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集成电路设计与集成系统专业本科培养计划

集成电路设计与集成系统专业本科培养计划
集成电路设计与集成系统专业本科培养计划

集成电路设计与集成系统专业本科培养计划Undergraduate Program for Specialty in IC Design and Integrated System

一、培养目标

Ⅰ.Educational Objectives

以集成电路及各类电子信息系统设计为目标,培养掌握集成电路基本理论、基本方法及EDA 工具,能在集成电路及系统集成相关领域从事科研、教学、科技开发、工程技术、生产管理与行政管理等工作的高级专门人才。

Targeted to design integrated circuit and all sorts of electronic information systems, this program aims at training advanced talents who can grasp fundamental integrated circuit theories, methods and EDA tools. These talents can meet the demands of scientific research, education, technique development, engineering technology, production management and administration management for the integrated circuit and system and its related fields.

二、基本规格要求

Ⅱ.Skills Profile

要求学生具有良好素质、道德修养和创新能力,具备扎实的数学、物理、外语基础,掌握大规模集成电路及集成系统所必需的基本理论和方法,具有超大规模集成电路分析及设计、版图设计和系统集成等的基本能力。具体而言,毕业生应获得以下几个方面的知识和能力:

1. 具有较扎实的自然科学基本理论基础和宽阔的科学视野;

2. 对全球信息科学和技术的前沿、发展动态及其影响具有足够的理解力和敏感性;

3. 具备较强的分析问题和解决问题的综合应用能力;

4. 具有较强的外语和计算机应用能力;

5. 掌握文献检索、资料查询的方法和撰写科学论文的能力;

6. 具有良好的人文素质、有效的交际能力以及较强的协调、组织能力;

7. 具有较强的创新精神和竞争意识;

8. 具有较强的在未来生活和工作中继续学习的能力。

The program requires that the learners possess good quality, moral cultivation and innovation capability, provided with bases solid mathematics, physics and English, fundamental theories and methods essential to VLSI, basic capabilities of VLSI analysis and design, layout design and system integration. Specifically speaking, our graduates are expected to have the knowledge and abilities listed as follows:

1. Have solid fundamental theoretical knowledge in natural science and wide scientific horizon;

2. Have enough apprehension and sensitivity to the new developments and the impacts of the global information science and technology;

3. Have good comprehensive ability to analysis and solve problems;

4. Have good ability to use foreign language and computer;

5. Master the method of literature retrieving and data-inquiring, and be able to write scientific articles;

6. Be of good quality in humanities, effective ability in social intercourse and good ability in coordinating and organizing;

7. Have strong consciousness of creativity and competition;and

8. Have good ability to continuous studying in future life and work.

三、培养特色

Ⅲ.Program Features

本专业融合电子工程与计算机科学,形成从信息系统体系结构出发到嵌入式系统以及片上系统硬件实现的“Top-to-Down”的专业人才培养体系。课程设置上,分流二个专业方向:半导体器件与集成电路设计,以及体系结构与嵌入式系统。提供系列化的综合型和研究型课程设计,以及学科交叉、特色鲜明的任选课程组合。坚持理工结合,重视基础理论,强调宽口径培养,着眼全面提高学生的综合素质。

This specialty converges electronic engineering and computer science,setting up a

“Top-to-Down”talent training system from system architecture to hardware implementation respectively via embedded system and system on chip. Two professional directions are divided for course system into semiconductor device and IC design, as well as computer architecture and embedded system. Comprehensive course projects, as well as featured and cross-disciplinary optional

course combination are available in curriculum. Converging science and engineering, strengthening fundamental knowledge, and multi-disciplinary education system, improve the overall performance of the students.

四、主干学科

Ⅳ.Major Disciplines

电子科学与技术

Electronic Science and Technology

五、学制与学位

Ⅴ.Length of Schooling and Degree

学制:四年

Duration: 4 years

授予学位:工学学士

Degrees Conferred: Bachelor of Engineering

六、学时与学分

Ⅵ.Hours/Credits

完成学业最低课内学分(含课程体系与集中性实践教学环节)要求:189

Minimum Credits of Curricular(Comprising course system and intensified internship practical training):189

完成学业最低课外学分要求:5

Minimum Extracurricular Credits:5

1. 课程体系学时与学分

2. 集中性实践教学环节周数与学分

3. 课外学分

注:参加校体育运动会获第一名、第二名者与校级一等奖等同,获第三名至第五名者与校级二等奖等同,获第六至第八名者与

Note: In HUST Sports Meeting, the first and the second prize, the third to the fifth prize, and the sixth prize to the eighth prize are deemed respectively the first prize, the second prize and the third prize of university level.

