薄膜的缺陷

薄膜的组织结构是指它的结晶形态．分为四种类型；非晶态结构、多品结构、纤维结构和单晶结构。

(1)非晶态结构。

从原子排列情况来看它是一种近程有序结沟，只有少数原子排列是有秩序的，显示不出任何晶体的性质，这种结构称为非晶结构或玻璃态结构。形成非晶薄膜的工艺条件是降低吸附原子的表面扩散速率。可以通过降低基体温度、引入反应气体和掺杂的方法实现上述条件。

(2)多晶结构。

多晶结构薄膜是由若干尺寸大小不等的晶粒所组成。在薄膜形成过程中生成的小岛就具有晶体的特征(原子有规则的排列)。由众多小岛聚结形成的薄膜就是多晶薄膜。用真空蒸发法或阴极溅射法制成的薄膜，都是通过岛状结构生长起来的，所以必然产生许多晶粒间界，形成多晶结构。

(3)纤维结构。

纤维结构薄膜是晶粒具有择优取向的薄膜，根据取向方向、数量的不同分为单重纤维结构和双重纤维结构。前者是各晶粒只在一个力向上择优取向，后者则在两个方向上有择优取向。有时前者称为一维取向薄膜，后者称为二维取向薄膜。

沿C轴择优取向AlN膜的结构

在玻璃基体上的的A1N压电薄膜是纤维结构薄膜的典型代表。

生长在薄膜中晶粒的择优取向可发生在薄膜生长的各个阶段：初始成核阶段、小岛聚结阶段和最后阶段。若吸附原子在基体表面上有较高的扩散速率，晶粒的择优取向可发今年薄膜形成的初期阶段。在起始层中原了排列取决于基体表面、基体温度、晶体结构、原子半径和薄膜材料的熔点。如果吸附原于的表面扩散速率较小，初始膜层不会产生择优取向，当膜层层较厚时则形成强烈的对着蒸发源方向的取向。晶粒向蒸发源的倾斜程度依赖于基体温度、气相原于入射角度和沉积速率等。

(4)单晶结构。

单晶结构薄膜通常是用外延工艺制造的。外延生长的第一个基本条件是吸附原子必须有较高的表面扩散速率．所以基体温度和沉积速率就相当重要。在一定的蒸发速率条件下，大多数基体和薄膜之间都存在着发生外延生长的最低温度，即外延生长温度。第二个基本条件是基体与薄膜材料的结晶相溶性。第三个条件要求基体表面清洁、光滑和化学稳定性好。满足以上三个基本条件，才能制备结构完整的单晶薄膜。

薄膜的晶体结构

薄膜的晶体结构是指薄膜中各晶粒的晶型状况。晶体的主要特征是其中原了有规则的排列。

在大多数情况下，薄膜中晶粒的晶格结构与块状晶体是相同的，只是晶粒取向和晶粒尺寸与块状晶体不同。除了晶体类型之外，薄膜中晶粒的晶格常数也常常和块状品体不同。产生这种现象的原因有两个：一是薄膜材料本身的晶格常数与基体材料晶格常数不匹配，二是薄膜中有较大的内应力和表面张力。

由于晶格常数不匹配，在薄膜与基体的界面处晶粒的晶格发生畸变形成一种新晶格，若薄膜与基体的结合能较大，晶格常数失配率近似等于2％时薄膜与基体界面处晶格畸变层的厚度为几个埃。当相差合分比为4％左右时，畸变层厚度可达几十个埃。当相差百分比人于12％时，品格畸变达到完全不匹配的程度。

薄膜表面张力对薄膜品格常数也有影响。

薄膜的表面结构

薄膜表而的形貌与粗糙问题—直是人们关注的研究课题。为了降低传输损耗，提高机电藕合系数，保证叉指电极质量，压电薄膜要求其表面的光滑度高。

从热力学能量理论分析．薄膜为了使它的总能量达到最低值。应该有最小的表面积，即应该成为理想的平面状态。实际上这种薄膜是无法得到的。因为在薄膜的沉积、形成、成长过程中，入射到基体表面上的气相原子是无规律的，所以薄膜表面都有一定的粗糙度。假设入射气相原子沉积到基体之后就在原处不动，形成的薄膜其厚度在各处是不均匀的。若薄膜的平均厚度为d，它按无规则变量的泊松几率分布，出此可得到膜厚的平均偏离值

?。薄膜的表面积随着其厚度的平方根值的增大而增大。但实际上，入射气相原子d=

d

沉积到基体表面之后．释放出再蒸发的能量就吸附在基体表面上。然后依靠横向扩散能量在表面上作扩散，占据表面上的一些空位。正是由于吸附原子在表面上扩散，才使薄膜表面上的谷被填平，峰被削平，导致薄膜表曲面积不断缩小，表面能逐步降低。但是在表面原子扩散作用下，生长最快的晶面能消耗那些生长较慢的晶面，导致薄膜表面粗糙度又进一步增大。薄膜表面的这种结构常常在基体温度较高的情况下才才出现。

在基体温度较低的情况下，吸附原子在表面上横向扩散运动的能量较小，所得表面面积较大，而且可延续到最低层。这种情况与微观结构中说的柱状晶结构是一致的。

所谓柱状晶结构犹如内一个个柱子排所组成的结构，其模型如图（2）所示。

图（2）柱状晶结构

高真空下沉积的薄膜以及外延薄膜不会出现柱状晶结构，但是在实际应用中各种PVD 方法所制备的薄膜中几乎都会出现柱状晶结构。

3．3 薄膜的缺陷

所有在块状晶体材料中可能出现的各类晶格缺陷在薄膜中也都可能出现。但是由于薄膜及其成膜过程的特殊性，因而薄膜中缺陷的形成原因和分布等也表现出一定的持续性，特别是其数量—般都大大超过块状材料。与此同时，薄膜中的晶格常数也与材料块状时的值有较大的差别。

3．31 薄膜的点缺陷

晶体中晶格排列出现的缺陷．如果是只涉及列单个晶格结则称为点缺陷。当沉积速率很高、基片湿度较低时，到达基片表面的原子来不及完整地排列就被后来的原子层所覆盖，这样就可能在薄膜中产生高浓度的空位缺陷。

点缺陷的典型构型是窄位和填隙原子。位于晶格结点处的原子总是在它的平衡位红附近作不停的热振动。在一定温度下。它们的能量虽然有一定值，但出于存在能量起伏，个别原子在某一时刻所具备的能量完全有可能达到足以克服周围原子对它的束缚而逃离原来位置，于是在原来的地方就比现一个空位形成空位缺陷。逃离原位的原子或跃迁到晶体表面的正常位置，形成Schottky缺陷，或会跳进晶格原子之间的间隙里形成Frenkcl缺陷。这两种缺陷均为本征点缺陷。下图演示了Schottky和Frenkel缺陷的形成方式。

