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色母粒的生产工艺流程

色母粒的生产工艺流程
色母粒的生产工艺流程

色母粒生产工艺流程

1、产品的学名,俗语名及流程工艺

产品学名按材料分为各色着色母粒:聚乙烯、聚丙烯、ABS、HIPS/PS、尼龙、聚酯、丙纶纺丝、珠光、PE电缆护套、通讯电缆、PE发泡,PS发泡色母粒。

按功能分为抗静电、阻燃、抗老化、增透、增白增亮色母粒。

按颜色分为黑、白、黄、绿、红、橙、棕、蓝、银、金、紫、灰、粉红、珠光、仿大理石纹(流纹)、木纹色母粒。

色母粒生产工艺要求很严格,一般采用湿法工艺。色母粒料经水相研磨、转相、水洗、干燥、造粒而成,只有这样产品质量才能得到保证。另外颜料在研磨处理的同时,还应进行一系列检测,如测定砂磨浆液的细度、测定砂磨浆液的扩散性能、测定砂磨浆液的固体含量以及测定色浆细度等项目。

色母粒料生产的工艺流程有四种方法:

(1)油墨法:顾名思义,是在色母粒生产中采用油墨色浆的生产方法,即通过三辊研磨,在颜料表面包覆一层低分子保护层。研磨后的细色浆再和载体树脂混合,然后通过二辊塑炼机(也叫双辊开炼机)进行塑化,最后通过单螺杆或双螺杆挤出机进行造粒。

其流程如下:

(1)配料搅拌粗色浆三辊研磨细色浆二辊塑炼挤出造粒

(2)冲洗法:是颜料、水和分散剂通过砂磨,使颜料颗粒小于1μm,并通过相转移法,使颜料转入油相,然后干燥制得色母粒。转相时需要用有机溶剂,以及相应的溶剂回收装置。其流程如下图:

细色浆冲洗蒸发浓缩料干燥加入载体挤出造粒

(3)捏合法:是将颜料和油性载体掺混后,利用颜料亲油这一特点,通过捏合使颜料从水相冲洗进入油相。同时又由油性载体将颜料表面包覆,使颜料分散稳定,防止颜料凝聚。

(4)金属皂法:是颜料经过研磨后粒度达到1μm左右,并在一定温度下加入皂液,使每个颜料颗粒表面层均匀地被皂液所润湿,形成一层皂化液,当金属盐溶液加入后与在颜料表面的皂化层化学反应而生成一层金属皂的保护层(硬脂酸镁),这样就使经磨细后的颜料颗粒不会引起絮凝现象,而保护一定的细度。

2、主要生产设备,对环境影响的程度。

主要生产设备包括同向平行双螺杆挤出机、单螺杆挤出机、高、低速捏和机、往复式单螺杆混炼机等等。对环境产生的影响程度取决于全面推行清洁生产,采用先进生产工艺技术和更换环保的原料,创造条件实行污染物集中治理,实现排放的废物资源化,无害化减少对环境影响程度。

3、生产规模,产能规模,未来效益,一期投产时间。

该项目占地一百亩,总投资2000万美元,注册资金为800万美元。可解决300人就业问题,企业可年产各种塑胶颜料500

吨,及母色粒12000吨,年销售额约为2亿人民币,可创下税收600万。一期投资时间

4、需开发区配套的设施:三相电,照明电、水、气等等。

晶圆制造工艺流程和处理工序

晶圆制造工艺流程和处理工序 晶圆制造工艺流程 1、表面清洗 2、初次氧化 3、CVD(Chemical Vapor deposiTIon) 法沉积一层Si3N4 (Hot CVD 或LPCVD) 。(1)常压CVD (Normal Pressure CVD) (2)低压CVD (Low Pressure CVD) (3)热CVD (Hot CVD)/(thermal CVD) (4)电浆增强CVD (Plasma Enhanced CVD) (5)MOCVD (Metal Organic CVD) 分子磊晶成长(Molecular Beam Epitaxy) (6)外延生长法(LPE) 4、涂敷光刻胶(1)光刻胶的涂敷(2)预烘(pre bake) (3)曝光(4)显影(5)后烘(post bake) (6)腐蚀(etching) (7)光刻胶的去除 5、此处用干法氧化法将氮化硅去除 6 、离子布植将硼离子(B+3) 透过SiO2 膜注入衬底,形成P 型阱 7、去除光刻胶,放高温炉中进行退火处理 8、用热磷酸去除氮化硅层,掺杂磷(P+5) 离子,形成N 型阱 9、退火处理,然后用HF 去除SiO2 层 10、干法氧化法生成一层SiO2 层,然后LPCVD 沉积一层氮化硅 11、利用光刻技术和离子刻蚀技术,保留下栅隔离层上面的氮化硅层 12、湿法氧化,生长未有氮化硅保护的SiO2 层,形成PN 之间的隔离区 13、热磷酸去除氮化硅,然后用HF 溶液去除栅隔离层位置的SiO2 ,并重新生成品质更好的SiO2 薄膜, 作为栅极氧化层。 14、LPCVD 沉积多晶硅层,然后涂敷光阻进行光刻,以及等离子蚀刻技术,栅极结构,并氧化生成SiO2 保护层。 15、表面涂敷光阻,去除P 阱区的光阻,注入砷(As) 离子,形成NMOS 的源漏极。用同样的方法,在N 阱区,注入B 离子形成PMOS 的源漏极。 16、利用PECVD 沉积一层无掺杂氧化层,保护元件,并进行退火处理。

生产工艺流程控制的规程

生产工艺流程控制的规程(草稿) 一、目的 为加强企业的生产工艺流程控制,全面提升产品的制作质量,降低生产成本,各相关部门和人员按照优化5M1E(注1)的原则进行生产活动,增强企业的竞争力,特制订本规程。 ——注1:5M1E分别是英文-人员、机器、材料、方法、测量和环境的单词首位字母。 二、使用范围 本集团下属各公司的应依据本规程来制订、执改进行、生产工艺流程、对其结果进行考核、奖惩,除另有规定外,均以本规程执行; 三、规程的内容: 1、工艺流程涉及的部门(体系化) 工艺流程涉及的部门有:各公司的技术部、生产部、质检部、和集团采购部。 2、管理责任(制度化) (1)各公司技术部责任 a,制定合理的工艺流程文件 各公司的技术部依据产品任务单,制定生产工艺流程的文件,工艺流程文件的主要是以下三种类: ——工艺过程卡片;