七、主要课程

Ⅶ.Main Courses in Specialty

计算机组成原理Principles of Computer Organization、处理器体系结构Processor Architecture、嵌入式系统原理与设计Principles and Design of Embedded System、数字信号处理Digital Signal Process、半导体物理Semiconductor Physics、微电子器件与IC设计Microelectronic Device and IC Design、硬件描述语言与数字系统设计Hardware Description Language and Design of Digital System、微电子工艺学Microelectronic Process、数字集成电路基础Fundamentals of Digital Integrated Circuit、模拟CMOS集成电路CMOS Analog Integrated Circuit.

八、主要实践教学环节(含专业实验)

Ⅷ.Main Internship and Practical Training (Including experiments)

电工实习Electrical Engineering Practice、集成电路设计与集成系统专业实验Specialized Experiments of IC Design and Integrated System、软件课程设计Course Project for Software Design、数字集成电路课程设计Course Project for Digital IC、模拟集成电路课程设计Course Project for Analog IC、集成电路制造工艺课程设计Course Project for IC Fabrication Process、嵌入式系统课程设计Course Project for Embedded system、专业实习Professional Social Practice、毕业设计Undergraduate Thesis

九、教学进程计划表

Ⅸ.Table of Teaching Schedule

院(系):光学与电子信息学院专业:集成电路设计与集成系统

续表

续表

续表

续表

浅谈现代集成制造系统发展

浅谈现代集成制造系统发展 本文结合我国国情,论述了我国现代集成制造系统的技术构成和发展策略及途径,希望为我国制造业的发展做些有益的探索。 标签:现代集成制造系统技术虚拟制造 0 引言 信息技术的发展引起的革命使我们进入了信息时代。信息革命不仅引起人们的思想观念、生活方式的变化,而且导致了生产方式和制造哲理的巨大变化,可以说近十年来提出的新的制造哲理都离不开信息技术提供的支撑,以信息化制造技术为代表的先进制造技术正使制造业处于重要的历史性变革时期。 1 制造技术的发展过程 人类的文明进步与制造技术的发展是分不开的,据统计,世界发达国家60%的社会财富和45% 的国民收入,都是由制造业创造的。世界各国经济的竞争,主要是制造技术的竞争。在各国企业生产力的构成中,制造技术的作用一般占55%~65%。制造技术是国民经济发展的支柱。回顾制造技术的发展,从蒸汽机出现到今天,主要经历了三个发展阶段。 1.1 用机器代替手工,以作坊形成工厂20世纪初,各种金属切削加工工艺方法陆续形成,近代制造技术已成体系。但是机器(包括汽车)的生产方式是作坊式的单件生产。它产生于英国,在19世纪先后传到法国、德国和美国。并在美国首先形成了小型的机械工厂,使这些国家的经济得到了发展,国力大大增强。 1.2 从单件生产方式发展成大量生产方式推动这种根本变革的是两位美国人——泰勒和福特。泰勒首先提出了以劳动分工和计件工资制为基础的科学管理,成为制造工程科学的奠基人。福特首先推行所有零件都按照一定的公差要求来加工。1913年建立了具有划时代意义的汽车装配流水线,实现了以刚性自动化为特征的大量生产方式,它对社会结构、劳动分工、教育制度和经济发展,都产生了不可想象的作用,50年代发展到了顶峰。生产力发生了飞跃,社会物质财富迅速增长。面对科学技术的迅速发展,大量生产方式,严重影响产品的更新换代,妨碍采用高新技术,产品在国际市场上缺乏竞争力。因此,必须寻求新的制造模式。 1.3 制造的柔性化、集成化和智能化现代制造技术沿着4个方向发展、传统制造技术的革新、拓展;精密工程;非传统加工方法;制造系统的柔性化、集成化、智能化。本世纪末,机械产品将向大型化、高参数和高可靠性发展,技术密集度及附加值将有大幅度提高。产品更换新代加快,用户的各种需求不断增加。质量、价格、交货期这市场三要素的竞争越来越激烈。在激烈的市场竞争中,制造企业为了增强自身的应变能力,必须建立柔性化、集成化和智能化的生产模式。

集成电路设计产业平台项目简介(完整版)

