、塑料、半导体等材 料的表面上,从而为提高这些材料的性能创造了条件。 5、不需要一般电镀所需的直流电机或控制设备。 6、热处理温度低,只要在400℃以下经不同保温时间后,可得到不同的耐蚀性和耐磨性,因此,特别适用 于形状复杂,表面要求耐磨和耐蚀的零部件的功能性镀层等

电镀、水镀、真空镀

电镀的种类有很多种: 1.化学镀:在水溶液中不依赖外加电源,仅靠镀液中的还原剂进行化学还原反应,使金属离子不断还原在自催化表面上,形成金属镀层的工艺方法。$}6fD1Jj/N d[https://www.sodocs.net/doc/6b16644755.html, :^3MO.U&PiCAx开思论坛2.电解电镀:利用电解在制件表面形成均匀,致密,结合良好的金属或是合金沉积层的过程,这种工艺过程比较烦杂,但是有很多优点,例如沉积的金属类型多,可以得到的颜色很多,相比类同工艺而言价格比较低。单金属电镀主要有:电镀钛,锌,铜,镍,铬,金,锡,银等;电镀合金有:锌合金,锡合金铜合金等。在塑胶上电镀主要有:铜,镍,铬,金,黑镍,珍珠镍,珍珠铬,珍珠金等。CAD/CAM/CAE综合资讯网站论坛y G3X9uwofY 3. 电铸:通过电解是金属沉积在铸模上制造或复制金属制品(能将铸模和金属沉积物分开的过程)。这种处理方式是我们在要求最后的制件有特殊表面效果如清晰明显的抛光与蚀纹分割线,一般采用铜材质做一个部件的形状后,通过电镀的工艺手段将合金沉积在其表面,通常趁机厚度是几十毫米,之后将型腔切开,分别镶拼到模具型腔中,注塑塑件。真空电镀: 湿法工艺:1.化学浸镀2.电镀3.喷导电涂料干法工艺1.真空蒸镀2.阴极溅镀3.离子镀4.烫金5.熔融喷镀真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进行调整。此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。镭雕是表面处理一种工艺,和网印移印相似,都是在产品上印字或图案之类的,工艺不同,价格有异,在此我说说镭雕的原理和注意事项镭雕也叫激光雕刻,是一种用光学原理进行表面处理的工艺,手机和电子词典的按键上用的多,我以前做过的产品有用过,简单一点的讲是这样的:比如说我要做一个键盘,他上面有字,字有蓝色,绿色,红色和灰色,键体是白色,激光雕刻时,先喷油,蓝字,绿字,红字,灰字各喷相应的颜色,注意不要喷到别的键上,这样看上去就有蓝键,绿键等键了,再整体喷一层白色,这样就是一整块白键盘了,各蓝绿都被包在下面了。此时就可以进行激光雕刻了,利用激光技术和ID出的按键图做成的菲林,雕掉上面白色油,比如加工字母"A",雕掉笔划上的白色,则下的或蓝或绿就露出来了,这样就形了各种颜色的字母按键了同时如果要透光的,就用PC或PMMA,喷一层油,雕掉字体部分,则下面有光的话就透出来了,只不过这时要考虑各种油的粘附性能,不要油喷上去一刮就掉了,那可就太丢咋中国人的脸了!因为各颜色键要喷不同的油,所以做结构时要考虑到这一点,各键要分开点,以免喷到不必要的地方,也有损耗大的地方不如做两个或多个,这样可以有多个可以配套。各颜色的色差要大一点,最大的比如说黑白,这样机器容易分辨,也雕得干净,以免雕而不净,影响外观品质,还有各不同色的字体不要靠的太近,因为要喷不同颜色的,你红色和绿色靠的那么近我怎么喷油,神仙也难办!镭雕所需油漆与普通塑壳喷漆的构成成分不同,称为双叶漆,质地较软,适于雕刻,另外,喷涂外观漆之前要在原材料表面喷涂一层黑色,否则很多颜色没办法雕掉硅橡胶(ABS)按键激光镭雕加工(工艺说明) 置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低(10-5Pa )。镀层厚度0.04-0.1um,太薄,反射率低;太厚,附着力差,易脱落。厚度0.04时反射率为90% 真空离子镀,又称真空镀膜.真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法,做出来的产品金属感强,亮度高.而相对其他的镀膜法来说,成本较低,对环境的污染小,现在为各行业广泛采用.真空电镀适用范围较广,如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高,单价比水电镀昂贵.现对其工艺流程作简要介绍:产品表面清洁--〉去静