——工序卡片; ——操作说明书; 工艺流程的卡片和操作说明书中应包含:图纸(加工的工件图纸以及关键步骤和重要环节都有图纸说明)、加工工序、加工方法及对环境的要求、检验及方法、产品的包装、工时定额、材料和物耗定额、使用的设备和工装、加工工具、对特殊工件的吊装位置及方法、包装方法、加工的起始时间、责任者的签名等,总之应当是实际工作中涉及的工序和各个工序中要点(5M1E)都要简约地反映在流程中;——注2:工时定额和物耗定额:在实际中灵活应用和执行,对于首件和单件生产可以是定性管理;对于3-5件的小批量生产应当是首件完成后,对出其余件进行的半定量管理,就是给个范围值;对于成熟的大批量生产件应当是定量管理,就是应当给出固定的定额;——注3:可以有空项,按实际生产中需要的项目编写,应当简要全面部不应当有漏项;各个公司在制定工艺流程时,可以是表格式、卡片式、文字表述式,只要能在实际生产中,对生产的产品有以下作用即可--加工的指导、检验指导、记录完整(可以追溯产品的加工历史);b,根据生产出现的问题,可以用工艺流程附加单的形式进行补充及修改,必要时废除老工艺,重新制定新工艺; c,会同质检部门处理质量异常问题。 (2)各公司生产部责任

生产工艺流程图及说明

(1)电解 本项目电解铝生产采用熔盐电解法:其主要生产设备为预焙阳极电解槽,项目设计采用大面六点进电SY350型预焙阳极电解槽。铝电解生产所需的主要原材料为氧化铝、氟化铝和冰晶石,原料按工艺配料比例加入350KA 预焙阳极电解槽中,通入强大的直流电,在945-955℃温度下,将一定量砂状氧化铝及吸附了电解烟气中氟化物的载氟氧化铝原料溶解于电解质中,通过炭素材料电极导入直流电,使熔融状态的电解质中呈离子状态的冰晶石和氧化铝在两极上发生电化学反应,氧化铝不断分解还原出金属铝——在阴极(电解槽的底部)析出液态的金属铝。 电解槽中发生的电化学反应式如下: 2323497094032CO Al C O Al +?-+℃ ℃直流电 在阴极(电解槽的底部)析出液态的金属铝定期用真空抬包抽出送往铸造车间经混合炉除渣后由铸造机浇铸成铝锭。电解过程中析出的O 2同阳极炭素发生反应生成以CO 2为主的阳极气体,这些阳极气体与氟化盐水解产生的含氟废气、粉尘等含氟烟气经电解槽顶部的密闭集气罩收集后送到以Al 2O 3为吸附剂的干法净化系统处理,净化后烟气排入大气。被消耗的阳极定期进行更换,并将残极运回生产厂家进行回收处置。吸附了含氟气体的截氟氧化铝返回电解槽进行电解。 电解槽是在高温、强磁场条件下连续生产作业,项目设计采用大面六点进电SY350型预焙阳极电解槽,是目前我国较先进的生产设备。电解槽为6点下料,交叉工作,整个工艺过程均自动控制。电解槽阳极作业均由电解多功能机组完成。多功能机组的主要功能为更换阳极、吊运出铝抬包出铝、定期提升阳极母线、打壳加覆盖料等其它作业。 (2)氧化铝及氟化盐贮运供料系统 氧化铝及氟化盐贮运系统的主要任务是贮存由外购到厂的氧化铝和氟化盐 ,并按需要及时将其送到电解车间的电解槽上料箱内。

晶圆生产工艺与流程介绍

晶圆的生产工艺流程介绍 从大的方面来讲,晶圆生产包括晶棒制造和晶片制造两大步骤,它又可细分为以下几道主要工序(其中晶棒制造只包括下面的第一道工序,其余的全部属晶片制造,所以有时又统称它们为晶柱切片后处理工序) :晶棒成长--> 晶棒裁切与检测--> 外径研磨--> 切片--> 圆边--> 表层研磨--> 蚀刻--> 去疵--> 抛光--> 清洗--> 检验--> 包装 1.晶棒成长工序:它又可细分为: 1).融化( Melt Down ) 将块状的高纯度复晶硅置于石英坩锅内,加热到其熔点1420°C 以上,使其完全融化。 2).颈部成长( Neck Growth ) 待硅融浆的温度稳定之后,将〈1.0.0 〉方向的晶种慢慢插入其中,接着将晶种慢慢往上提升,使其直径缩小到一定尺寸(一般约6mm 左右),维持此直径并拉长100-200mm ,以消除晶种内的晶粒排列取向差异。3).晶冠成长( Crown Growth ) 颈部成长完成后,慢慢降低提升速度和温度,使颈部直径逐渐加大到所需尺寸(如5、6、8、12 吋等)。4).晶体成长( Body Growth ) 不断调整提升速度和融炼温度,维持固定的晶棒直径,只到晶棒长度达到预定值。 5).尾部成长( Tail Growth ) 当晶棒长度达到预定值后再逐渐加快提升速度并提高融炼温度,使晶棒直径逐渐变小,以避免因热应力造成排差和滑移等现象产生,最终使晶棒与液面完全分离。到此即得到一根完整的

晶棒。 2.晶棒裁切与检测( Cutting & Inspection ) 将长成的晶棒去掉直径偏小的头、尾部分,并对尺寸进行检测,以决定下步加工的工艺参数。 3.外径研磨( Surface Grinding & Shaping ) 由于在晶棒成长过程中,其外径尺寸和圆度均有一定偏差,其外园柱面也凹凸不平,所以必须对外径进行修整、研磨,使其尺寸、形状误差均小于允许偏差。 4.切片( Wire Saw Slicing ) 由于硅的硬度非常大,所以在本工序里,采用环状、其内径边缘镶嵌有钻石颗粒的薄片锯片将晶棒切割成一片片薄片。 5.圆边( Edge Profiling ) 由于刚切下来的晶片外边缘很锋利,硅单晶又是脆性材料,为避免边角崩裂影响晶片强度、破坏晶片表面光洁和对后工序带来污染颗粒,必须用专用的电脑控制设备自动修整晶片边缘形状和外径尺寸。 6.研磨( Lapping ) 研磨的目的在于去掉切割时在晶片表面产生的锯痕和破损,使晶片表面达到所要求的光洁度。 7.蚀刻( Etching ) 以化学蚀刻的方法,去掉经上几道工序加工后在晶片表面因加工应力而产生的一层损伤层。 8.去疵( Gettering ) 用喷砂法将晶片上的瑕疵与缺陷感到下半层,以利于后序加工。