集成电路设计产业平台项目简介 集成电路设计产业平台项目简介 一、项目申报单位基本情况 **海恒投资控股集团公司作为国家级**经济技术开发区国有资产授权运营管理机构,截至目前总资产达130亿元。旗下拥有海恒股份、公用事业公司、丹霞地产、项目管理公司、明珠物业、香怡物业、索菲特明珠国际大酒店、迎宾馆、国际会展中心、康拜、西伟德、徽园、金源热电、金晶水务等近三十家全资、控股及参股公司,主要经营业务涉及房地产开发、基础设施建设、社区建设、酒店业、会展服务、物业管理、金融产业、旅游产业、环保产业、能源供应等多个领域。海恒集团立足开发区、服务开发区,发展开发区,现已成为开发区企业管理的平台、资本运作的平台、资金融通的平台和入区项目服务平台。 二、项目建设必要性和意义 在集成电路(IC)产业链中,集成电路制造是基础,而集成电路设计是龙头。IC设计是将系统、逻辑与性能的设计要求转化为具体的物理版图的过程,也是一个把产品从抽象的过程一步步具体化、直至最终物理实现的过程。 **是电子信息产业大省,但设计研发力量薄弱。设计研发是集成电路整体产业链条中的关键环节,高风险、高投入、高技术、高产值。其平台建设耗资巨大,一般企业无法自己承担,又缺乏高水平的公共研发平台,很多企业只好跑到**、**等地具备条件的软件园去搞

研发,或是干脆将这一核心业务外包给别的企业。这使得我省集成电路产业大而不强,进一步发展受到局限。 作为全国第三大家电制造基地,目前**市电冰箱、洗衣机占全国产量的20%以上,是全国家电产品种类、品牌集中度最高的地区之一。拥有自主知识产权的集成电路产品是提升整机企业核心竞争力的关键,随着系统级芯片的发展,IC设计研发生产将成为整机企业生存的一个最重要的支点。同时,**省汽车工业规模强劲增长,在全国汽车产业格局中占据着重要的位置。在产业集群化发展趋势的带动下,未来汽车电子产业基地即将形成,从而将有力带动对上游集成电路产品的需求增长。日益旺盛的市场需求将促使我省集成电路设计产业迅速发展。 平台遵循“政府主导、高端引领、公共服务、开放共享”的原则,面向全省转方式调结构、推进集成电路产业发展以及高端设计团队的需求,着眼集成电路领域前沿技术,高起点、高标准规划建设。在软件方面,配备当今最先进EDA设计软件,可以完成数字电路、模拟电路、数模混合等多个设计流程,既满足千万门级的设计需求,同时也可以完成十万门级以下的设计。在硬件方面,配备也非常先进。同时,还将配备业界主流产品的大学计划软件,帮助IC设计人员和在校学生快速提高设计能力和技术水平。 平台的建成,将有效降低IC设计企业的初创成本和经营风险,为集成电路创新团队提供公共设计平台、设计咨询、流程方法学、版图设计、MPW等专业化服务,同时在风险投资、市场开发、项目管理和人才培训等方面提供支持。今后,**IC平台将在技术支撑、人才培训、企业孵化、招商引资、产业聚集等方面开始发挥越来越重要的作用,

现代集成制造系统(CIMS)简介

当今世界已进入信息时代,并迈向知识经济时代。以信息技术为主导的高技术为制造业的发展提供了极大的支持,并推进着制造业的变革与发展,现代集成制造系统(Contemporary Integrated Manufacturing Systems,简称CIMS)技术的应用及其产业化是其中最重要的组成部分。 CIMS—现代集成制造系统,是基于CIM理念的集成优化的制造系统。将信息技术、现代管理技术和制造技术相结合,并应用于企业产品全生命周期(从市场需求分析到最终报废处理)的各个阶段。通过信息集成、过程优化及资源优化,实现物流、信息流、价值流的集成和优化运行,达到人(组织、管理)、经营和技术三要素的集成。以加强企业新产品开发的时间(T)、质量(Q)、成本(C)、服务(S)、环境(E),从而提高企业的市场应变能力和竞争能力。 一、CIMS的总体结构 CIMS建设的目标是在统一的数据库和网络支持下,建立生产经营管理分系统和工程技术(CAD/CAM/CAPP/PDM)分系统,实现企业信息的全面集成。为实现这个总体目标,CIMS 由两个功能分系统和两个支撑分系统组成。两个功能分系统为生产经营管理分系统和工程技术分系统;两个支撑分系统为计算机网络和数据库分系统。整个系统将以关系型数据库为核心,并由各应用系统通过INTERNET/INTRANET/EXTRANET访问数据库,这样就使得几个服务器上的数据在逻辑上成为一个整体,以保证整个系统的数据共享和数据的唯一性。CIMS的总体结构如图1.2-1所示。 图1 CIMS的总体结构 二、CIMS的技术构成 工程技术分系统:可简称为TIS分系统,即技术信息系统。通常包括CAD、CAPP、CAM 和PDM等部分。