真空电镀与水电镀对比优缺点

真空电镀与水电镀对比优缺点: 真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊.工艺有蒸镀、溅镀、枪色等。真空离子镀,又称真空镀膜.真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法,做出来的产品金属感强,亮度高.而相对其他的镀膜法来说,成本较低,对环境的污染小,现在为各行业广泛采用。 水电镀因工艺较简单,从设备到环境得要求均?有真空离子镀苛刻,从而被广泛应用.但水电镀有个弱点,只能镀ABS料和ABS+PC料(此料镀的效果也不是很理想)。而ABS 料耐温只有80℃,这使得它的应用范Χ被限制了。而真空电镀可达200℃左右,这对使用在高温的部件就可以进行电镀处理了。像风嘴、风嘴环使用PC料,这些部件均要求耐130℃的高温。一般要求耐高温的部件,做真空电镀都要在最后喷一层UV油,这样使得产品表面即有光泽、有耐高温、同时又保证附着力。 两种工艺的优缺点: A、水电镀一般的镀层材质采用“六价铬”,这是非环保材料.对于“六价铬”有如下的要求:欧盟:ROHS:<1000ppm;76/769/EEC:禁止使用;94/62/EC:<100ppm。如此严格的要求,国内一些厂家已开始尝试使用“三价铬”来替代“六价铬”;而真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合环保要求。 简单一点,就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的表面处理技术。它有真空蒸发镀,溅射镀,离子镀等,获得这些沉积方法的途径有多种:电加热、离子束、电子束、直流溅射、磁控溅射、中频溅射、射频建设、脉冲溅射、微波增强等离子体、多弧等等很多种方法,可以根据的需求和经济技术条件考虑选用的涂层设备 B、简单来说,真空电镀不过UV油,其附着力很差,无法过百格TEST,而水电镀的明显好于真空电镀!因此,为保证真空电镀的附着力,均需后续进行特殊的喷涂处理,成本当然高些。 C、水电镀颜色较单调,一般只有亮银和亚银等少数几种,对于闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等五花八门的七彩色就无能为力了。而真空电镀可以解决七彩色的问题。

电镀:水镀、溅镀、蒸镀的区别

电镀:水镀、溅镀、蒸镀的区别 电镀一般可分为以下几种: 1、蒸镀:表面附着; 2、溅镀:表面交换; 3、水镀:分子结合。 蒸镀和溅镀都是采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜,通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的突出优点。真空蒸镀法是在高真空下为金属加热,使其熔融、蒸发,冷却后在样品表面形成金属薄膜的方法,蒸镀用金属为Al、金等。 想知道下这几种不同的电镀方法,在导电性能方面的区别是什么吗? 一般的电镀,就是指水镀,水镀是导电的,真空镀现在有不连续镀膜可以不导电表面附着力及耐磨性能怎么样呢?因为电镀一般是用作表面(外观面),溅镀主要是做内表面(防EMI,也有为小键做表面处理的,像一些按键)相对而言水电镀的膜厚比较厚一点大约在 0.01-0.02MM左右,真空溅镀的膜厚在0.005MM左右,电镀的耐磨性和附着力都相对好一些。 真空溅镀 主要主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很

多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面,这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。一般来说,利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点: (1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。 (2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。 (3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体,可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。 (4)靶材输入电流及溅射时间可以控制,容易得到高精度的膜厚。 (5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。 (6)溅射粒子几不受重力影响,靶材与基板位置可自由安排。 (7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上,且由于溅射粒子带有高能量,在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜,同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。 (8)薄膜形成初期成核密度高,可生产10nm以下的极薄连续膜。 (9)靶材的寿命长,可长时间自动化连续生产。 (10)靶材可制作成各种形状,配合机台的特殊设计做更好的控制及最有效率的生产。水镀的镀层厚度比真空镀厚,耐磨性也比真镀好。