晶圆封装测试工序和半导体制造工艺流程

A.晶圆封装测试工序 一、 IC检测 1. 缺陷检查Defect Inspection 2. DR-SEM(Defect Review Scanning Electron Microscopy) 用来检测出晶圆上是否有瑕疵,主要是微尘粒子、刮痕、残留物等问题。此外,对已印有电路图案的图案晶圆成品而言,则需要进行深次微米范围之瑕疵检测。一般来说,图案晶圆检测系统系以白光或雷射光来照射晶圆表面。再由一或多组侦测器接收自晶圆表面绕射出来的光线,并将该影像交由高功能软件进行底层图案消除,以辨识并发现瑕疵。 3. CD-SEM(Critical Dimensioin Measurement) 对蚀刻后的图案作精确的尺寸检测。 二、 IC封装 1. 构装(Packaging) IC构装依使用材料可分为陶瓷(ceramic)及塑胶(plastic)两种,而目前商业应用上则以塑胶构装为主。以塑胶构装中打线接合为例,其步骤依序为晶片切割(die saw)、黏晶(die mount / die bond)、焊线(wire bond)、封胶(mold)、剪切/成形(trim / form)、印字(mark)、电镀(plating)及检验(inspection)等。 (1) 晶片切割(die saw) 晶片切割之目的为将前制程加工完成之晶圆上一颗颗之晶粒(die)切割分离。举例来说:以0.2微米制程技术生产,每片八寸晶圆上可制作近六百颗以上的64M微量。 欲进行晶片切割,首先必须进行晶圆黏片,而后再送至晶片切割机上进行切割。切割完后之晶粒井然有序排列于胶带上,而框架的支撐避免了胶带的皱褶与晶粒之相互碰撞。 (2) 黏晶(die mount / die bond) 黏晶之目的乃将一颗颗之晶粒置于导线架上并以银胶(epoxy)粘着固定。黏晶完成后之导线架则经由传输设备送至弹匣(magazine)内,以送至下一制程进行焊线。 (3) 焊线(wire bond) IC构装制程(Packaging)则是利用塑胶或陶瓷包装晶粒与配线以成集成电路(Integrated Circuit;简称IC),此制程的目的是为了制造出所生产的电路的保护层,避免电路受到机械性刮伤或是高温破坏。最后整个集成电路的周围会向外拉出脚架(Pin),称之为打线,作为与外界电路板连接之用。

工艺设计管理控制程序文件

Q/BD 广东标顶技术股份有限公司企业标准 BD-CXWJ-07 工艺管理控制程序 2011-04-20 发布2017-07-01换版后实施

广东标顶技术股份有限公司发布

1.0目的 加强产品生产过程的工艺管理,用工艺文件来指导生产作业,是科学管理生产、保证产品质量、合理利用各种资源、提高工作效率的根本保障,为此特制定本程序。 2.0 适用范围 本程序适用于公司已有的所有产品、全新产品和改进、改型的新产品。 3.0 术语和定义 3.1本程序文件采用GB/T19001 IDT ISO9001:2015标准中术语、定义和ISO/TS22163技术规范术语和定义以及下述术语和定义。 3.2工艺:将原材料或半成品加工成产品的方法、技术等。 3.3工艺文件:主要是把如何在过程中实现成最终的产品的操作文件。 3.4工艺过程卡(工艺路线卡):它规定整个生产过程中,产品(或零件)所要经过的车间、工序等总的加工路线及所有使用的设备和工艺装备。工艺过程卡不需绘制工艺简图。在小批量生产时,可与产品图纸配合,直接指导操作。在大批量生产时,可以作为工序卡片的汇总文件。如机加工工艺过程卡、装配工艺过程卡。

3.5工艺卡:是针对某一工艺阶段编制的一种加工路线工艺,它规定了零件在这一阶段的各道工序,以及使用的设备、工装和加工规范。如喷涂工艺卡、电镀工艺卡。 3.6工序卡:是规定某一工序内具体加工要求的文件。除工艺守则已作出规定的之外,一切与工序有关的工艺内容都集中在工序卡上。如机加工工序卡、装配工序卡。 3.7 检验卡:这是根据产品标准、图样、技术要求和工艺规范对产品及其零部件的质量特性、检测内容、要求、手段作出规定的工艺文件,主要用在关键工序的检查。 4.0职责 4.1研发部负责制定工艺管理制度,并组织贯彻实施与检查。 负责产品图样工艺性审查及工艺归口管理工作。 负责工艺策划,工艺方案设计及工艺标准化要求。 负责提供编制工艺文件所需的产品图样及有关技术文件;负责工艺技术文件的编制、审核及发布实施。 负责对生产现场工艺纪律监督检查工作。 负责编制技术改造规划、工艺布置、外购设备的选型论证等技术改造工作。 负责对工装、工位器具等的设计工作。 负责解决现场工艺技术问题,对产品故障进行分析、处理。 负责新工艺、新材料、新技术的推广应用工作。 4.2 生产部负责协助研发部制定工艺文件,对工艺文件进行会签。 负责按工艺文件要求组织生产、工艺装备的准备工作。 负责工艺纪律的执行,工艺装备的制造、使用、管理工作。 负责按工艺文件要求,对人员进行工艺培训、工艺文件规范化操作培训、岗位技能培训。 负责生产设备的管理工作,保证设备处于完好状态,满足工艺要求。 4.3质量管理部负责按工艺文件要求对外购外协物料进行入厂检验;负责对检验过程中出现

【半导体研磨 精】半导体晶圆的生产工艺流程介绍

?从大的方面来讲,晶圆生产包括晶棒制造和晶片制造两大步骤,它又可细分为以下几道主要工序(其中晶棒制造只包括下面的第一道工序,其余的全部属晶片制造,所以有时又统称它们为晶柱切片后处理工序): 晶棒成长--> 晶棒裁切与检测--> 外径研磨--> 切片--> 圆边--> 表层研磨--> 蚀刻--> 去疵--> 抛光--> 清洗--> 检验--> 包装 1 晶棒成长工序:它又可细分为: 1)融化(Melt Down) 将块状的高纯度复晶硅置于石英坩锅内,加热到其熔点1420°C以上,使其完全融化。 2)颈部成长(Neck Growth) 待硅融浆的温度稳定之后,将〈1.0.0〉方向的晶种慢慢插入其中,接着将晶种慢慢往上提升,使其直径缩小到一定尺寸(一般约6mm左右),维持此直径并拉长 100-200mm,以消除晶种内的晶粒排列取向差异。 3)晶冠成长(Crown Growth) 颈部成长完成后,慢慢降低提升速度和温度,使颈部直径逐渐加大到所需尺寸(如 5、6、8、12吋等)。 4)晶体成长(Body Growth) 不断调整提升速度和融炼温度,维持固定的晶棒直径,只到晶棒长度达到预定值。 5)尾部成长(Tail Growth) 1