芯片设计和生产流程

芯片设计和生产流程 大家都是电子行业的人,对芯片,对各种封装都了解不少,但是你 知道一个芯片是怎样设计出来的么?你又知道设计出来的芯片是 怎么生产出来的么?看完这篇文章你就有大概的了解。 复杂繁琐的芯片设计流程 芯片制造的过程就如同用乐高盖房子一样,先有晶圆作为地基,再层层往上叠的芯片制造流程后,就可产出必要的IC芯片(这些会在后面介绍)。然而,没有设计图,拥有再强制造能力都没有用,因此,建筑师的角色相当重要。但是IC设计中的建筑师究竟是谁呢?本文接下来要针对IC设计做介绍。 在IC生产流程中,IC多由专业IC设计公司进行规划、设计,像是联发科、高通、Intel等知名大厂,都自行设计各自的IC芯片,提供不同规格、效能的芯片给下游厂商选择。因为IC是由各厂自行设计,所以IC设计十分仰赖工程师的技术,工程师的素质影响着一间企业的价值。然而,工程师们在设计一颗IC芯片时,究竟有那些步骤?设计流程可以简单分成如下。

设计第一步,订定目标 在IC设计中,最重要的步骤就是规格制定。这个步骤就像是在设计建筑前,先决定要几间房间、浴室,有什么建筑法规需要遵守,在确定好所有的功能之后在进行设计,这样才不用再花额外的时间进行后续修改。IC设计也需要经过类似的步骤,才能确保设计出来的芯片不会有任何差错。 规格制定的第一步便是确定IC的目的、效能为何,对大方向做设定。接着是察看有哪些协定要符合,像无线网卡的芯片就需要符合IEEE802.11等规範, 不然,这芯片将无法和市面上的产品相容,使它无法和其他设备连线。最后则是

确立这颗IC的实作方法,将不同功能分配成不同的单元,并确立不同单元间连结的方法,如此便完成规格的制定。 设计完规格后,接着就是设计芯片的细节了。这个步骤就像初步记下建筑的规画,将整体轮廓描绘出来,方便后续制图。在IC芯片中,便是使用硬体描述语言(HDL)将电路描写出来。常使用的HDL有Verilog、VHDL等,藉由程式码便可轻易地将一颗IC地功能表达出来。接着就是检查程式功能的正确性并持续修改,直到它满足期望的功能为止。 ▲32bits加法器的Verilog范例。 有了电脑,事情都变得容易 有了完整规画后,接下来便是画出平面的设计蓝图。在IC设计中,逻辑合成这个步骤便是将确定无误的HDL code,放入电子设计自动化工具(EDA tool),让电脑将HDL code转换成逻辑电路,产生如下的电路图。之后,反

集成电路设计行业发展概况

集成电路设计行业发展概况 集成电路行业 集成电路(Integrated Circuit, IC)是指经过特种电路设计,利用集成电路加工工艺,集成于一小块半导体(如硅、锗等)晶片上的一组微型电子电路。集成电路具有体积小、重量轻、寿命长、可靠性高、性能好、成本低、便于大规模生产等优点,不仅在工、民用电子设备如智能手机、电视机、计算机、汽车等方面得到广泛的应用,同时在军事、通讯、遥控等方面也不可或缺。 集成电路按应用领域的不同大致分为标准通用集成电路和专用集成电路。其中,标准通用集成电路是指应用领域比较广泛、标准型的通用电路,如存储器、微处理器(MPU)及微控制器(MCU)等;专用集成电路是指为某一领域或某一专门用途而设计的电路,如智能终端芯片、网络通信芯片、数模混合芯片、信息安全芯片、数字电视芯片、射频识别芯片(RFID)、传感器芯片等。 集成电路产业是国民经济中基础性、关键性和战略性的产业,是“中国制造2025”强国战略、国家创新驱动发展战略的重点发展领域。作为现代信息产业的基础和核心产业之一,在保障国家安全等方面发挥着重要的作用,是衡量一个国家或地区现代化程度以及综合国力的重要标志。集成电路一直以来占据半导体产品80%的销售额,业务规模远远超过半导体中分立器件、光电子器件和传感器三大细分领域,长期以来占据着行业大部分市场规模,具备广阔的市场空间,近年来呈现出快速增长的态势。