真空电镀及工艺流程知识交流

真空电镀及工艺流程 人生-工作学习 2009-07-14 21:51 阅读80 评论2 字号:大中小 湿法工艺: 1.化学浸镀 2.电镀 3.喷导电涂料 干法工艺 1.真空蒸镀 2.阴极溅镀 3.离子镀 4.烫金 5.熔融喷镀 真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常 用的金属是铝等低熔点金属。 加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。 在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进行调整。 此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。 置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到 冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。 在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的活性 分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通 常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则 要求压力更低(10-5Pa )。 镀层厚度0.04-0.1um,太薄,反射率低;太厚,附着力差,易脱落。厚度0.04时反射率为90% ** 真空离子镀,又称真空镀膜.真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法,做出来的产品金属感强,亮度高.而相对其他的镀膜法来说,成本较低,对环境的污染小,现在为各行业广泛采用. 真空电镀适用范围较广,如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.同时因其工艺流程复杂、环境、设备 要求高,单价比水电镀昂贵.现对其工艺流程作简要介绍:产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆 --〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装. 一般真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆,再做电镀.由于素材是塑料件,在注塑时会残留空气泡,有机气体,而在放置时会吸入空气中的水分.另外,由于塑料表面不够平整,直接电镀的工件表面不光滑,

NCVM不导电真空电镀

NCVM不导电电镀技术 NonConductive Vacuum Metalization 不导电电镀技术又称不连续镀膜技术简称NCVM,是一种起缘普通真空电镀的高新技术。真空电镀,简称VM,是vacuumMetalization的缩写。它是指金属材料在真空条件下,运用化学和物理等特定手段进行有机转换,使金属转换成粒子,沉积或吸附在塑胶材料的表面,形成膜,也就是我们所谓的镀膜。真空不导电电镀,又称NCVM,是英文NonConductiveVacuumMetalization的缩写。它的加工工艺高于普通真空电镀,其加工制程比普通制程要复杂得多。 NCVM是采用镀出金属及绝缘化合物等薄膜,利用相互不连续之特性,得到最终外观有金属质感且不影响到无线通讯传输之效果。首先要实现不导电,满足无线通讯产品的正常使用;其次要保证“金属质感”这一重要的外观要求;最后通过UV涂料与镀膜层结合,最终保证产品的物性和耐候性,满足客户需求。NCVM可应用于各种塑料材料,如PC、PC+ABS、ABS、PMMA、NYLON、工程塑料等,它更符合制作工艺的绿色环保要求,是无铬(Non-Chrome)电镀制品的替代技术,适用于所有需要表面处理的塑料类产品,特别适用于有讯号收发的3C 产品,尤其是在天线盖附近区域,如Mobile-Phone、PDA、SmartPhone、GPS卫星导航、蓝牙耳机等。 NCVM的主要特征是结合了传统真空镀膜技术的特性,采用新的镀膜技术、新的材料,做出普通真空电镀的不同颜色的金属外观效果,起到美化工件表面之功用。采用NCVM技术制出的成品可以通过高压电表几万伏特的高压测试,不导通或不被击穿。正是因为它的不导电性,当手机或蓝牙耳机收讯或是发射讯号时,产生的电磁场不被导电的镀层所屯积,从而不影响手机的RF(射频)性能以及ESD(静电放电)性能,也就是说使得无线产品达到更好的收讯效果,无杂音,更不会对人体产生任何影响。从电性能角度出发,它能够通过导电测试和电子干扰测试。从真空镀膜本身,它能同时保证正常的物理和耐候测试,如附着力、耐磨耗、耐醇、耐人工汗液和高温高湿储存等。当通讯产品的机壳采用NCVM制程时,产品的天线模块不需再设计回路接地至机板上,由此可节省在天线模块上的检测,并节省成本;同时产品的外观金属质感较强烈,进而提高产品的科技含量,增加产品的附加价值。 另外NCVM在使塑料具有金属质感的同时可实现半透光性控制,即体现金属质感同时具备光线可穿透性。产品机壳采用NCVM制程时,利用透光或半透光特性,可使产品的设计更富变化,外观更为靓丽多姿。