当晶棒长度达到预定值后再逐渐加快提升速度并提高融炼温度,使晶棒直径逐渐变小,以避免因热应力造成排差和滑移等现象产生,最终使晶棒与液面完全分离。到此即得到一根完整的晶棒。 2 晶棒裁切与检测(Cutting & Inspection) 将长成的晶棒去掉直径偏小的头、尾部分,并对尺寸进行检测,以决定下步加工的工艺参数。 3 外径研磨(Su rf ace Grinding & Shaping) 由于在晶棒成长过程中,其外径尺寸和圆度均有一定偏差,其外园柱面也凹凸不平,所以必须对外径进行修整、研磨,使其尺寸、形状误差均小于允许偏差。 4 切片(Wire Saw Sl ic ing) 由于硅的硬度非常大,所以在本工序里,采用环状、其内径边缘镶嵌有钻石颗粒的薄片锯片将晶棒切割成一片片薄片。 5 圆边(Edge Profiling) 由于刚切下来的晶片外边缘很锋利,硅单晶又是脆性材料,为避免边角崩裂影响晶片强度、破坏晶片表面光洁和对后工序带来污染颗粒,必须用专用的电脑控制设备自动修整晶片边缘形状和外径尺寸。 ? 6 研磨(Lapping) 研磨的目的在于去掉切割时在晶片表面产生的锯痕和破损,使晶片表面达到所要求的光洁度。 7 蚀刻(Etching) 1

生产工艺管理控制程序

生产工艺管理控制程序 1.目的 建立与生产相适应的生产工艺管理制度,确保生产条件(人员、环境、设备、物料等)满足化妆品的生产 质量要求。特制订本程序。 2.适用范围 适应于各车间生产工序的工艺参数、材料、设备、人员和测试方法等所有影响产品质量的生产阶段。 3.职责 3.1计划:负责制订《生产计划》负责生产过程中的综合调度。 3.2生产部:负责生产动力设施及时供给合格的水、蒸压缩空气、空气、电力等资源;编制设备的操作规程, 设备维护保养; 负责按生产指令单,在规定的工艺要求和质量要求下,组织安排生产,并对生产过程进行控制。 3.3仓库:负责按照生产派工单所开具的领料单进行原辅材料发放接收对各车间退回的物料做入库工作。 3.4技术研发部:负责生产工艺技术及半成品标准制定。在首次生产时进行指导。明确关键工序和特殊工序。 负责编制工艺规程和作业指导书。 3.5质保部:负责所有原辅材料、半成品、成品按品质标准进行检验 负责安排现场巡检员对生产现场的产品质量进行过程监督。 4.内容 4.1生产前的准备工作 1)计划调度员考虑库存情况,结合车间的生产能力,制订《生产计划》,经经理批准后,发放至相关部门作为采购和生产依据。 2)在确保每个生产订单所有原物料配套齐全后下达,生产车间根据生产计划制定生产指令,生产前由车间负责人下达批生产指令,包含批号、批生产量、执行标准、生产流程、生产配方等信息。 3)生产部根据周计划编制《车间每日作业计划》,车间主管/班长把计划分解到各小组或生产线直至各岗位,并对每日计划执行情况进行跟踪。 4)各车间均须严格按确定的日生产计划安排工作,一切有影响计划实施的因素或异常现象产生,车间主管需做有效的记录,每周统一汇总,报备生产部。 1)各相关责任人员根据生产需要,确认供给合格的水、蒸汽、压缩、空气、电力等资源,保障生产设备的正常运转。

生产工艺流程简述

生产工艺流程简述 清棉工序 1.主要任务:(1)将紧压的原纤维松解成较小的纤维块或纤维束,以利混合、除杂作用的顺利进行;(2)清除原纤维中的大部分杂质、疵点及不宜纺纱的短纤维。(3)将不同批次的纤维进行充分而均匀地混和,以利棉纱质量的稳定。(4)成卷:制成一定重量、长度、厚薄均匀、外形良好的棉纤维卷。 梳棉工序 1.主要任务 (1)分梳:将纤维分解成单纤维状态,改善纤维伸直平行状态。(2)混合:使纤维进一步充分均匀混合。(4)成条:制成符合要求的棉条。 精梳工序 主要任务: 1.除杂:清除纤维中细小的纤维疵点。 2.梳理:进一步分离纤维,排除一定长度以下的短纤维,提高纤维的长度整齐度和伸直度。 3.牵伸:将棉条拉细到一定粗细,并提高纤维平行伸直度。 4.成条:制成符合要求的棉条。

并条工序 主要任务 1.并合:一般用6-8根纤维条进行并合,改善棉条长片段不匀。2.牵伸:把纤维条拉长抽细到规定重量,并进一步提高纤维的伸直平行程度。3.混合:利用并合与牵扯伸,使纤维进一步均匀混合,不同唛头、不同工艺处理的纤维条,在并条机上进行混和。4.成条:做成圈条成型良好的熟条,有规则地盘放在棉条桶内,供后工序使用。 粗纱工序 主要任务: 1.牵伸:将熟条均匀地拉长抽细,并使纤维进一步伸直平行。2.加捻:将牵伸后的须条加以适当的捻回,使纱条具有一定的强力,以利粗纱卷绕和细纱机上的退绕。 细纱工序 主要任务: 1.牵伸:将粗纱拉细到所需细度,使纤维伸直平行。 2.加捻:将须条加以捻回,成为具有一定捻度、一定强力的细纱。3.卷绕:将加捻后的细纱卷绕在筒管上。4.成型:制成一定大小和形状的管纱,便于搬运及后工序加工。

生产工艺管理控制程序—范文

生产工艺管理控制程序—范文 1 目的对生产工艺过程实施控制和管理,确保编制的工艺规程正确,符合设计要求,并能有效的指导生产。 2 范围 本程序文件规定了工艺管理控制程序和要求。本文件适用于公司内供和外销产品的工艺控制。 3 术语和定义 关键过程:对形成产品质量起决定作用的过程。特殊过程:对形成的产品是否合格不易或不能经济地进行验证的过程。首件鉴定:对试生产的第一件零件进行全面的过程和成品检查,以确定生产条件是否能保证生产出符合设计要求的产品。 定型:是对新产品(含改型、革新、测绘、仿制或功能仿制产品)进行全面评定,确认其达到规定的技术要求,并按规定办理手续。定型主要指公司生产定型。 生产定型:是对批量生产进行全面考核,以确认其达到批量生产的标准。