国内集成电路行业在需求、政策的驱动下迅速扩张。根据中国半导体行业协会统计,2018年中国集成电路行业销售额达到6,532亿元,同比增长20.7%,2014年至2018年的复合年均增长率达21.3%。需求方面,高速发展的计算机、网络通信、消费电子构成了国内集成电路行业下游应用领域的主要部分。在工业市场,传统产业的转型升级,大型、复杂化的自动化、智能化工业设备出现,加速了芯片需求的提升;在消费类市场,智能手机、平板电脑等消费类电子的需求带动相关芯片行业爆发式增长;此外,汽车电子、智能家居场景等拓展了芯片的应用领域。政策方面,政府先后出台了一系列针对集成电路行业的法律法规和产业政策规范行业发展秩序,同时通过企业投资、设立行业投资基金的形式为行业发展提供资本帮助,推动了该行业的发展壮大。

大型冶炼企业现代集成制造系统的开发与实施

大型冶炼企业现代集成制造系统的开发与实施 摘要:本文对大型铝冶炼联合企业现代集成制造系统的开发背景、技术路线、总体结构、分系统设计、数据库设计、关键技术和特点进行了分析和介绍。 关键词:冶炼企业,集成,制造系统,开发 一、PGL-CIMS系统开发背景 中国铝业股份XXXX分公司(原平果铝业公司)是一个具有国际先进水平的特大型现代化铝冶炼联合生产企业,设计规模为年产65万吨精矿、30万吨氧化铝、10万吨电解铝,第一期工程投资42.56亿元,是中国有色金属工业以及XX建国以来一次性投资最大的建设项目。平果铝作为我国新兴的现代化铝冶炼企业,引进法国、德国、美国、瑞典、荷兰、丹麦、日本等七个工业发达国家的先进技术和设备,同时拥有我国铝工业的最新科研成果,是我国有色金属行业走向世界的重要基地。1995年9月企业投产后,为了适应公司长期的战略发展需要,解决生产经营与企业管理过程中的信息瓶颈问题,面对生产经营的复杂性与管理手段的落后性之间的矛盾日益尖锐,公司决策层提出了采用CIMS技术,实现企业信息化的目标。为此,成立了以公司领导亲自挂帅的CIMS工作领导小组,制定了以“总体规划、重点突破、分步实施、全面集成”方针,开发与应用大型铝冶炼联合企业现代集成制造系统(PGL-CIMS)的实施策略。 在系统规划之初,企业与开发单位紧密合作,进行广泛的调查研究,获得了大量国内外CIMS工程建设的经验和教训,编制了《PGL-CIMS初步设计报告》和《PGL-CIMS可行性分析报告》,1998年3月报告通过国家CIMS专家组的评审。 1998年7月PGL-CIMS一期工程正式启动,2000年4月经营管理分系统、设备能源管理分系统和档案管理子系统投入运行。同年1月通过国家863/CIMS专题组的验收,平果铝业公司获得95期间国家863/CIMS应用示X企业称号。