图（）本征点缺陷

有杂质原子进入晶体时也会形成点缺陷，或者是置换型或者是填隙型，如下图所示。

图（）本质点缺陷

点缺陷与其他缺陷不向，这种缺陷不能用电子显微镜百接观测到．因此它的存在不大引起人们的注意。

薄膜中也存在线缺陷

位错是晶态薄膜中最普遍存在的一种线性缺陷，是薄膜中最常遇到的缺陷之一，它是晶格结构中一种“线型”的不完整结构。

薄膜中的位错大部分从薄膜表面伸向基体表面，并在位错周围产生畸变。引起薄膜位错的原凶很多。在薄膜生长过程中，最初阶段基片上的晶核和孤立的小扇形状和结晶取向是随机的。但是在聚结阶段，当两个小岛相遇时，如果它们的位向有轻微差别，在结合处将形成位错。下图示意地表示相对有一倾转角的两个晶粒在长大到相互接触时，在它们中间形成一列刃型位错。

图（）刃型位错形成的倾侧晶界

假如在薄膜生长过程小的小岛聚结阶段，两个以上的小岛同时相遇，为了减小界面上的形变，就会形成—个空洞，而薄膜中的应力将在空洞边缘引起位错。在低温和高速沉积制备的薄膜中，大量过饱和空位可以集聚成空位片，空位片的倒坍就形成了位错环，如下图。

图（）空位片转化成位错环

薄膜与基片的晶格常数不同。失配率m较小时，在紧靠基片的薄膜层中将产生晶格畸变，如上图所示；但当失配率人丁12％时，膜与基片之间的失配将由膜户产生位错来加以调节，如下图

图（）薄膜与基片之间的失配

基片表面的缺陷可能会延伸到薄膜中，但这并非是主要因素，因为通常情况下薄膜中的位错密度要比甚片表面的缺陷密度大几个数量级，另外基片上的杂质也会影响薄膜。

3．3．3 薄膜的晶界与层错

1．晶界

和块状材料相似，薄膜中各晶粒之间由于相对取向的不同，而出现了接触界面，即通常所谓的晶界，因此品界是把结构相同但位向不同的两个晶粒分隔开来的一个面缺陷。

2．层错

所谓层错就是在薄膜的生长过程中由于晶面的正常堆垛次序遭到破坏而出现的晶格缺陷。而心立方晶体中｛111｝面两种基本类型的层错可以表示为

．．．ABC AC ABC．．．

．．．ABC ACBC ABC．．．

前者相当于从正常准垛次序小抽掉一层晶面，因而称为抽出型层错；后养相当于个正常堆垛次序中加入一层额外的晶面，因而称为插入型层错。堆垛层错破坏了晶体的完整性，引起晶体能量的升高。与单位面积堆垛层错相联系的能最称为层错能。层错仅仅破坏了原子的次邻近关系，并没有破坏原子的最邻近关系，亦即左层错处只有从连续二层原子的关系才能发现与正常堆垛次序的差别；如果仅仅取出相邻的两层原子来看，就不存在“错误”。因此与最邻近原子又系受到破坏的一般晶界能比较起来，层错能要小得多。

薄膜的厚度是一个重要的参数。一般而言，厚度有三种概念即几何厚度、光学厚度和质量厚度。几何厚度指膜层的物理厚度。

塑料薄膜的性能测试方法

塑料薄膜的性能测试方法 塑料薄膜、复合膜具有不同的物理、机械、耐热以及卫生性能。当塑料薄膜应用为包装材料时，需要根据包装物以及应用环境的不同，选择合适的材料来使用。如何评价包装材料的性能呢？国内外测试方法有很多。我们应优先选择那些科学、简便、测量误差小的方法，优先选择ISO、ASTM、以及我国国家标准、行业标准，如BB／T 标准、QB／T标准、HB／T标准等等。 GBT 2918-1998 《塑料试样状态调节和试验的标准环境》等同国际标准ISO 291:1997《塑料一状态调节和试验的标准环境》，提出了各种塑料及各类试样在相当于实验室平均环境条件的恒定环 境条件下进行状态调节和试验的规范，并给出标准实验环境定义，是大部分塑料性能测试方法引用的标准。 1．规格、外观测试方法 塑料薄膜作为包装材料，它的尺寸规格要满足内装物的需要；外观直接影响商品形象；其厚度则又是影响机械性能、阻隔性的因素之一，需要在质量和成本上找到最优化的指标。因此这些指标就会在每个产品标准的要求中作出规定，相应的要求检测方法一般有： 1.1厚度测定 塑料一般具有一定的弹性，因此其厚度测定一般需要施加一定的接触负荷。 GB／T6672－2001《塑料薄膜和薄片厚度测定机械测量法》等同采用ISO4593：1993《塑料－薄膜和薄片－厚度测定－机械

测量法》。规定了机械法测量法即接触法测量塑料薄膜或薄片样品厚度的试验方法，但不适用于压花材料的测试。 1.2.长度、宽度 塑料材料的尺寸受环境温度的影响较大，解卷时的操作拉力也会造成材料的尺寸变化。测量器具的精度不同，也会造成测量结果的差异。因此在测量中必须注意每个细节，以求测量的结果接近真值。 GB／T 6673－2001《塑料薄膜与片材长度和宽度的测定》非等效采用国际标准ISO 4592：1992《塑料－薄膜和薄片－长度和宽度的测定》。该标准规定了卷材和片材的长度和宽度的基准测量方法。标准中规定了卷材在测量前应先将卷材以最小的拉力打开，以不超过5m的长度层层相叠不超过20层作为被测试样，并在这种状态下保持一定的时间，待尺寸稳定后在进行测量。 1.33.外观 塑料薄膜的外观检验一般采取在自然光下目测。 外观缺陷在GB／T 2035 《塑料术语及其定义》中有所规定。 2．物理机械性能测试方法 2.1拉伸性能 塑料的拉伸性能试验包括拉伸强度、拉伸断裂应力、拉伸屈服应力、断裂伸长率等试验。采用拉力试验机进行测试。 GB／T 1040－1992 《塑料拉伸性能试验方法》一般适用于厚度大于1mm的材料热塑性、热固性材料，这些材料包括填充和纤维增强的塑料材料以及塑料制品。

第三章 晶体结构缺陷

第三章晶体结构缺陷 【例3-1】写出MgO形成肖特基缺陷得反应方程式。 【解】MgO形成肖特基缺陷时,表面得Mg2+与O2－离子迁到表面新位置上,在晶体内部留下空位,用方程式表示为: 该方程式中得表面位置与新表面位置无本质区别,故可以从方程两边消掉,以零O(naught)代表无缺陷 状态,则肖特基缺陷方程式可简化为: 【例3-2】写出AgBr形成弗伦克尔缺陷得反应方程式。 【解】AgBr中半径小得Ag+离子进入晶格间隙,在其格点上留下空位,方程式为: 【提示】一般规律:当晶体中剩余空隙比较小,如NaCl型结构,容易形成肖特基缺陷;当晶体中剩余空隙比较大时,如萤石CaF2型结构等,容易产生弗伦克尔缺陷。 【例3-3】写出NaF加入YF3中得缺陷反应方程式。 【解】首先以正离子为基准,Na+离子占据Y3+位置,该位置带有2个单位负电荷,同时,引入得1个F－离子位于基质晶体中F－离子得位置上。按照位置关系,基质YF3中正负离子格点数之比为1/3,现在只引入了1个F－离子,所以还有2个F－离子位置空着。反应方程式为:可以验证该方程式符合上述3个原则。 再以负离子为基准,假设引入3个F－离子位于基质中得F－离子位置上,与此同时,引入了3个Na+离子。根据基质晶体中得位置关系,只能有1个Na+离子占据Y3+离子位置,其余2个Na+位于晶格间隙,方程式为: 此方程亦满足上述3个原则。当然,也可以写出其她形式得缺陷反应方程式,但上述2个方程所代表得