4 管理职能 技术质量部门:负责制定工艺管理规章制度,并组织贯彻实施与检查。 负责工艺策划,编制工艺总方案及工艺标准化综合要求;负责关键件、重要件的控制策划,并编制控制计划。负责生产单位的工艺文件、材料定额的编制、产品图样工艺性审查及工艺管理工作。 负责组织生产定型工作,负责工艺纪律监督检查。负责编制技术改造规划、工艺布置、生产面积及设备的调配、外购设备的选型论证等技术改造工作。 解决现场生产技术问题,对产品故障进行分析、处理。负责新工艺、新材料、新技术的推广应用工作。负责生产设备的综合管理工作。 负责督促和检查使用单位执行有关设备管理标准和规程的情况,保证设备处于完好状态,满足工艺要求。 负责对生产工作环境进行监测和控制。负责理化检测工作。 负责按工艺规程和产品设计文件实施工序检测、验收产品,并对生产现场工艺纪律执行情况进行监督。 负责对工装、量具的设计工作。 生产部门负责按工艺规程要求组织生产、工艺装备的准备工作;负责生 产 工艺文件的贯彻,工艺纪律的执行,工艺装备的制造、使用、管 理工作。 综合管理部门负责人力资源的合理配置、接口职责、权限的分配和协调。 负责对产品质量有直接影响的人员进行岗位技能培训、考核。工作程

生产工艺流程图和工艺描述

生产工艺流程图和工艺描述 香肠工艺流程图 辅料验收原料肉验收 原料暂存肥膘解冻 精肉解冻水切丁辅料暂存分割热水漂洗1 漂洗2 加水绞肉 肠衣验收、暂存(处理)灌装、结扎 (包括猪原肠衣和蛋白肠衣) 咸水草、麻绳验收、暂存浸泡漂洗3 冷却 内包装 装箱、入库 出货

香肠加工工艺说明 加工步骤使用设备操作区域加工工艺的描述与说明 原料肉验收、暂存化验室、仓库 按照原料肉验收程序进行,并要求供应商 提供兽药残留达标保证函及兽医检疫检 验证明 辅料验收、暂 存 化验室、仓库按验收规程进行验收肥膘验收、暂 存 化验室、仓库按验收规程进行验收肠衣验收化验室按验收规程进行验收 肠衣处理腊味加工间天然猪肠衣加工前需用洁净加工用水冲洗,人造肠衣灌装前需用洁净加工用水润湿 咸水草、麻绳 验收 化验室按验收规程进行验收暂存仓库 浸泡腊味加工间咸水草、麻绳加工前需用洁净加工用水浸泡使之变软 解冻解冻间肉类解冻分 割间 ≤18℃、18~20h恒温解冻间空气解冻 分割分割台、刀具肉类解冻分 割间 将原料肉筋键、淋巴、脂肪剔除、并分割 成约3cm小肉块 加工步骤使用设备操作区域加工工艺的描述与说明 漂洗2 水池肉类解冻分 割间 加工用水漂洗,将肉的污血冲洗干净 绞肉绞肉机肉类解冻分 割间 12℃以下,采用Φ5mm孔板 肥膘切丁切丁机肉类解冻分 割间 切成0.5cm长的立方

漂洗1 水池肉类解冻分 割间 水温45-60℃,洗去表面游离油脂、碎肉 粒 灌装、结扎灌肠机香肠加工间按产品的不同规格调节肠体长度,处理量800~1200kg/h ,温度≦12℃ 漂洗3 水池香肠加工间水温45~60℃,清洗肠体表面油脂、肉碎 冷却挂肠杆预冷车间12℃下冷却0.5~1小时,中心温度≦25℃ 内包装真空机、电子 秤、热封口机 内包装间 将待包装腊肠去绳后按不同规格称重,装 塑料袋、真空包装封口 装箱、入库扣扎机、电子 秤 外包装间、成 品仓库 将真空包装的产品装彩袋封口,按不同规 格装箱、核重、扣扎放入成品库并挂牌标 识。

生产工艺管理控制程序—范文

生产工艺管理控制程序—范文 1 目的 对生产工艺过程实施控制和管理,确保编制的工艺规程正确,符合设计要求,并能有效的指导生产。 2 范围 本程序文件规定了工艺管理控制程序和要求。 本文件适用于公司内供和外销产品的工艺控制。 3 术语和定义 关键过程:对形成产品质量起决定作用的过程。 特殊过程:对形成的产品是否合格不易或不能经济地进行验证的过程。首件鉴定:对试生产的第一件零件进行全面的过程和成品检查,以确定生产条件是否能保证生产出符合设计要求的产品。 定型:是对新产品(含改型、革新、测绘、仿制或功能仿制产品)进行全面评定,确认其达到规定的技术要求,并按规定办理手续。定型主要指公司生产定型。 生产定型:是对批量生产进行全面考核,以确认其达到批量生产的标准。

4 管理职能 技术质量部门: ●负责制定工艺管理规章制度,并组织贯彻实施与检查。 ●负责工艺策划,编制工艺总方案及工艺标准化综合要求; ●负责关键件、重要件的控制策划,并编制控制计划。 ●负责生产单位的工艺文件、材料定额的编制、产品图样工艺性审 查及工艺管理工作。 ●负责组织生产定型工作,负责工艺纪律监督检查。 ●负责编制技术改造规划、工艺布置、生产面积及设备的调配、外 购设备的选型论证等技术改造工作。 ●解决现场生产技术问题,对产品故障进行分析、处理。 ●负责新工艺、新材料、新技术的推广应用工作。 ●负责生产设备的综合管理工作。 ●负责督促和检查使用单位执行有关设备管理标准和规程的情况, 保证设备处于完好状态,满足工艺要求。 ●负责对生产工作环境进行监测和控制。 ●负责理化检测工作。 ●负责按工艺规程和产品设计文件实施工序检测、验收产品,并对 生产现场工艺纪律执行情况进行监督。 ●负责对工装、量具的设计工作。 生产部门 ●负责按工艺规程要求组织生产、工艺装备的准备工作;负责生产