北京集成电路设计园服务体系

北京集成电路设计园服务体系 ——EDA技术平台、培训中心、MPW服务 北京集成电路设计园于2002年4月18日正式开园,设计园的中心部分——EDA平台同时开始正式起用。EDA平台共分2个部分,设计中心和培训中心。其中设计中心主要用来为入园企业做IC设计提供全面的服务,包括软、硬件以及各种配套的服务;培训中心主要用于对IC设计企业以及面向社会开展多层次的IC设计培训及IC相关技术培训。同时,北京集成电路设计园还对IC设计企业提供优质的MPW服务。 一、EDA技术平台服务 1、简介 北京集成电路设计园的EDA平台配备当今最先进的软、硬件设备,第一期开放设计室已经建成并正式投入使用。EDA平台的硬件和软件配置齐全,可以完成各种集成电路设计,包括数字电路、模拟电路、数模混合及FPGA设计等多个设计流程;既能满足百万门级的设计需求,又立足于中国国情,满足量大面广的十万门级和万门级的设计需求;同时,还具备一定的规模,能够为一定数量的设计企业同时提供服务。 EDA平台的设计中心由一个主机房和四个设计室组成,其中主机房配备有2台HP RP7400服务器、一个VA7100磁盘阵列和一个备份磁带库,设计室配备18台惠普的HP J6700工作站和10台HP J6000工作站,平均分配在四个设计室中,可以为设计企业提供足够的数据存储空间,并保证各设计企业数据的安全以及各企业之间设计数据的完全保密。另外,设计中心还配备有大型彩色版图绘图仪、彩色激光打印机以及复印机等配套设备可以供设计公司工作使用。 EDA平台的软件系统主要有四个公司的IC设计软件,可以完成各种集成电路设计的全部流程,包括全定制集成电路设计流程、数字电路自动化设计流程、模拟电路设计流程和FPGA设计流程。这些流程都基于设计园的EDA软件系统,具体软件包括CADENCE公司的全定制集成电路设计环境和工具、标准单元设计综

集成电路设计基础复习

1、解释基本概念:集成电路,集成度,特征尺寸 参考答案: A、集成电路(IC:integrated circuit)是指通过一系列特定的加工工艺,将晶体管、二极管等有源器件和电阻、电容等无源器件,按照一定的电路互连,“集成”在一块半导体晶片(如硅或砷化镓)上,封装在一个外壳内,执行特定电路或系统功能的集成块。 B、集成度是指在每个芯片中包含的元器件的数目。 C、特征尺寸是代表工艺光刻条件所能达到的最小栅长(L)尺寸。 2、写出下列英文缩写的全称:IC,MOS,VLSI,SOC,DRC,ERC,LVS,LPE 参考答案: IC:integrated circuit;MOS:metal oxide semiconductor;VLSI:very large scale integration;SOC:system on chip;DRC:design rule check;ERC:electrical rule check;LVS:layout versus schematic;LPE:layout parameter extraction 3、试述集成电路的几种主要分类方法 参考答案: 集成电路的分类方法大致有五种:器件结构类型、集成规模、使用的基片材料、电路功能以及应用领域。根据器件的结构类型,通常将其分为双极集成电路、MOS集成电路和Bi-MOS 集成电路。按集成规模可分为:小规模集成电路、中规模集成电路、大规模集成电路、超大规模集成电路、特大规模集成电路和巨大规模集成电路。按基片结构形式,可分为单片集成电路和混合集成电路两大类。按电路的功能将其分为数字集成电路、模拟集成电路和数模混合集成电路。按应用领域划分,集成电路又可分为标准通用集成电路和专用集成电路。 4、试述“自顶向下”集成电路设计步骤。 参考答案: “自顶向下”的设计步骤中,设计者首先需要进行行为设计以确定芯片的功能;其次进行结构设计;接着是把各子单元转换成逻辑图或电路图;最后将电路图转换成版图,并经各种验证后以标准版图数据格式输出。 5、比较标准单元法和门阵列法的差异。 参考答案:

集成电路设计方法的发展历史

集成电路设计方法的发展历史 、发展现状、及未来主流设 计方法报告 集成电路是一种微型电子器件或部件,为杰克·基尔比发明,它采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、二极管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构;其中所有元件在结构上已组成一个整体,使电子元件向着微小型化、低功耗和高可靠性方面迈进了一大步。集成电路具有体积小,重量轻,引出线和焊接点少,寿命长,可靠性高,性能好等优点,同时成本低,便于大规模生产。它不仅在工、民用电子设备如收录机、电视机、计算机等方面得到广泛的应用,同时在军事、通讯、遥控等方面也得到广泛的应用。用集成电路来装配电子设备,其装配密度比晶体管可提高几十倍至几千倍,设备的稳定工作时间也可大大提高。 一、集成电路的发展历史: 1947年:贝尔实验室肖克莱等人发明了晶体管,这是微电子技术发展中第一个里程碑; 1950年:结型晶体管诞生; 1950年: R Ohl和肖特莱发明了离子注入工艺; 1951