缺陷就是最可能出现得。 【例3-4】写出CaCl2加入KCl中得缺陷反应方程式。 【解】以正离子为基准,缺陷反应方程式为: 以负离子为基准,则缺陷反应方程式为: 这也就是2个典型得缺陷反应方程式,与后边将要介绍得固溶体类型相对应。 【提示】通过上述2个实例,可以得出2条基本规律: (1)低价正离子占据高价正离子位置时,该位置带有负电荷。为了保持电中性,会产生负离子空位或间隙正离子。 (2)高价正离子占据低价正离子位置时,该位置带有正电荷。为了保持电中性,会产生正离子空位或间隙负离子。 【例3-5】TiO2在还原气氛下失去部分氧,生成非化学计量化合物TiO2-x,写出缺陷反应方程式。 【解】非化学计量缺陷得形成与浓度取决于气氛性质及其分压大小,即在一定气氛性质与压力下到达平衡。该过程得缺陷反应可用 或 方程式表示,晶体中得氧以电中性得氧分子得形式从TiO2中逸出,同时在晶体中产生带正电荷得氧空位与与其符号相反得带负电荷得来保持电中性,方程两边总有效电荷都等于零。可以瞧成就是Ti4+被还原为Ti3+,三价Ti占据了四价Ti得位置,因而带一个单位有效负电荷。而二个Ti3+替代了二个

光学薄膜工艺基础知识

光学薄膜工艺基础知识 工艺因素对薄膜性能的影响机理大致为： 一、基片材料 1、膨胀系数不同热应力的主要原因； 2、化学亲和力不同影响膜层附着力和牢固度； 3.、表面粗糙度和缺陷散射的主要来源。 二.、基片清洁 残留在基片表面的污物和清洁剂将导致： 1、膜层对基片的附着力差； 2、散射吸收增大抗激光损伤能力差； 3、透光性能变差。 三、离子轰击的作用 提高膜层在基片表面的凝聚系数和附着力；提高膜层的聚集密度，氧化物膜层的透过率增加，折射率提高，硬度和抗激光损伤阈值提高。 光学镜片小知识 镜片材料分类 玻璃镜片包括光学玻璃镜片及高折射率镜片（即通常所称的超薄片），其硬度高、耐磨性能好，一般其质量及各项参数不会随时间而改变，但是玻璃镜片的抗冲击性及重量方面要略逊于树脂镜片。 树脂镜片一般要比玻璃镜片轻得多，且抗冲击性能要优于玻璃片，防紫外线能力强，但其表面硬度较低，比较容易被擦伤。树脂镜片及镀膜镜片由于其特性较软，所以平时应注意不要让镜面直接接触硬物，擦洗时最好先用清水（或掺合少量洗洁精）清洗，然后用专用试布或优质棉纸吸干眼镜片上的水滴。此外，在环境条件较差的地方应慎用镀膜镜片，以免沾上污物难以清洗。 宇宙（PC）镜片：折射率高，牢固，但易磨损.多数使用于小孩子的眼镜片，无框架的装配或运动员的护眼罩。 镜片镀膜后有哪些优点？ 镀膜镜片可以降低镜片表面的反射光，视物清楚，减少镜面反射光，增加了光线透过率，也解决戴眼镜在强光下照像的难题，增加美感。镀膜眼镜能防止紫外线、红外线、X线对视力的伤害。配戴镀膜眼镜不易疲劳。对荧光屏前工作人员的视力可受到保护。 镀膜树脂镜片除应避免划碰高温外，亦应避免酸类油烟等侵蚀，如在日常生活中最好不要戴镜下厨，尤其是通风不好油烟大时；同时亦不能戴（带）镜进（近）热水淋浴环境，平常临时放置时应将镜片凸面向上，随身携带时应将眼镜放入盒内，不要随便放入口袋中或挂包中，那样极易使膜层擦伤。

晶体缺陷习题与答案

晶体缺陷习题与答案 1 解释以下基本概念 肖脱基空位、弗仑克尔空位、刃型位错、螺型位错、混合位错、柏氏矢量、位错密度、位错的滑移、位错的攀移、弗兰克—瑞德源、派—纳力、单位位错、不全位错、堆垛层错、汤普森四面体、位错反应、扩展位错、表面能、界面能、对称倾侧晶界、重合位置点阵、共格界面、失配度、非共格界面、内吸附。 2 指出图中各段位错的性质，并说明刃型位错部分的多余半原子面。 3 如图，某晶体的滑移面上有一柏氏矢量为b 的位错环，并受到一均匀切应力τ。(1)分析该位错环各段位错的结构类型。(2)求各段位错线所受的力的大小及方向。(3)在τ的作用下，该位错环将如何运动?(4)在τ的作用下，若使此位错环在晶体中稳定不动，其最小半径应为多大? 4 面心立方晶体中，在(111)面上的单位位错]101[2a b =，在(111)面上分解为两个肖克莱不全位错，请写出该位错反应，并证明所形成的扩展位错的宽度由下式给出πγ242Gb s d ≈ (G 切变 模量，γ层错能)。 5 已知单位位错]011[2a 能与肖克莱不全位错]112[6 a 相结合形成弗兰克不全位错，试说明：（1）新生成的弗兰克不全位错的柏氏矢量。(2)判定此位错反应能否进行？(3)这个位错为什么称固定位错? 6 判定下列位错反应能否进行?若能进行，试在晶胞上作出矢量图。 (1)]001[]111[]111[2 2a a a →+ (2)]211[]112[]110[662a a a +→ (3)]111[]111[]112[263a a a →+ 7 试分析在(111)面上运动的柏氏矢量为]101[2a b =的螺位错受阻时，能否通过交滑移转移

缺陷处理专项方案

新建铁路靖宇至松江河线工程 下山头隧道专项施工方案(缺陷处理方案) 中铁九局宇松工程二公司第二架子队 2014年10月1日

目录 一、工程概况...................................... 错误!未定义书签。 二、编制依据...................................... 错误!未定义书签。 三、基本情况及原因分析............................ 错误!未定义书签。缺陷产生原因分析.................................. 错误!未定义书签。总体补强加固及拆除重做方案........................ 错误!未定义书签。处理方法及加固原理................................ 错误!未定义书签。 四、施工工艺...................................... 错误!未定义书签。钢带补强加固工艺.................................. 错误!未定义书签。二衬拆除重新施工工艺.............................. 错误!未定义书签。二衬背后注浆加固工艺.............................. 错误!未定义书签。 五、缺陷处理里程统计.............................. 错误!未定义书签。钢带加固里程统计表................................ 错误!未定义书签。二衬拆除里程统计表................................ 错误!未定义书签。二衬注浆加固里程统计表............................ 错误!未定义书签。 六、资源配置...................................... 错误!未定义书签。劳力配置：....................................... 错误!未定义书签。设备机具配置：.................................... 错误!未定义书签。材料配置: ......................................... 错误!未定义书签。 七、质量保障措施.................................. 错误!未定义书签。质量管理.......................................... 错误!未定义书签。质量保障.......................................... 错误!未定义书签。 八、安全保障措施.................................. 错误!未定义书签。安全管理.......................................... 错误!未定义书签。安全保障.......................................... 错误!未定义书签。