实用文档之晶圆封装测试工序和半导体制造工艺流程

实用文档之"A.晶圆封装测试工序" 一、 IC检测 1. 缺陷检查Defect Inspection 2. DR-SEM(Defect Review Scanning Electron Microscopy) 用来检测出晶圆上是否有瑕疵,主要是微尘粒子、刮痕、残留物等问题。此外,对已印有电路图案的图案晶圆成品而言,则需要进行深次微米范围之瑕疵检测。一般来说,图案晶圆检测系统系以白光或雷射光来照射晶圆表面。再由一或多组侦测器接收自晶圆表面绕射出来的光线,并将该影像交由高功能软件进行底层图案消除,以辨识并发现瑕疵。 3. CD-SEM(Critical Dimensioin Measurement) 对蚀刻后的图案作精确的尺寸检测。 二、 IC封装 1. 构装(Packaging) IC构装依使用材料可分为陶瓷(ceramic)及塑胶(plastic)两种,而目前商业应用上则以塑胶构装为主。以塑胶构装中打线接合为例,其步骤依序为晶片切割(die saw)、黏晶(die mount / die bond)、焊线(wire bond)、封胶(mold)、剪切/成形(trim / form)、印字(mark)、电镀(plating)及检验(inspection)等。 (1) 晶片切割(die saw) 晶片切割之目的为将前制程加工完成之晶圆上一颗颗之晶粒(die)切割分离。举例来说:以0.2微米制程技术生产,每片八寸晶圆上可制作近六百颗以上的64M微量。 欲进行晶片切割,首先必须进行晶圆黏片,而后再送至晶片切割机上进行切割。切割完后之晶粒井然有序排列于胶带上,而框架的支撐避免了胶带的皱褶与晶粒之相互碰撞。 (2) 黏晶(die mount / die bond) 黏晶之目的乃将一颗颗之晶粒置于导线架上并以银胶(epoxy)粘着固定。黏晶完成后之导线架则经由传输设备送至弹匣(magazine)内,以送至下一制程进

集成电路制造工艺流程之详细解答

集成电路制造工艺流程之详细解答 1.晶圆制造( 晶体生长-切片-边缘研磨-抛光-包裹-运输 ) 晶体生长(Crystal Growth) 晶体生长需要高精度的自动化拉晶系统。 将石英矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,其纯度高达0.99999999999。 采用精炼石英矿而获得的多晶硅,加入少量的电活性“掺杂剂”,如砷、硼、磷或锑,一同放入位于高温炉中融解。 多晶硅块及掺杂剂融化以后,用一根长晶线缆作为籽晶,插入到融化的多晶硅中直至底部。然后,旋转线缆并慢慢拉出,最后,再将其冷却结晶,就形成圆柱状的单晶硅晶棒,即硅棒。 此过程称为“长晶”。 硅棒一般长3英尺,直径有6英寸、8英寸、12英寸等不同尺寸。 硅晶棒再经过研磨、抛光和切片后,即成为制造集成电路的基本原料——晶圆。 切片(Slicing) /边缘研磨(Edge Grinding)/抛光(Surface Polishing) 切片是利用特殊的内圆刀片,将硅棒切成具有精确几何尺寸的薄晶圆。 然后,对晶圆表面和边缘进行抛光、研磨并清洗,将刚切割的晶圆的锐利边缘整成圆弧形,去除粗糙的划痕和杂质,就获得近乎完美的硅晶圆。 包裹(Wrapping)/运输(Shipping) 晶圆制造完成以后,还需要专业的设备对这些近乎完美的硅晶圆进行包裹和运输。 晶圆输送载体可为半导体制造商提供快速一致和可靠的晶圆取放,并提高生产力。 2.沉积 外延沉积 Epitaxial Deposition 在晶圆使用过程中,外延层是在半导体晶圆上沉积的第一层。 现代大多数外延生长沉积是在硅底层上利用低压化学气相沉积(LPCVD)方法生长硅薄膜。外延层由超纯硅形成,是作为缓冲层阻止有害杂质进入硅衬底的。 过去一般是双极工艺需要使用外延层,CMOS技术不使用。 由于外延层可能会使有少量缺陷的晶圆能够被使用,所以今后可能会在300mm晶圆上更多

生产工艺流程控制程序

生产工艺流程控制的程序 一、目的 为加强企业的生产工艺流程控制,全面提升产品的制作质量,降低生产成本,各 相关部门和人员按照优化5M1E(注1)的原则进行生产活动,增强企业的竞争力,特制订本规程。 ——注1:5M1E分别是英文-人员、机器、材料、方法、测量和环境的单词首位字母。 二、使用范围 本公司的应依据本规程来制订、执改进行、生产工艺流程、对其结果进行考核、奖惩,除另有规定外,均以本规程执行; 三、规程的内容: 1、工艺流程涉及的部门(体系化) 工艺流程涉及的部门有:各公司的技术部、生产部、质检部、和集团采购部。 2、管理责任(制度化) (1)各公司技术部责任 a,制定合理的工艺流程文件 公司的技术部依据产品任务单,制定生产工艺流程的文件,工艺流程文件的主 要是以下三种类: ——工艺过程卡片; ——工序卡片; ——操作说明书; 工艺流程的卡片和操作说明书中应包含:图纸(加工的工件图纸以及关键步骤和 重要环节都有图纸说明)、加工工序、加工方法及对环境的要求、检验及方法、产品的包装、工时定额、材料和物耗定额、使用的设备和工装、加工工具、对特殊工件

的吊装位置及方法、包装方法、加工的起始时间、责任者的签名等,总之应当是实 际工作中涉及的工序和各个工序中要点(5M1E)都要简约地反映在流程中; ——注2:工时定额和物耗定额:在实际中灵活应用和执行,对于首件和单件生产可 以是定性管理;对于3-5件的小批量生产应当是首件完成后,对出其余件进行的半定量管理,就是给个范围值;对于成熟的大批量生产件应当是定量管理,就是应当给 出固定的定额; ——注3:可以有空项,按实际生产中需要的项目编写,应当简要全面部不应当有漏项;公司在制定工艺流程时,可以是表格式、卡片式、文字表述式,只要能在实际 生产中,对生产的产品有以下作用即可--加工的指导、检验指导、记录完整(可以追溯产品的加工历史); b,根据生产出现的问题,可以用工艺流程附加单的形式进行补充及修改,必要时废除老工艺,重新制定新工艺; c,会同质检部门处理质量异常问题。 (2)公司生产部责任 a,生产操作者应当随时自我查对,检查是否符合流程的规定与相关的质量标准,即开展自检工作。 b,各工种的班组长应当对下属的操作者的操作和设备进行专项检查和定期检验及不 定期的巡查,操作者完成后的工件,由班组长或者质检员检验合格后才准放入下道 工序。 c,下道工序人员有责任有义务对上道工序人员的作业质量进行核查、监督,即开展互 检工作; d,提倡QC小组活动,有条件的工段成立QC小组,对所加工的工件进行分析,各公司应当按提高产品的质量,降低工时和物耗所产生的效益,适当地予以奖励。