年:场效应晶体管发明; 1956年:C S Fuller发明了扩散工艺; 1958年:仙童公司Robert Noyce与德仪公司基尔比间隔数月分别发明了集成电路,开创了世界微电子学的历史; 1960年:H H Loor和E Castellani发明了光刻工艺;1962年:美国RCA公司研制出MOS场效应晶体管; 1963年:和首次提出CMOS技术,今天,95%以上的集成电路芯片都是基于CMOS工艺; 1964年:Intel摩尔提出摩尔定律,预测晶体管集成度将会每18个月增加1倍; 1966年:美国RCA公司研制出CMOS集成电路,并研制出第一块门阵列; 1967年:应用材料公司成立,现已成为全球最大的半导体设备制造公司; 1971年:Intel推出1kb动态随机存储器,标志着大规模集成电路出现; 1971年:全球第一个微处理器4004Intel公司推出,采用的是MOS工艺,这是一个里程碑式的发明; 1974年:RCA公司推出第一个CMOS微处理器1802; 1976年:16kb DRAM和4kb SRAM问世; 1978年:64kb动态随机存储器诞生,不足平方厘米的硅片上集成了14万个晶体管,标志着超大规模集成电路时

专用集成电路

实验一 EDA软件实验 一、实验目的: 1、掌握Xilinx ISE 9.2的VHDL输入方法、原理图文件输入和元件库的调用方法。 2、掌握Xilinx ISE 9.2软件元件的生成方法和调用方法、编译、功能仿真和时序仿真。 3、掌握Xilinx ISE 9.2原理图设计、管脚分配、综合与实现、数据流下载方法。 二、实验器材: 计算机、Quartus II软件或xilinx ISE 三、实验内容: 1、本实验以三线八线译码器(LS74138)为例,在Xilinx ISE 9.2软件平台上完成设计电 路的VHDL文本输入、语法检查、编译、仿真、管脚分配和编程下载等操作。下载芯片选择Xilinx公司的CoolRunner II系列XC2C256-7PQ208作为目标仿真芯片。 2、用1中所设计的的三线八线译码器(LS74138)生成一个LS74138元件,在Xilinx ISE 9.2软件原理图设计平台上完成LS74138元件的调用,用原理图的方法设计三线八线译 码器(LS74138),实现编译,仿真,管脚分配和编程下载等操作。 四、实验步骤: 1、三线八线译码器(LS 74138)VHDL电路设计 (1)三线八线译码器(LS74138)的VHDL源程序的输入 打开Xilinx ISE 6.2编程环境软件Project Navigator,执行“file”菜单中的【New Project】命令,为三线八线译码器(LS74138)建立设计项目。项目名称【Project Name】为“Shiyan”,工程建立路径为“C:\Xilinx\bin\Shiyan1”,其中“顶层模块类型(Top-Level Module Type)”为硬件描述语言(HDL),如图1所示。 图1 点击【下一步】,弹出【Select the Device and Design Flow for the Project】对话框,在该对话框内进行硬件芯片选择与工程设计工具配置过程。

集成电路设计企业认定申请表

集成电路设计企业认定申请表 申报企业(盖章) 所在地区 申报日期年月日 工业和信息化部制 二O一四年

填表须知 一、根据《国务院关于印发进一步鼓励软件产业和集成电路产业发 展若干政策的通知》(国发[2011]4号)、《工业和信息化部国家发展和改革委员会财政部国家税务总局关于印发<集成电路设计企业认定管理办法>的通知》(工信部联电子[2013]487号),凡符合相关条件的认定申报企业,均须如实填报本表。 二、申报企业应按工业和信息化部统一制作的表式填写电子版,并 打印纸质版一份,与申请表中第七项“需提交的其他材料”一并装订成册。电子版与纸质材料报企业所在地区(省、自治区、直辖市、计划单列市)工业和信息化主管部门。 三、企业名称、主管税务所名称应填写全称。 四、“申报企业经营情况”、“申报企业人员构成情况”应当填写企 业申请认定年度上一年度情况。 五、申请表第四项申报企业上年度经营情况中,“集成电路设计销 售(营业)收入”=“集成电路产品收入”+“集成电路设计服务收入”。“自主集成电路设计销售(营业)收入”=“集成电路设计销售(营业)收入”-“代销集成电路收入”。 六、申请表中“当年月平均职工总人数”按照以下公式计算: 月平均职工总人数=(月初职工总人数+月末职工总人数)÷2 当年月平均职工总人数=当年各月平均职工总人数之和÷12。 七、表中选取项目请在“□”中划“√”,要求排序的项目请填写所 排序号。 八、申报材料中要求签章处,须加盖公章,复印无效。 九、除另有说明外,申请表中栏目不得空缺。