二晶体结构缺陷

1、说明下列符号的含义： V Na，V Na’，V Cl?，.(V Na’V Cl?)，CaK?，CaCa，Cai?? 2、写出下列缺陷反应式： (1)NaCl溶入CaCl2中形成空位型固溶体； (2)CaCl2溶人NaC1中形成空位型固溶体； (3)NaCl形成肖脱基缺陷； (4)AgI形成弗仑克尔缺陷(Ag+进入间隙)。 3、MgO的密度是3.58克／厘米3，其晶格参数是0.42nm，计算单位晶胞MgO的肖脱基缺陷数。 4、(a)MgO晶体中，肖脱基缺陷的生成能为6eV，计算在25℃和1600℃时热缺陷的浓度。 (b)如果MgO晶体中，含有百万分之一摩尔的A12O3杂质，则在1600℃时，MgO晶体中是热缺陷占优势还是杂质缺陷占优势，说明原因。 5、MgO晶体的肖特基缺陷生成能为84kJ／mol，计算该晶体在1000K和1500K的缺陷浓度。 6、非化学计量化合物FexO中，Fe3+／Fe2+=0.1，求Fe x O中的空位浓度及x值。 7、非化学计量缺陷的浓度与周围气氛的性质、压力大小相关，如果增大周围氧气的分压，非化学计量化合物Fe1-X O及Zn1+X O的密度将发生怎么样的变化?增大还是减小?为什么? 8、对于刃位错和螺位错，区别其位错线方向、柏氏矢量和位错运动方向的特点。 9、图2.1是晶体二维图形，内含有一个正刃位错和一个负刃位错。 (a)围绕两个位错柏格斯回路，最后得柏格斯矢量若干？ (b)围绕每个位错分别作柏氏回路，其结果又怎样? 10、有两个相同符号的刃位错，在同一滑移面上相遇，它们将是排斥还是吸引？ 11、晶界对位错的运动将发生怎么样的影响？能预计吗？ 12、晶界有小角度晶界与大角度晶界之分，大角度晶界能用位错的阵列来描述吗？ 13、试述影响置换型固溶体的固溶度的条件。

质量缺陷、事故处理方案

龙岗区龙城街道嶂背片区雨污分流管网工程 质量缺陷、事故处理方案 编制人：. 审核人：. 审批人：. 深圳市新朗建设工程有限公司 2016年10月20日

目录 第一章工程概况 (1) 第一节工程概述 (1) 第二节设计情况 (1) 第二章编制依据 (2) 第三章质量事故处理组织机构 (3) 第一节质量事故处理组织机构 (3) 第二节质量事故处理人员 (4) 第三节质量事故处理机构职责 (4) 第四章质量缺陷、事故处理方案的确定 (4) 第一节质量事故处理方案类型 (5) 第二节工程质量事故处理方案确定的方法 (6) 第五章工程质量事故处理的鉴定验收 (7) 第一节检查验收 (7) 第二节必要的鉴定 (7) 第三节验收结论 (7) 第六章质量问题专项措施 (8) 第一节管道工程质量问题处理措施 (8) 第二节道路工程质量问题处理措施 (11) 1 深圳市新朗建设工程有限公司 |

第一章工程概况 第一节工程概述 本工程位于深圳市龙城街道嶂背社区，西北面为长深高速，东北面为 宝荷路，南面为沙荷路。主要对嶂背一村及嶂背二村等居住区、赐昱鞋业 深圳、公司等工业区进行雨污分流改造，涉及改造面积4.07平方公里。 施工内容包括：路面、排污、水管道、排水箱涵、拆除并恢复道路、 人行道、绿化带，管线保护及迁改、水土保持及环境保护、交通疏解工程 等。 第二节设计情况 一、管网工程 （1）污水管网：D N200～600内肋增强聚乙烯螺旋波纹管18981m； 其中包括（φ700、φ1000、φ1250、φ1500）等规格的圆形污水检查 井781座；φ1000检查井护壁井4座；竖槽式跌水井44座；截污井5 座；顶管工作与接收井8座，以及其它设施。 （2）雨水管网：D N300～600内肋增强聚乙烯螺旋波纹管6840m； d800、d1000、d1200、d1350Ⅱ级钢筋砼管894m。其中包括平篦式单 箅雨水口498座；圆形砼雨水检查井267座；矩形直线砼检查井19座； 矩形90°三通砼雨水检查井6座；竖槽式跌水井4座；扇形混凝土检查 井2座；门字式管道出水口1座；八字式管道出水口1座；箱涵检查井 1座，以及其它设施。 （3）开挖与支护：管道开挖深度 1.0～5.0m，局部大于5m。按管 道开挖深度及管基土特性和管道周边建筑环境情况，分别进行了支护处理， 1 均采用集水明排。开槽深度H≤2m时，采取管道放坡开挖；开槽深度2

包装材料塑料薄膜性能的测试方法

包装材料塑料薄膜性能的测试方法 包装材料塑料薄膜性能的测试方法 信息来源：软包装 在塑料包装材料中，各种塑料薄膜、复合塑料薄膜具有不同的物理、机械、耐热以及卫生性能。人们根据包装的不同需要，选择合适的材料来使用。如何评价包装材料的性能呢？国内外测试方法有很多。我们应优先选择那些科学、简便、测量误差小的方法。优先选择ISO国际标准、国际先进组织标准，如ASTM、TAPPI等和我国国家标准、行业标准，如BB／T标准、QB／T标准、HB／T标准 等等。 笔者在从事检验工作中，使用过一些检测方法，下面向大家简单介绍一下。 规格、外观 塑料薄膜作为包装材料，它的尺寸规格要满足内装物的需要。有些薄膜的外观与货架效果紧密相连，外观有问题直接影响商品销售。而厚度又是影响机械性能、阻隔性的因素之一，需要在质量和成本上找到最优化的指标。因此这些指标就会在每个产品标准的要求中作 出规定，相应的要求检测方法一般有： 1.厚度测定 GB／T6672－2001《塑料薄膜和薄片厚度测定 机械测量法》该非等效采用ISO4593：1993《塑料－薄膜和薄片－厚度测定－机械测量法》。适用于薄膜和薄片的厚度的测定，是采用机械法测量即接触法，测量结果是指材料在两个测量平面间测得的结果。测量面对试样施加的负荷应在0.5N～1.0N之间。该方 法不适用于压花材料的测试。 2.长度、宽度 GB／T 6673－2001《塑料薄膜与片材长度和宽度的测定》非等效采用国际标准ISO4592：1992《塑料－薄膜和薄片－长度和