化学镀铜与直接电镀工艺

一次化学镀厚铜孔金属化工艺 不用电镀铜的一次化学镀厚铜进行双面板和多层板孔金属化,可以显著缩短加工周期,降低生产成本,用此种工艺方法很容易作出高精度的印制板。通过实践证明一次化学镀厚铜的金属化孔可靠性要超过电镀铜,因为一次化学镀厚铜孔内镀层厚度非常均匀,不存在应力集中,特别是对于高密度的印制板小孔金属化(φ0.5以下的孔),对电镀来讲很难达到孔内镀层厚度均匀一致,而用化学镀铜的方法则是轻而易举的事,下面介绍双面和多层板一次化学镀厚铜的生产工艺。 5.1 双面印制板一次化学镀厚铜 1)用液体感光胶(抗电镀印料)制作双面电路图形。然后蚀刻图形。液体感光胶可以用网印或幕帘式涂布,幕帘法生产效率高,而且涂层均匀无砂眼,网印法易产生气孔砂眼。液体抗电镀感光胶分辨率非常高,显影无底层。很容易得到精细的电路图形。价格比干膜便宜。蚀刻电路图形之后用5%NaOH去除感光胶层。 2)网印或幕帘式涂布液体感光阻焊剂,制出阻焊图形 3)再用液体感光胶涂布板面,用阻焊底片再次曝光,显影,使孔位焊盘铜裸露出来。 4)钻孔 5)化学镀厚铜。 1.酸性除油3分钟 2.H2SO4/H2O2粗化3分钟 3.预浸处理1分钟 4.胶体钯处理3分钟②③④⑤⑥⑦ ①- ④处理液均为酸性溶液,板面上的液体感光胶层不会破坏,其结果是保护板面不受浸蚀,在进行活化时,孔内和板面上的感光胶层吸附了胶体钯。 ⑤5%NaOH处理3分钟,然后水冲洗板面上的感光层,连同感光胶上的胶体钯一同被碱溶解下来。孔内的胶体钯仍然保留。 ⑥1%NaOH处理1分钟,然后水冲洗,进一步去除板面上的残胶。 ⑦化学镀厚铜4小时,铜层厚度可达到20微米,化学镀铜过程中自动分析自动补加化学成份。适用于连续化学镀厚铜的配方: CuSO4.5H2O 10g/1 EDTA.2Na 40 g/1 NaOH 15 g/1 双联呲啶10mg/1 CN-10mg/1 操作条件:温度600C,化学镀铜过程中,通空气搅拌化学镀铜溶液,并连续过滤。自动控制PH和Cu+1离子含量。

电镀与其他镀的区别

1.目前镀锌与发蓝两种防锈功能比较强?那种成本比较低? 钢制件的表面发黑处理,也有被称之为发蓝的。发黑处理现在常用的方法有传统的碱性加温发黑和出现较晚的常温发黑两种。但常温发黑工艺对于低碳钢的效果不太好。A3钢用碱性发黑好一些。碱性发黑细分出来,又有一次发黑和两次发黑的区别。发黑液的主要成分是氢氧化钠和亚硝酸钠。发黑时所需温度的宽容度较大,大概在135摄氏度到155摄氏度之间都可以得到不错的表面,只是所需时间有些长短而已。实际操作中,需要注意的是工件发黑前除锈和除油的质量,以及发黑后的钝化浸油。发黑质量的好坏往往因这些工序而变化金属“发蓝”药液采用碱性氧化法或酸性氧化法;使金属表面形成一层氧化膜,以防止金属表面被腐蚀,此处理过程称为“发蓝”。黑色金属表面经“发蓝”处理后所形成的氧化膜,其外层主要是四氧化三铁,内层为氧化亚铁。 (1)金属表面务必洗净和干燥以后,才能进行“发篮”处理。 (2)金属器件进行“发蓝”处理条件与金属中的含碳量有关。 (3)每隔一星期左右按期分析溶液中硝酸钠、亚硝酸钠和氢氧化钠的含量,以便及时补充有关成分。一般使用半年后就应更换全部溶液。 (4)金属“发蓝”处理后,最好用热肥皂水漂洗数分钟,再用冷水冲洗。然后,又用热水冲洗,吹干。 钢铁零件的表面进行发蓝处理,就能大大增强抗蚀能力,延长使用寿命。像武器、弹簧、钢丝等常用此法。基本原理是铁在含有氧化剂和苛性钠的混合溶液中,一定温度下经一定时间后,反应生成亚铁酸钠(Na2FeO2)和铁酸钠(Na2Fe2O4),亚铁酸钠与铁酸钠又相互作用生成四氧化三铁氧化膜。 但传统的常温发蓝工艺存在着附着力和耐磨性差的缺点。 锌镀层对铁基体既有机械保护作用,又有电化学保护作用,抗腐蚀性能良好。 镀锌工艺:分热镀锌、冷镀锌等,而且现在还要无氰化物镀锌。而且镀锌废水处理是个问题。 电镀锌:就是利用电解,在制件表面形成均匀、致密、结合良好的金属或合金沉积层的过程。 与其他金属相比,锌是相对便宜而又易镀覆的一种金属,属低值防蚀电镀层。被广泛用于保护钢铁件,特别是防止大气腐蚀,并用于装饰。镀覆技术包括槽镀(或挂镀)、滚镀(适合小零件)、自动镀和连续镀(适合线材、带材)。 目前,国内按电镀溶液分类,可分为四大类: 1.氰化物镀锌: 由于(CN)属剧毒,所以环境保护对电镀锌中使用氰化物提出了严格限制,不断促进减少氰化物和取代氰化物电镀锌镀液体系的发展,要求使用低氰(微氰)电镀液。 采用此工艺电镀后,产品质量好,特别是彩镀,经钝化后色彩保持好。 2.锌酸盐镀锌:

化学镀镍与电镀镍工艺及相互之间的区别

化学镀镍与电镀镍工艺及相互之间的区别 1 电镀镍 电镀是一种电化学过程,也是一种氧化还原过程。电镀镍是将零件浸入镍盐的溶液中作为阴极,金属镍板作为阳极,接通直流电源后,在零件上就会沉积出金属镍镀层。电镀镍的配方及工艺条件见表1。 电镀镍的工艺流程为:①清洗金属化瓷件;②稀盐酸浸泡;③冲净;④浸入镀液; ⑤调节电流进行电镀; ⑥自镀液中取出;⑦冲净;⑧去离子水设备煮;⑨烘干。 表1 电镀镍的配方及工艺条件 成分含量/g/L 温度 /0C PH值电流密度 /A/dm2 硫酸镍硫酸镁硼酸氯化钠 100-170 21-30 14-30 4-12 室温5-6 0.5 电镀镍的优点是镀层结晶细致,平滑光亮,内应力较小,与陶瓷金属化层结合力强。电镀镍的缺点是:①受金属化瓷件表面的清洁和镀液纯净程度的影响大,造成电镀后金属化瓷件的缺陷较多,例如起皮,起泡,麻点,黑点等;②极易受电镀挂具和在镀缸中位置不同的影响,造成均镀能力差,此外金属化瓷件之间的相互遮挡也会造成瓷件表面有阴阳面的现象;③对于形状复杂或有细小的深孔或盲孔的瓷件不能获得较好的电镀表面;④需要用镍丝捆绑金属化瓷件,对于形状复杂、尺寸较小、数量多的生产情况下,需耗费大量的人力。 2 化学镀镍 化学镀镍又称无电镀或自催化镀,它是一种不加外在电流的情况下,利用还原剂在活化零件表面上自催化还原沉积得到镍层,当镍层沉积到活化的零件表面后由于镍具有自催化能力,所以该过程将自动进行下去。一般化学镀镍得到的为合金镀层,常见的是Ni-P合金和Ni-B合金。相较Ni-P合金而言,Ni—B合金的熔焊能力更好,共晶温度高,内应力较小,是一种更为理想的化学镀镍方式。但本文着重讨论的是Ni-P合金镀层。 化学镀镍的配方及工艺条件见表2。 表2化学镀镍的配方及工艺条件 成分含量/g/L 温度 /0C PH值 硫酸镍次磷酸钠柠檬酸钠氯化铵 45-50 45-60 20-30 5-8 85 9.5 化学镀镍的工艺流程为:①清洗金属化瓷件;②去离子水设备冲洗;③活化液浸泡;④冲净;⑤还原液浸泡;⑥浸入镀液并不时调节pH值;⑦自镀液中取出;