新生产工艺管理流程图与文字说明

生产工艺管理流程 生产技术部接到产品开发需求后,进行产品开发策划并起草设计开发任务书,经公司领导审批后,业务部门根据产品设计开发任务书准备纸、油墨、印版、烫金等生产材料及生产工艺设备的准备工作,材料、设备准备完成后,安排在印刷车间进行上机打样;打样过程中,由生产技术部组织业务、品质、车间等部门对打样结果进行评审,打样评审通过后,由生产技术部进行送样、签样工作(送中烟技术中心材料部),若签样不合格,需重新进行打样准备;签样完成后,生产技术部根据打样情况形成临时技术标准,品质部形成检验标准,印刷车间根据临时技术标准进生试机生产,生产产品由生产技术部送烟厂进行上机包装测试(若包装测试不通过,生产技术部需重新调整临时技术标准重新试机生产),包装测试通过后,生产技术部根据试机生产时情况形成技术标准。当月生产需求时,生产技术部按生产组织程序进行组织生产,并同时下达技术标准,印刷车间根据生产技术标准,进行工艺首检,确认各项工艺指标正确无误,进行材料及设备的准备工作,各项工作准备完成后按技术标准要求进行工艺控制,生产技术部对整个生产运行过程进行监督,当工艺运行不符合要求时,通知生产技术部进行工艺调整。生产结束后,进入剥盒、选盒工序,经过挑选的烟标合格的按成品入库程序进行入库,不合格的产品按不合格程序进行处理。

产品工艺管理流程图 业务部生产技术部印刷车间品质部输出记录 接到设计 更改需求 段 阶 } 改 更 计 设 { 发 开 吕 产 不通过 不通过 通过 接到设计 开发需求 产品开发策划 打样准备 送样、签样 通过 不通过 形成技术标 准(临时) 审批不通过 上机打样 形成检验标准 设计开发项目组成立 通知 产品开发任务书 段 阶 制 控 艺 工 产 生 送客户包装测试■试生产 ■ 形成技术标准 <接到生 产需求 组织生产 下达工艺标准工艺首检 材料准备设备准备 工艺监督过程质量监督 工艺改进不通过运行判定 成品质量监督 是合格 成品入库 结束 不合格 控制程序 过程检验记录 工艺检查记录表, 匚工艺记录表 工艺运行控制 剥盒、选盒 烟用材料试验评价 报告 印刷作业指导书 生产工作单 换版通知单 生产操作记录表 工艺更改通知单 成品检验记录

晶圆的生产工艺流程汇总

晶圆的生产工艺流程: 从大的方面来讲,晶圆生产包括晶棒制造和晶片制造两大步骤,它又可细分为以下几道主要工序(其中晶棒制造只包括下面的第一道工序,其余的全部属晶片制造,所以有时又统称它们为晶柱切片后处理工序): 晶棒成长--晶棒裁切与检测--外径研磨--切片--圆边--表层研磨--蚀刻--去疵--抛光--清洗--检验--包装1、晶棒成长工序:它又可细分为: 1)、融化(MeltDown ):将块状的高纯度复晶硅置于石英坩锅内,加热到其熔点1420°C以上,使其完全融化。 2)、颈部成长(Neck Growth):待硅融浆的温度安定之后,将〈1.0.0〉方向的晶种慢慢插入其中,接着将晶种慢慢往上提升,使其直径缩小到一定尺 寸(大凡约6mm左右),维持此直径并拉长100-200mm,以消除晶种内的晶粒排列取向差异。 3)、晶冠成长(CrownGrowth):颈部成长完成后,慢慢降低提升速度和温度,使颈部直径逐渐加大到所需尺寸(如5、6、8、12 吋等)。 4)、晶体成长(Body Growth):不断调整提升速度和融炼温度,维持不变的晶棒直径,只到晶棒长度达到预定值。 5)、尾部成长(Tail Growth):当晶棒长度达到预定值后再逐渐加快提升速度并提高融炼温度,使晶棒直径逐渐变小,以避免因热应力造成排差和滑移等现象产生,最终使晶棒与液面完全分离。到此即得到一根统统的晶棒。2、晶棒裁切与检测(Cutting&Inspection ) :将长成的晶棒去掉直径偏小的头、尾部分,并对尺寸进行检测,以决定下步加工的工艺参数。 3、外径研磨(Surface Grinding & Shaping :由于在晶棒成长过程中,其外径尺寸和圆度均有一定偏差,其外园柱面也凹凸不平,所以必须对外径进行修整、研磨,使其尺寸、形状误差均小于允许偏差。 4、切片(WireSawSlicing :由于硅的硬度非常大,所以在本工序里,采用环状、其内径边缘镶嵌有钻石颗粒的薄片锯片将晶棒切割成一片片薄片。