宽度的测定》。该标准规定了卷材和片材的长度和宽度的基准测量方法。 塑料材料的尺寸受环境温度的影响较大，解卷时的操作拉力也会造成材料的尺寸变化。测量器具的精度不同，也会造成测量结果的差异。因此在测量中必须注意每个细节，以求测量的结果接近真值。 标准中规定了卷材在测量前应先将卷材以最小的拉力打开，以不超过5m的长度层层相叠不超过20层作为被测试样，并在这种状 态下保持一定的时间，待尺寸稳定后在进行测量。 3.外观 塑料薄膜的外观检验一般采取在自然光下目测。外观缺陷在GB／T 2035《塑料术语及其定义》中有所规定。缺陷的大小一般需用 通用的量具，如钢板尺、游标卡尺等等进行测量。 物理机械性能 1.塑料力学性能——拉伸性能 塑料的拉伸性能试验包括拉伸强度、拉伸断裂应力、拉伸屈服应力、断裂伸长率等试验。 塑料拉伸性能试验的方法国家标准有几个，适用于不同的塑料拉伸性能试验。 GB／T 1040－1992《塑料拉伸性能试验方法》一般适用于热塑性、热固性材料，这些材料包括填充和纤维增强的塑料材料以及塑 料制品。适用于厚度大于1mm的材料。 GB／T13022－1991《塑料薄膜拉伸性能试验方法》是等效采用国际标准ISO1184－1983《塑料薄膜拉伸性能的测定》。适用于塑料薄膜和厚度小于1mm的片材，该方法不适用于增强薄膜、微孔片材、微孔膜的拉伸性能测试。 以上两个标准中分别规定了几种不同形状的试样，和拉伸速度，可根据不同产品情况进行选择。如伸长率较大的材料，不宜采用太宽的试样；硬质材料和半硬质材料可选择较低的速度进行拉伸试验，软质材料选用较高的速度进行拉伸试验等等。 2.撕裂性能 撕裂性能一般用来考核塑料薄膜和薄片及其它类似塑料材料抗撕裂的性能。 GB／T 16578－1996《塑料薄膜和薄片耐撕裂性能试验方法裤形撕裂法》是等效采用国际标准ISO 6383－1：1983《塑料－薄膜和薄片－耐撕裂性能的测定

光学薄膜应用及实例

光学薄膜应用及实例 光学薄膜是利用薄膜对光的作用而工作的一种功能薄膜，光学薄膜在改变光强方面可以实现分光透射、分光反射、分光吸收以及光的减反、增反、分束、高通、低通、窄带滤波等功能。光学薄膜的种类有很多，这些薄膜赋予光学元件各种使用性能，在实现光学仪器的功能和影响光学仪器的质量方面起着重要的或者决定性的作用。 传统的光学薄膜是现代光学仪器和各种光学器件的重要组 成部分，通过在各种光学材料的表面镀制一层或多层薄膜，利用光的干涉效应来改变透射光或反射光的光强、偏振状态和相位变化。薄膜可以被镀制在光学玻璃、塑料、光纤、晶体等各种材料表面上。它的厚度可从几个nm 到几十、上百个μm。光学薄膜可以得到很好的牢固性、光学稳定性，成本又比较低，几乎不增加材料的体积和重量，因此是改变系统光学参数的首选方法，甚至可以说没有光学薄膜就没有现代的光学仪器和各种光学器件。在两百多年的发展过程中，光学薄膜形成了一套完整的光学理论—薄膜光学。光学薄膜已广泛应用于各种光学器件(如激光谐振腔、干涉滤波片、光学镜头等)，不仅如此它在光电领域中的重要作用亦逐渐为人们所认识。光学薄膜是TFT-LCD面板制造的关键材料，它们为液晶显示提供一个均匀，明亮且饱满的面光源系统。（光

行天下配图） 减反射膜 假定光线垂直入射在表面上，这时表面的反射光强度与入射光的强度比值(反射率)只决定于相邻介质的折射率的比值： 折射率为1.52 的冕牌玻璃每个表面的反射约为4.2%左右．折射率较高的火石玻璃则表面反射更为显著。这种表面反射造成了两个严重的后果：光能量损失使象的亮度降低；表面反射光经过多次反射或漫射，有一部分成为杂散光，最后也到达象平面使象的衬度降低图象质量，特别是电视、电影摄影镜头等复杂系统都包含了很多个与空气相邻的表面，如不镀上增透膜其性能就会大大降低。应用于可见光谱区的光学仪器非常多，就其产量来说占据了减反射膜的绝大部分，几乎在所有的光学器件上都要进行减反处理。 单层减反膜是应用非常广泛的薄膜，也是最简单的膜系。考虑垂直入射的情况，即i = 0，并令 这时基片表面反射率完全被消除。在入射介质为空气的情况下，n0 =1，则在可见光区使用得最普遍的是折射率为1.52 左右的冕脾玻璃。理想的增透膜的折射率为1.23，但是至今能利用的薄膜的最低折射率是1.38( 氯化镁)。这虽然不很理想但也得到了相当的改进。当ns=1.52，nf=1.38，n0=1.0 时，由式(3)可得最低反射率为1.3%，即镀单层氟化镁后中心波 长的反射率从4.2%降至l.3%左右，整个可见光区平均反射

第二章 晶体结构与晶体缺陷

2-1 （a ）MgO 具有NaCl 结构。根据O 2-半径为0.140nm 和Mg 2+半径为0.072nm ，计算球状离子所占有的空间分数（堆积系数）。 （b ）计算MgO 的密度。 解：（a ）MgO 具有NaCl 型结构，即属面心立方，每个晶胞中含有4个Mg 2+和4个O 2-，故Mg 所占有体积为： 2233MgO Mg O 334 4()34 4(0.0720.140) 3 0.0522nm V R R ππ+- ?+?+＝＝＝ 因为Mg 2+和O 2-离子在面心立方的棱边上接触： 22Mg O 2()20.0720.1400.424nm a R R +-++＝＝（）＝（） 堆积系数＝％＝）（＝5.68424.00522 .033 MgO a V （b ） 37233 )10424.0(1002.6) 0.163.24(4·0MgO -???+?＝ ＝ a N M n D ＝3.51g/cm 3 2-2 Si 和Al 原子的相对质量非常接近（分别为28.09和26.98），但SiO 2和Al 2O 3的密度相差很大（分别为2.65g/cm 3和3.96g/cm 3）。试计算SiO 2和Al 2O 3的堆积密度，并用晶体结构及鲍林规则说明密度相差大的原因。 解： 首先计算SiO 2堆积系数。每cm 3中含SiO 2分子数为： 3223 22343223 2322223 2.65SiO /cm 2.6410/cm (28.0932.0)/(6.0310) Si /cm 2.6410/cm O /cm 2.64102 5.2810/cm +-?+?????＝ ＝个＝个＝＝个 每cm 3 中Si 4+ 和O 2- 所占体积为： 2-32273 Si432273 O 4 /cm 2.6410(0.02610)3 0.001954 /cm 5.2810(0.13810)3 0.5809V V ππ-+-????????＝＝＝＝ Si 2O 3晶体中离子堆积系数＝000195+0.5809＝0.5829或58.29％ Al 2O 3堆积系数计算如下：