化学镍和电镀镍区别

化学镀镍是通过自身的催化作用,也称为无电镀镍,电镀镍通过基体之间的电位差靠外界放电来进行,成本基本来说没有太大的差别! 电镀镍主要用作防护装饰性镀层。它广泛用于汽车、自行车、钟表、医疗器械、仪器仪表和日用五金等方面。借电化学作用,在黑色金属或有色金属制件表面上沉积一层镍的方法。可用作表面镀层,但主要用于镀铬打底,防止腐蚀,增加耐磨性、光泽和美观。广泛应用于机器、仪器、仪表、医疗器械、家庭用具等制造工业。 化学镀镍层是极为均匀的,只要镀液能浸泡得到,溶质交换充分,镀层就会非常均匀,几乎可以达到仿形的效果。电镀无法对一些形状复杂的工件进行全表面施镀,但化学镀过以对任何形状工件施镀。高磷的化学镀镍层为非晶态,镀层表面没有任何晶体间隙,而电镀层为典型的晶态镀,电镀因为有外加的电流,所以镀速要比化学镀快得我,同等厚度的镀层电镀要比化学镀提前完成。化学镀层的结合力要普遍高于电镀层。化学镀由于大部分使用食品级的添加剂,不使用诸如氰化物等有害物质,所以化学镀比电镀要环保一些。化学镀目前市场上只有纯镍磷合金的一种颜色,而电镀可以实现很多色彩 化学镀镍与电镀镍层性能比较 镀层性能电镀镍化学镀镍 组成含镍99%以上平均92%Ni+8%P 结构晶态非晶态 密度8.9 平均7.9 镀层均匀性变化±10% 熔点/℃1455 ~890 镀后硬度(VHN) 150~400 500~600 热处理后硬度(VHN) 不变900~1000 耐磨性良好优良 耐腐蚀性良好(镀层有孔隙) 优良(镀层几乎无孔隙) 相对磁化率36 4 电阻率/Ω?CM7 60~100 热导率/W?M-1?K-1?1040.67 0.04~0.08 线膨胀系数/K-1 13.5 14.0 弹性模量/MPa 207 69 延伸率 6.3% 2% 内应力/MPa ±69±69

电镀和真空电镀

电镀的定义和分类 目录1.电镀的定义和分类 1-1.电镀的定义 1-2.电镀的分类 1-3.电镀的常见工艺过程 2.常见电镀效果的介绍 2-1.高光电镀 2-2.亚光电镀 2-3.珍珠铬 2-4.蚀纹电镀 2-5.混合电镀 3.电镀件设计的常见要求 3-1.电镀件镀层厚度对配合尺寸的影响 3-2.电镀件变形的控制 3-3.局部电镀要求的实现 3-4.混合电镀效果对设计的要求 3-5.电镀效果对设计的影响 3-6.电镀成本的大致数据

1.电镀的定义和分类 1-1.电镀的定义 随着工业化生产的不断细分,新工艺新材料的不断涌现,在实际产品中得到应用的设计效果也日新月异,电镀是我们在设计中经常要涉及到的一种工艺,而电镀效果是我们使用时间较长,工艺也较为成熟的一种效果,对于这种工艺的应用在我们的产品上已经非常多,我们希望通过总结我们已有的经验作一些设计的参考性文件,可以更好的将电镀效果应用在我们的设计上,也更合理的应用在我们的设计上,可以为以后的工作带来一些方便。通过这种工艺的处理我们通常可以得到一些金属色泽的效果,如高光,亚光等,搭配不同的效果构成产品的效果的差异性,通过这样的处理为产品的设计增加一个亮点。 1-1-1.电镀的定义 电镀就是利用电解的方式使金属或合金沉积在工件表面,以形成均匀、致密、结合力良好的金属层的过程,就叫电镀。简单的理解,是物理和化学的变化或结合。 电镀工艺的应用我们一般作以下几个用途: a.防腐蚀 b.防护装饰 c.抗磨损 d.电性能:根据零件工作要求,提供导电或绝缘性能的镀层 e.工艺要求 1-1-2.常见镀膜方式的介绍 这里从类同与电镀的一些工艺作分析介绍,以下的一些工艺都是在与我们电镀相关的一些工艺过程,通过这样的介绍给大家对这些工艺有一个感性的认识。 化学镀(自催化镀) autocalytic plating 在经活化处理的基体表面上,镀液中金属离子被催化还原形成金属镀层的过程。这是在我们的工艺过程中大多都要涉及到的一个工艺工程,通过这样的过程才能进行后期电镀等处理,多作为塑件的前处理过程。 电镀 electroplating 利用电解在制件表面形成均匀、致密、结合良好的金属或合金沉积层的过程,这种工艺过程比较烦杂,但是其具有很多优点,例如沉积的金属类型较多,可以得到的颜色多样,相比类同工艺较而言价格比较低廉。 电铸 electroforming 通过电解使金属沉积在铸模上制造或复制金属制品(能将铸模和金属沉积物分开)的过程。这种处理方式是我们在要求最后的制件有特殊表面效果如清晰明显的抛光与蚀纹分隔线或特殊的锐角等情况下使用,一般采用铜材质作一个部件的形状后,通过电镀的工艺手段将合金沉积在其表面上,通常沉积厚度达到几十毫米,之后将形腔切开,分别镶拼到模具的形腔中,注射塑件,通过这样处理的制件在棱角和几个面的界限上会有特殊的效果,满足设计的需要,通常我们看到好多电镀后高光和蚀纹电镀效果界限分明的塑胶件质量要求较高的通常都采用这样的手段作设计。如下图所见的棱角分明的按键板在制造上采用电铸工艺的话,会达到良好的外观效果。 图 1-1 按键电镀效果1