晶圆生产工艺流程介绍

晶圆生产工艺流程介绍 1、表面清洗 2、初次氧化 3、CVD(Chemical Vapor deposition)法沉积一层Si3N4(Hot CVD或LPCVD)。 (1)常压CVD(Normal Pressure CVD) (2)低压CVD(Low Pressure CVD) (3)热CVD(Hot CVD)/(thermal CVD) (4)电浆增强CVD(Plasma Enhanced CVD) (5)MOCVD(Metal Organic CVD)&分子磊晶成长(Molecular Beam Epitaxy) (6)外延生长法(LPE) 4、涂敷光刻胶 (1)光刻胶的涂敷 (2)预烘(pre bake) (3)曝光 (4)显影 (5)后烘(post bake) (6)腐蚀(etching) (7)光刻胶的去除 5、此处用干法氧化法将氮化硅去除 6、离子布植将硼离子(B+3)透过SiO2膜注入衬底,形成P型阱 7、去除光刻胶,放高温炉中进行退火处理 8、用热磷酸去除氮化硅层,掺杂磷(P+5)离子,形成N型阱 9、退火处理,然后用HF去除SiO2层 10、干法氧化法生成一层SiO2层,然后LPCVD沉积一层氮化硅 11、利用光刻技术和离子刻蚀技术,保留下栅隔离层上面的氮化硅层 12、湿法氧化,生长未有氮化硅保护的SiO2层,形成PN之间的隔离区 13、热磷酸去除氮化硅,然后用HF溶液去除栅隔离层位置的SiO2,并重新生成品质更好的SiO2薄膜,作为栅极氧化层。 14、LPCVD沉积多晶硅层,然后涂敷光阻进行光刻,以及等离子蚀刻技术,栅极结构,并氧化生成SiO2保护层。 15、表面涂敷光阻,去除P阱区的光阻,注入砷(As)离子,形成NMOS的源漏极。用同样的方法,在N阱区,注入B离子形成PMOS的源漏极。 16、利用PECVD沉积一层无掺杂氧化层,保护元件,并进行退火处理。 17、沉积掺杂硼磷的氧化层 18、?镀第一层金属 (1)薄膜的沉积方法根据其用途的不同而不同,厚度通常小于1um。 (2)真空蒸发法(Evaporation Deposition) (3)溅镀(Sputtering Deposition) 19、光刻技术定出VIA孔洞,沉积第二层金属,并刻蚀出连线结构。然后,用PECVD法氧化层和氮化硅保护层。20、光刻和离子刻蚀,定出PAD位置 21、最后进行退火处理,以保证整个Chip的完整和连线的连接性

晶圆封装测试工序和半导体制造工艺流程

A.晶圆封装测试工序 一、IC检测 1. 缺陷检查Defect Inspection 2. DR-SEM(Defect Review Scanning Electron Microscopy) 用来检测出晶圆上是否有瑕疵,主要是微尘粒子、刮痕、残留物等问题。此外,对已印有电路图案的图案晶圆成品而言,则需要进行深次微米范围之瑕疵检测。一般来说,图案晶圆检测系统系以白光或雷射光来照射晶圆表面。再由一或多组侦测器接收自晶圆表面绕射出来的光线,并将该影像交由高功能软件进行底层图案消除,以辨识并发现瑕疵。 3. CD-SEM(Critical Dimensioin Measurement) 对蚀刻后的图案作精确的尺寸检测。 二、IC封装 1. 构装(Packaging) IC构装依使用材料可分为陶瓷(ceramic)及塑胶(plastic)两种,而目前商业应用上则以塑胶构装为主。以塑胶构装中打线接合为例,其步骤依序为晶片切割(die saw)、黏晶(die mount / die bond)、焊线(wire bond)、封胶(mold)、剪切/成形(trim / form)、印字(mark)、电镀(plating)及检验(inspection)等。 (1) 晶片切割(die saw) 晶片切割之目的为将前制程加工完成之晶圆上一颗颗之晶粒(die)切割分离。举例来说:以

0.2微米制程技术生产,每片八寸晶圆上可制作近六百颗以上的64M微量。 欲进行晶片切割,首先必须进行晶圆黏片,而后再送至晶片切割机上进行切割。切割完后之晶粒井然有序排列于胶带上,而框架的支撐避免了胶带的皱褶与晶粒之相互碰撞。 (2) 黏晶(die mount / die bond) 黏晶之目的乃将一颗颗之晶粒置于导线架上并以银胶(epoxy)粘着固定。黏晶完成后之导线架则经由传输设备送至弹匣(magazine)内,以送至下一制程进行焊线。 (3) 焊线(wire bond) IC构装制程(Packaging)则是利用塑胶或陶瓷包装晶粒与配线以成集成电路(Integrated Circuit;简称IC),此制程的目的是为了制造出所生产的电路的保护层,避免电路受到机械性刮伤或是高温破坏。最后整个集成电路的周围会向外拉出脚架(Pin),称之为打线,作为与外界电路板连接之用。 (4) 封胶(mold) 封胶之主要目的为防止湿气由外部侵入、以机械方式支持导线、內部产生热量之去除及提供能够手持之形体。其过程为将导线架置于框架上并预热,再将框架置于压模机上的构装模上,再以树脂充填并待硬化。 (5) 剪切/成形(trim / form) 剪切之目的为将导线架上构装完成之晶粒独立分开,并把不需要的连接用材料及部份凸出之树脂切除(dejunk)。成形之目的则是将外引脚压成各种预先设计好之形状,以便于装置于

工艺管理控制程序

工艺管理控制程序 0 目的 对生产工艺过程实施控制和管理,确保编制的工艺规程正确,符合设计要求,并能有效的指导生产。 1 范围 本程序文件规定了工艺管理控制程序和要求。 本文件适用于公司内供和外销产品的工艺控制。 2 引用文件 3 术语和定义 3.1 关键过程 对形成产品质量起决定作用的过程。 3.2 特殊过程 对形成的产品是否合格不易或不能经济地进行验证的过程。 3.3 首件鉴定 对试生产的第一件零件进行全面的过程和成品检查,以确定生产条件是否能保证生产出符合设计要求的产品。 3.4 定型 是对新产品(含改型、革新、测绘、仿制或功能仿制产品)进行全面评定,确认其达到规定的技术要求,并按规定办理手续。定型主要指公司生产定型。 3.5 生产定型 是对批量生产进行全面考核,以确认其达到批量生产的标准。 4 管理职能 4.1 技术质量部门 4.1.1 负责制定工艺管理规章制度,并组织贯彻实施与检查。 4.1.2 负责工艺策划,编制工艺总方案及工艺标准化综合要求;负责关键件、重要件的控制策划,并编制控制计划。 4.1.3 负责生产单位的工艺文件、材料定额的编制、产品图样工艺性审查及工艺管理工作。 4.1.4 负责组织生产定型工作,负责工艺纪律监督检查。 4.1.5 负责编制技术改造规划、工艺布置、生产面积及设备的调配、外购设备的选型论证等技术改造工作。 4.1.6 解决现场生产技术问题,对产品故障进行分析、处理。 4.1.7 负责新工艺、新材料、新技术的推广应用工作。 4.1.8 负责生产设备的综合管理工作。 4.1.9 负责督促和检查使用单位执行有关设备管理标准和规程的情况,保证设备处于完好状态,满足工艺要求。 4.1.10 负责对生产工作环境进行监测和控制。 4.1.11 负责理化检测工作。 4.1.12 负责按工艺规程和产品设计文件实施工序检测、验收产品,并对生产现场工艺纪律执行情况进行监督。 4.1.13 负责对工装、量具的设计工作。 4.2 生产部门

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