质量缺陷事故处理方案

录目..................................................................................................... 2 .工程概况一、..................................................................................................... 2 .二、编制依据............................................................................................. 3 . 三、质量缺陷事故............................................................................................. 7 .四、处理工作流程............................................................................................. 8 .五、质量缺陷处理........................................................................................... 17 .六、质量事故处理

工程概况一、 座（编层商住楼6伟禄雅苑工程项目位于深圳市龙华新区观澜片区，拟建建筑物为34）A，层商务办公楼1座（编号G、），框剪结构，建筑高度97.5米；26、号BC、D、E、F、三座商住楼拟设地下室三层，地下一层为半、FD、E框剪结构，建筑高度为99.8米；其中层商务办26、G三座商住楼及一座9.0m地下室，西侧露出地面，基坑开挖深度约为；B、C栋，框1，工程等级为一级；3层幼儿园公楼（编号A）拟设地下室一层，开挖深度约4.0m，本场地总用地面积约为89.95m架结构，工程等级为三级；设计室外地坪标高为85.85～，场地勘察等级为甲级；按《建筑工程抗震设防分230514.94m232987.14m2，总建筑面积拟建建筑物抗震设防分类为丙类。GB50223-2008）和建筑体型及单栋居住人数，类 标准》（建设单位：深圳市夏普光电技术有限公司? 设计单位：深圳市建筑设计研究院总院有限公司? 勘察单位：深圳市勘察测绘院有限公司? 质监单位：深圳市质监总站? 安监单位：深圳市安监总站? 监理单位：深圳市九州建设监理有限公司? 施工单位：深圳市深港建筑集团有限公司? 编制依据二、伟禄雅苑工程施工图；? GB50300-2001 《建筑工程施工质量验收统一标准》?GB50207-2002 《屋面工程质量验收规范》?GB50209-2002 《建筑地面工程施工质量验收规 范》?GB50204-2002 《混凝土结构工程施工及验收规范》?GB50210-2001 《建筑装饰装修工程质量验收规范》?GB50208-2002 《地下工程防水工程质量验收

塑料薄膜的表面性能及其常规处理

塑料薄膜的表面性能及其常规处理 塑料薄膜在包装领域的应用最为广泛。塑料薄膜可用於食品包装、电器产品包装、日用品包装、服装包装等等。它们有一个共同点，就是对塑料薄膜都要进行彩色印刷，而作为食品包装还要进行多层复合或真空镀铝等工艺操作。因此，要求塑料薄膜表面自由能要高、湿张力要大，以有利於印刷油墨、粘合剂或镀铝层与塑料薄膜的牢固粘合；在塑料薄膜生产卷取和高速包装过程中，则要求薄膜表面有一定的摩擦性能防止薄膜粘连或打滑；在用於电器、电子产品等包装时，则要求薄膜具有一定的防静电性能等等。（本文已收录入《塑料薄膜行业终极参考资料宝典》） 塑料薄膜的表面张力 塑料薄膜的表面张力取决於塑料薄膜表面自由能大小，而薄膜表面能又取决於薄膜材料本身的分子结构。多数塑料薄膜如聚烯烃薄膜(LDPE、HDPE、LLDPE、PP)属非极性聚合物，其表面自由能小，表面湿张力较低，一般为30达因/厘米左右。理论上讲，若物体的表面张力低於33达因/厘米，普通的油墨或粘合剂就无法附着牢固，因此必须对其表面处理。聚酯类(PET、PBT、PEN、PETG)是属於极性高分子，其表面自由能较高，表面湿张力在40达因/厘米以上。但是对於高速彩色印刷或为增加真空镀铝层与BOPET薄膜表面之间的结合力，也还需要对BOPET薄膜进行表面处理，以进一步提高其表面湿张力。 塑料薄膜表面处理的方法有：电晕处理法、化学处理法、机械打毛法、涂层法等，其中最常采用的是电晕处理法。 电晕处理法的基本原理是：通过在金属电极与电晕处理辊(一般为耐高温、耐臭氧、高绝缘的硅橡胶辊)之间施加高频、高压电源，使之产生放电，於是使空气电离并形成大量臭氧。同时，高能量电火花冲击薄膜表面。在它们的共同作用下，使塑料薄膜表面产生活化、表面能增加。通过电晕处理可使聚烯烃薄膜的湿张力提高到38达因/厘米；可使聚酯薄膜的表面湿张力达到52-56达因/厘米以上。电晕处理塑料薄膜表面湿张力的大小与施加於 电极上的电压高低、电极与电晕处理辊之间的距离等因素有关。当然，电晕处理应当适度，并非电晕处理强度越高越好。这里值得注意的是塑料薄膜与电晕处理辊之间应避免夹入空 气，否则有可能使薄膜的反面也被电晕处理了。反面电晕造成的後果是：1有可能产生油墨

质量缺陷、事故处理方案

温州市信河街中段改建安置房B区Ⅰ标 质 量 缺 陷 、 事 故 处 理 方 案 编制人： 审核人： 编制单位：中宇建设集团有限公司

ZNJL/JL-02.1A 施工组织设计（方案）报审表 工程名称：信河街中段改建安置房B区Ⅰ标编号: 装 订 线 本表一式四份，经监理单位审批后，建设单位、监理单位、承包单位、城建档案馆各存一份。

质量缺陷、事故处理方案 一、质量缺陷处理 1．对于质量缺陷的工程，承包人根据质量缺陷的原因提出不同的处理意见，报驻地办批准，驻地办应在对质量缺陷生产的原因作出判定并确定了补救方案后及时指令承包人进行修补、加固或返工处理。处理中监理工程师应监督检查，缺陷工程处理后，应经监理工程师验收。 2．质量缺陷的现场处理 在各项工程的施工过程中或完工以后，现场质检人员如发现工程项目存在着技术规范所不容许的质量缺陷，应根据质量缺陷的性质和严重程度，按如下方式处理： (1)当因施工而引起的质量缺陷处在萌芽状态时，应及时制止，并上报负责人立即更换不合格的材料、设备或不称职的施工人员；或要求立即改变不正确的施工方法及操作工艺。 (2)当因施工而引起的质量缺陷已出现时，应立即向施工人员发出暂停施工的指令(先口头后书面)，待采取了能足以保证施工质量的有效措施，并对质量缺陷进行了正确的补救处理后，再恢复施工。 (3)质量缺陷发生在某道工序或单项工序完工以后，而且质量缺陷的存在将对下道工序或分项工程产生质量影响时，应在对质量缺陷产生的原因及责作作出了判定确定了补救方案后，再进行质量缺陷的处理或下道工序或分项的施工。 (4)在交工使用后的缺陷责任期内发现施工质量缺陷时，承包人应及时进行修补、加固或返工处理。