真空电镀及工艺流程

真空电镀及工艺流程 真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进行调整。此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低(10-5Pa )。镀层厚度0.04-0.1um,太薄,反射率低;太厚,附着力差,易脱落。厚度0.04时反射率为90% ,真空离子镀,又称真空镀膜.真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法,做出来的产品金属感强,亮度高.而相对其他的镀膜法来说,成本较低,对环境的污染小,现在为各行业广泛采用. 真空电镀适用范围较广,如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品?同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高,单价比水电镀昂贵.现对其工艺流程作简要介绍:产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装. 一般真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆,再做电镀.由于素材是塑料件,在注塑时会残留空气泡,有机气体,而在放置时会吸入空气中的水分.另外,由于塑料表面不够平整,直接电镀的工件表面不光滑,光泽低,金属感差,并且会出现气泡,水泡等不良状况.喷上一层底漆以后,会形成一个光滑平整的表面,并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生,使得电镀的效果得以展现.

电镀镀种和电镀颜色

电镀镀种和电镀颜色 电镀颜色说明 目前,电镀是装饰饰品的一种流行和普遍的工艺。简单的理解,电镀就是在饰品的金属表面覆盖一层镀层,起到保护和装饰的效果。因镀层的材料、工艺及需要的设备的不同,电镀出不同效果的成本也不同。下面介绍下饰品中常用的电镀颜色: 电镀: electroplating 哑叻: dull nickle 叻色: nickle 黑叻: dark silver 红古铜:antique copper 青铜: brass gilt 真金: gold 哑金: dull gold 青黑扫尼龙:polished antique brass 铬色: chrome plated 青古色:antique brass 枪色: gun metal 珍珠叻:pearlize nickle 珍珠金:pearlize gold 珍珠银:pearlize silver 珍珠枪:pearlize gun 无叻叻:nickle color (nickle free) 无叻枪:gun (nickle free) 无叻银:silver (nickle free) 无叻金:gold (nickel free) 无叻哑叻:dull nickel (nickle free) 无叻黑叻:black nickle (nickle fre 代号 电镀颜色 英文 A 金/镍拉丝 Gold/nickel wire drawing B 铬/镍拉丝 Chrome/nickel wire drawing C 黑镍拉丝

Black nickel wire drawing D 金间抡黑 Swing black among the gold E 金条纹 Gold bar line F 钛金 Titanium money G 电泳金 Electrophoresis money H 喷沙银 Sandblast the silver I 钛空绦 The empty silk ribbon of titanium J 古铜拉丝 Ancient copper wire drawing K 青铜拉丝 Bronze wire drawing L 亮镍拉丝 Bright nickel wire drawing M 喷沙镍 Sandblast the nickel W 喷珠光漆 Gush out the pearly luster paint A/C 古铜拉丝 Antique brushed A/B 青铜拉丝 Brass brushed P/S 镍拉丝 Stain nickel/nickel rushed