塑料薄膜性能测试

塑料薄膜性能测试（PVC） 聚氯乙烯简介 2009年04月16日10:23凤凰网财经【大中小】【打印】已有评论0条 聚氯乙烯(Polyvinyl Chloride)，简称PVC，是我国重要的有机合成材料。其产品具有良好的物理性能和化学性能，广泛用于工业、建筑、农业、日用生活、包装、电力、公用事业等领域。 从产品分类看，PVC属于三大合成材料(合成树脂、合成纤维、合成橡胶)中的合成树脂类，其中包括五大通用树脂，聚乙烯PE、聚氯乙烯PVC、聚丙烯PP、聚苯乙烯PS、ABS 树脂。 一、聚氯乙烯简介 聚氯乙稀是一种无毒、无臭的白色粉末。化学稳定性很高，具有良好的可塑性。除少数有机溶剂外，常温下可耐任何浓度的盐酸、90%以下的硫酸、50~60%的硝酸及20%以下的烧碱，对于盐类亦相当稳定；PVC的热稳定性和耐光性较差，在140℃以上即可开始分解并放出氯化氢(HCl)气体，致使PVC变色。电绝缘性优良，一般不会燃烧，在火焰上能燃烧并放出HCl，但离开火焰即自熄，是一种“自熄性”、“难燃性”物质。主要用于生产透明片、管件、金卡、输血器材、软、硬管、板材、门窗、异型材、薄膜、电绝缘材料、电缆护套、输血料等。 聚氯乙烯由氯乙烯单体通过自由基聚合而成，聚合度n一般在500~20000范围内，其分子结构式如下： 二、聚氯乙稀的分类及表示方法 1、聚氯乙稀的分类 根据生产方法的不同，PVC可分为：通用型PVC树脂、高聚合度PVC树脂、交联PVC

树脂。通用型PVC树脂是由氯乙烯单体在引发剂的作用下聚合形成的；高聚合度PVC树脂是指在氯乙烯单体聚合体系中加入链增长剂聚合而成的树脂；交联PVC树脂是在氯乙烯单体聚合体系中加入含有双烯和多烯的交联剂聚合而成的树脂。 根据氯乙烯单体的获得方法来区分，可分为电石法、乙烯法和进口(EDC、VCM)单体法(习惯上把乙烯法和进口单体法统称为乙烯法)。 根据聚合方法，聚氯乙烯可分为四大类：悬浮法聚氯乙烯，乳液法聚氯乙烯、本体法聚氯乙烯、溶液法聚氯乙烯。悬浮法聚氯乙烯是目前产量最大的一个品种，约占PVC总产量的80%左右。下面图表列出这四种聚氯乙烯的基本特性。 图表1：聚氯乙烯树脂 2、聚氯乙稀的命名 悬浮法聚氯乙烯按绝对黏度[1]分六个型号：XS-1、XS-2……XS-6；XJ-1、XJ-2……、XJ-6。型号中各字母的意思：X-悬浮法；S-疏松型；J-紧密型；下面图表为国产悬浮法聚氯乙烯的特性。 图表1：悬浮法聚氯乙烯树脂

光学薄膜

光学薄膜技术 1、薄膜应力研究的重要性光学多层膜系统已经广泛的应用于微电子系统，光学系统等，而由于薄膜应力的存在，对系统的功能与可靠性产生很大的影响，它不仅会直接导致薄膜的龟裂、脱落，使薄膜损坏，而且会作用基体，使基体发生形变，从而使通过薄膜元件的光波 今日推荐：等离子体状态对薄膜微结构的影响注：本文使用PECVD方法在电阻率为4～7cm的n型Si(100)衬底上沉积SiC薄膜，实验装置为一内径为50mm 的水平石英管，外置加热炉及13.56MHz的射频源。衬底经过甲苯、丙酮、乙醇的超声波清洗后经10min 的氢等离子体蚀刻。...点击“等离子体状态对薄膜微结构的影响”查看详情。 光学薄膜技术: 1、薄膜应力研究的重要性 光学多层膜系统已经广泛的应用于微电子系统，光学系统等，而由于薄膜应力的存在，对系统的功能与可靠性产生很大的影响，它不仅会直接导致薄膜的龟裂、脱落，使薄膜损坏，而且会作用基体，使基体发生形变，从而使通过薄膜元件的光波前发生畸变，影响传输特性。更重要的是，薄膜在激光辐照下，由于应力的存在，加速了薄膜内热力耦合作用，是其破坏的敏感因素，因此很有必要研究光学多层膜系统中的残余应力，并设法控制其发展。 2、薄膜应力的成因 薄膜应力主要包括热应力与生长应力：热应力是当薄膜从沉积温度冷却到室温的过程中，由于薄膜与基底的热膨胀系数不同引起的；生长应力存在于所有镀膜方法（如真空蒸发、阴极溅射或气相沉积）制作的薄膜中，其最大值可达 109N/m2。它的大小与由薄膜和基底材料以及制备工艺条件有关。 3、光学薄膜缺陷的特点 薄膜缺陷的研究大约从1970开始，刚开始薄膜缺陷被表征为薄膜表面特征，

质量通病防治及缺陷修补方案

目录 一、工程概况 (2) 二、质量通病的防治措施 (2) 三、修补总则及报验制度 (7) 四、修补作业依据及验收规矩 (7) 五、修补组织机构 (7) 六、修补前准备工作 (8) 七、具体质量缺陷及修补方案 (8) 八、质量、安全保证措施 (12)

混凝土质量缺陷修补方案 一、工程概况 路劲.御城二期A-1工程，位于洛阳市华夏路南侧，天中路东侧，主楼为钢筋混凝土剪力墙结构，6#、7#、8#、9#、11#、12#、13#、20#楼为地下2层，地上7层；10#、21#楼地下2层，地上18层；地下车库为地下1层，总建筑面积为103935.2㎡。该工程路劲房地产开发集团有限公司开发；天津方标世纪规划建筑设计有限公司设计；由河南天兴工程建设监理有限公司监理；江苏南通二建集团有限公司承建。 本工程为高层二类住宅，抗震设防类别为丙类；抗震设防烈度7度；抗震构造措施车库为四级，高层与洋房为三级；屋面防水Ⅱ级，地下工程防水等级一级。设计使用年限50年，耐火等级为地上二级，地下一级。 二、质量通病防治措施 1.蜂窝混凝土结构局部出现酥松、砂浆少、石子多、石子之间形成类似蜂窝的空隙。 原因分析1)混凝土配合比不当或砂、石子、水泥材料加水量计量不准，造成砂浆少、石子多。(2)混凝土搅拌时间不够，未拌合均匀，和易性差，振捣不密实。(3)下料不当或下料过高，未设串筒使石子集中，造成石子砂浆离析。 (4)混凝土未分层下料，振捣不实，或漏振，或振捣时间不够。(5)模板缝隙未堵严，水泥浆流失。(6)钢筋较密，使用的石子粒径过大或坍落度过小。(7)基础、柱、墙根部未稍加间歇就继续浇灌上层混凝土。 防治措施：认真设计、严格控制混凝土配合比，经常检查，计量准确，混

质量缺陷修补方案

目录 一、工程概况及修补总则 (2) 二、修补作业依据及验收规范 (3) 三、修补组织机构 (3) 四、修补前准备工作 (3) 五、具体修补方案 (4) 六、工艺注意事项 (8) 七、质量、安全保证措施 (10)

质量缺陷修补方案 一、工程概况及修补总则 工程概况 工程名称现代南汇花苑 建设单位温州锦华房地产开发有限公司 质量监督单位温州市鹿城区质量监督站 设计单位杭州市建筑设计研究院 监理单位浙江大成工程项目管理有限公司 勘查单位温州市勘察测绘研究院 施工总承包单位歌山建设集团有限公司 总建筑面积（m2）218233.33 m2 合同范围结构工程主体的土建、水电安装及施工图纸所有内容 合同性质总承包 合同工期（天）999天 质量目标合格 安全文明标化目标市级安全文明标化工地 混凝土强度等级 标高柱、墙梁、板地下室外墙 地下室 C 4 0、C3 5 C35 C4 O、C3 5 地上一层~六层C4O C35 地上六层~三十二层 C 3 5、C3 0 C35、C30 项目部对管理楼质量缺陷修补处理总原则是：“不隐蔽，端正思想，仔细分析成因，正确对待，妥善处理”。混凝土外观缺陷主要存在结构部位为柱、内墙、楼板表面，混凝土缺陷形式主要表现在表面颜色不均匀、蜂窝麻面、表观微裂纹、表面脚印、露筋、表面破损等质量通病，砌筑问题主要是构造

柱顶端漏植筋、墙顶未塞缝、墙体砌筑外观较差等，根据不同的缺陷形式及不同结构部位分析其生成原因，给出合理的解决办法，对已经产生的缺陷进行处理、修复。 二、修补作业依据及验收规范 1、项目经理部作业人员的技术总结及施工经验； 2、《建筑工程施工质量验收统一标准》GB50300-2013 3、《砼结构工程施工质量验收规范》GB50204-2015 4、《建筑施工手册》第四版； 5、《砌体工程施工质量验收规范》GB50203-2011 三、修补组织机构 项目经理部成立以项目经理为组长，技术负责人为副组长的质量缺陷修补领导小组，组员由工程部、质量部及技术部组成。各职能部门充分发挥主观能动性，对质量缺陷修补过程中出现的问题及时解决。项目经理部和混凝土浇筑班组要成立相应的实施小组，由质检员、班组长为具体负责人，负责质量缺陷修补，组织所属管辖范围内的施工修补和管理工作，其组员由专业工长、技术人员担任，负责技术支持和指导实施方面的工作。成立专业质量缺陷修补队伍，其人数不少于10人。 四、修补前准备工作 1、提高修补施工人员素质和技能 要从组织上、思想上切实做好修补前的各项准备工作，认真学习混凝土工程质量相关规范和验收标准，开展质量缺陷修补安全生产知识的宣传、教

第一章 晶体结构与晶体中的缺陷

第一章晶体结构与晶体中的缺陷 一、名词解释 1．正尖晶石与反尖晶石；2．弗伦克尔缺陷与肖特基缺陷； 3．刃位错与螺位错；4．固溶体；5．非化学计量化合物： 二、填空与选择 2．在硅酸盐结构分类中，下列矿物Ca[Al2Si2O8]；CaMg[Si2O6]；β-Ca2SiO4和Mg3[Si4O10](OH)2，分别属于；；；和四类。 3．在负离子作立方密堆的晶体中，为获得稳定的晶体结构，正离子将所有八面体空隙位置填满的晶体有，所有四面体空隙均填满的晶体有，填满一半八面体空隙的晶体有，填满一半四面体空隙的晶体有。 4．在尖晶石（MgAl2O4）型晶体中，O2－作面心立方最紧密堆积，Mg2＋填入了；金红石晶体中，所有O2－作稍有变形的六方密堆，Ti4＋填充了。（A全部四面体空隙；B 全部八面体空隙；C四面体空隙的半数；D八面体空隙的半数；E四面体空隙的八分之一；F八面体空隙的八分之一） 5．构成层状硅酸盐的[Si2O5]片中的Si4＋，通常被一定数量的Al3＋所取代，为满足鲍林第二规则（静电价规则），在层状结构中结合有（OH）－离子和各种二价正离子或三价正离子。这种以Al3＋取代Si4＋的现象，称为。（ A同质多晶（同质多象）；B类质同晶；C有序－无序转化；D同晶置换（同晶取代）） 6．高岭石与蒙脱石属于层状硅酸盐结构，前者的结构特征是，后者的结构特征是。（A二层型三八面体结构；B三层型三八面体结构；C二层型二八面体结构；D 三层型二八面体结构） 7．在石英的相变中，属于重建型相变的是，属于位移式相变的是。（A α-石英→α-鳞石英；B α-石英→β-石英；C α-鳞石英→α-方石英；D α方石英→β-方石英） 8．晶体结构中的热缺陷有和二类。 9．CaO掺杂到ZrO2中，其中置换了。由于电中性的要求，在上述置换同时产生一个空位。以上置换过程可用方程式表示。10．由于的结果，必然会在晶体结构中产生"组分缺陷"，组分缺陷的浓度主要取决于：和。 11．晶体线缺陷中，位错线与和垂直的是位错；位错线与二者平行的是位错。

混凝土缺陷处理方案

目录 一、工程概况及编制依据 (2) 二、混凝土产生外观缺陷的原因分析 (2) 三、混凝土外观缺陷的处理方法 (2) （一）露筋 (3) （二）峰窝、麻面 (4) （三）孔洞 (5) （四）夹渣 (6) （五）疏松 (7) （六）裂缝 (7) （七）连接部位缺陷 (9) （八）外形缺陷 (10) （九）外表缺陷 (11) 四、安全注意事项 (12) 五、安全检查事项 (12) 六、文明施工和环境保护措施 (12)

混凝土缺陷处理方案 一、工程概况及编制依据 1.1、工程概况 本工程建筑结构形式为框架结构，抗震设防烈度7度，建筑耐火等级2级。条形基础，建筑面积27180平米，地上最高5层，建筑高度18米。 主体工程混凝土强度等级：垫层C15，基础，框架柱、梁板C35，构造柱C25。 1.1.2、编制依据 依据《混凝土结构工程施工规》GB 50666-2011；《混凝土结构工程施工质量验收规》GB 50204-2002（2011年版）及本工程施工组织设计相关容。 针对混凝土构件拆模后，出现的表面显露的如麻面、蜂窝、露筋、掉角、孔洞等施工外观缺陷；混凝土外型结构涨模等质量缺陷，采取以下相应处理措施。 二、混凝土产生外观缺陷的原因分析 混凝土本身是一种多相（体积比气相2～5%、液相13～18%、固相77～85%），多孔（凝胶孔、层间孔、毛细孔、气泡粗孔和裂缝等）存在部原生缺陷的不均匀不连续体，另外，由于所用原材料质量的波动、计量的误差，搅拌不充分而易使新拌混凝土出现分层离析、泌水、干涩、板结等和易性不良的特征；又由于施工过程中模板和钢筋制作的偏差，以及浇注、振捣、成型、养护等施工操作的不当，都可以引起现浇结构的外观质量缺陷。 三、混凝土外观缺陷的处理方法 3.1、根据国家标准GB 50204-2002《混凝土结构工程施工质量验收规》（2011年版）第8.1.1