水电镀和真空电镀的区别-2015

水电镀和真空电镀的区别 塑胶产品电镀工艺简介:常见的塑胶产品电镀工艺有两种:水电镀和真空离子镀。 1、水电镀:一般适用于ABS料、ABS+PC料的产品。主要工艺是将需电镀的产品放化学电镀液中进行电镀。根据客户的不同需求,可镀成不同的颜色,与高光银色、亚银色、灰色、锖色、金色、黑铬色,半光铬。因为电镀后的产品其导电性显著增强,对于某些需绝缘的部件怎么办? 办法有两种:其一,在需绝缘的部位涂上绝缘油,该部位在电镀时就不会被电镀到,从而达到绝缘效果!当然,涂了绝缘油的部位会变黑,就不适宜作为外观面了。其二,在需电镀的部位用特殊的胶纸贴住,保护起来,同样达到绝缘的效果。 2、真空离子镀,又称真空镀膜:一般适用范围较广,如ABS料、ABS+PC料、PC 料的产品。同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高,单价比水电镀昂贵。现对其工艺流程作简要介绍:产品表面清洁、去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装。真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊;工艺有蒸镀、溅镀、锖色等。 3、两种工艺的区别:水电镀因工艺较简单,从设备到环境得要求均没有真空离子镀苛刻,从而被广泛应用。但,水电镀有个弱点,只能镀ABS料和ABS+PC料(此料镀的效果也不是很理想)。而ABS料耐温只有80℃,这使得它的应用范围被限制了。而,真空电镀可达200℃左右,这对使用在高温的部件就可以进行电镀处理了。像风嘴、风嘴环使用PC料,这些部件均要求耐130℃的高温。另,一般要求耐高温的部件,做真空电镀都要在最后喷一层UV油,这样使得产品表面即有光泽、有耐高温、同时又保证附着力。 4、两种工艺的优缺点: A、简单来说,如真空电镀不过UV油,其附着力很差,无法过百格TEST,而水电镀的明显好于真空电镀!因此,为保证真空电镀的附着力,均需后续进行特殊的喷涂处理,成本当然高些。 B、水电镀颜色较单调,一般只有亚银色、灰银,枪色,金色,黑铬色,半光铬等五花八门的七彩色就无能为力了。而,真空电镀可以解决七彩色的问题。 C、水电镀一般的镀层材质采用“六价铬”,这是非环保材料。对于“六价铬”有如下的要求:欧盟:76/769/EEC:禁止使用;94/62/EC:<100ppm;ROHS:<1000ppm 如此严格的要求,国内一些厂家已开始尝试使用“三价铬”来替代“六价铬”;而真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合环保要。

化学镀和电镀的区别

化学镀与电镀从原理上的区别就是电镀需要外加的电流和阳极,而化学镀是依靠在金 属表面所发生的自催化反应。 化学镀镍层是极为均匀的,只要镀液能浸泡得到,溶质交换充分,镀层就会非常均匀,几乎可以达到仿形的效果。 电镀无法对一些形状复杂的工件进行全表面施镀,但化学镀过以对任何形状工件施镀。高磷的化学镀镍层为非晶态,镀层表面没有任何晶体间隙,而电镀层为典型的晶态镀层。电镀因为有外加的电流,所以镀速要比化学镀快得我,同等厚度的镀层电镀要 比化学镀提前完成。 化学镀层的结合力要普遍高于电镀层。 化学镀由于大部分使用食品级的添加剂,不使用诸如氰化物等有害物质,所以化学镀 比电镀要环保一些。 化学镀目前市场上只有纯镍磷合金的一种颜色,而电镀可以实现很多色彩。化学镀镍技术是采用金属盐和还原剂,在材料表面上发生自催化反应获得镀层的方法。到目前为止, 化学镀镍是国外发展最快的表面处理工艺之一,且应用范围也最广。化学镀镍之所以 得到迅速发展,是由于其优越的工艺特点所决定。 一、化学镀镍层的工艺特点 1. 厚度均匀性厚度均匀和均镀能力好是化学镀镍的一大特点,也是应用广泛的原因之一,化学镀镍避免了电镀层由于电流分布不均匀而带来的厚度不均匀,电镀层的厚 度在整个零件,尤其是形状复杂的零件上差异很大,在零件的边角和离阳极近的部位,镀层较厚,而在内表面或离阳极远的地方镀层很薄,甚至镀不到,采用化学镀可避免 电镀的这一不足。化学镀时,只要零件表面和镀液接触,镀液中消耗的成份能及时得 到补充,任何部位的镀层厚度都基本相同,即使凹槽、缝隙、盲孔也是如此。 2. 不存在氢脆的问题电镀是利用电源能将镍阳离子转换成金属镍沉积到阳极上,用化学还原的方法是使镍阳离子还原成金属镍并沉积在基体金属表面上,试验表明,镀 层中氢的夹入与化学还原反应无关,而与电镀条件有很大关系,通常镀层中的含氢量 随电流密度的增加而上升。 在电镀镍液中,除了一小部分氢是由NiSO4和H2PO3反应产生以外,大部分氢是由于两极通电时发生电极反应引起的水解而产生,在阳极反应中,伴随着大量氢的产生,

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