一、申报企业概况 注:企业注册资金非人民币资金的请换算成人民币后填报。

现代制造系统试题

2010年4月高等教育自学考试全国统一命题考试 现代制造系统试卷 一、单项选择题(20分) 1.根据制作的产品的数量和批量的不同,一般将制造的生产类型划分为三类,即【D】 A.单件生产、中批生产、大量生产B单件生产、中批生产、大批生产 C.小批生产、中批生产、大批生产D单件生产、成批生产、大量生产 2.借助于辨别和研究现有系统的现状,导出实际系统一般解的分析设计方法为【C】 A.推断设计法B演绎设计法 C.归纳设计法D创造性求解设计法 3.异步传输的优点是【C】 A.运行平稳B噪声小 C.柔性好,利于自动线平衡D速度快、能传输大型工件 4.刚性自动化是指顺序地布置设施及设备的自动化,其工艺流程是根据下列哪项原则进行的【D】 A.可变的原则B多变的原则C变化的原则D不变的原则 5.成组技术的基础是【A】 A.相似性B相关性C一致性D互换性 6.在编码系统中各码位之间是递阶隶属关系,即除第一码位内的特征码外,其后各码位的特征含义都要根据前一位确定的结构称为【B】 A.网式结构B树式结构C图式结构D链式结构 7.非回转体零件实现成组工艺的最重要的基本原则是【A】 A.调整的统一B刀具的统一C机床的统一D夹具的统一 8.点位控制系统的要求是【D】 A.必须采用增量坐标控制方式B必须采用绝对坐标方式 C.必有确保刀具沿各坐标轴的运动之间有确定的函数关系 D.仅控制刀具相对于工件的位置精度,不规定刀具运动轨迹 9.用APT语言动编程是指【A】 A.从零件图纸到制作控制介质的全过程都由计算机完成 B.从零件图纸到制作控制介质的过程中,除后置处理外,全由计算机完成 C.人工用数控语言编写零件加工的源程序,由计算机自动生成NC代码 D.人工编写目标程序 10.插补的主要任务是确定刀具相对于工件的【A】 A.运动轨迹B运动速度C位移量D加速度 11.采用FMS的主要效益是降低加工成本、减少生产面积、减少在制品和【C】 A.减少机床台数B提高加工精度C减少非加工时间D提高生产率 12.FMS中的加工工作站是指【B】 A.工业机器人B CNC机床C有轨运输小车D无轨自动导向小车

集成电路设计答案 王志功版

第一章 1.按规模划分,集成电路的发展已经经历了哪几代?它的发展遵循了一条业界著名的定律,请说出是什么定律? 晶体管-分立元件-SSI-MSI-LSI-VLSI-ULSI-GSI-SOC。MOORE定律 2.什么是无生产线集成电路设计?列出无生产线集成电路设计的特点和环境。 拥有设计人才和技术,但不拥有生产线。特点:电路设计,工艺制造,封装分立运行。 环境:IC产业生产能力剩余,人们需要更多的功能芯片设计 3.多项目晶圆(MPW)技术的特点是什么?对发展集成电路设计有什么意义? MPW:把几到几十种工艺上兼容的芯片拼装到一个宏芯片上,然后以步行的方式排列到一到多个晶圆上。意义:降低成本。 4.集成电路设计需要哪四个方面的知识? 系统,电路,工具,工艺方面的知识 第二章 1.为什么硅材料在集成电路技术中起着举足轻重的作用? 原材料来源丰富,技术成熟,硅基产品价格低廉 2.GaAs和InP材料各有哪些特点? P10,11 3.怎样的条件下金属与半导体形成欧姆接触?怎样的条件下金属与半导体形成肖特基接触? 接触区半导体重掺杂可实现欧姆接触,金属与掺杂半导体接触形成肖特基接触 4.说出多晶硅在CMOS工艺中的作用。P13 5.列出你知道的异质半导体材料系统。 GaAs/AlGaAs, InP/ InGaAs, Si/SiGe, 6.SOI材料是怎样形成的,有什么特点? SOI绝缘体上硅,可以通过氧隔离或者晶片粘结技术完成。特点:电极与衬底之间寄生电容大大减少,器件速度更快,功率更低 7. 肖特基接触和欧姆型接触各有什么特点? 肖特基接触:阻挡层具有类似PN结的伏安特性。欧姆型接触:载流子可以容易地利用量子遂穿效应相应自由传输。 8. 简述双极型晶体管和MOS晶体管的工作原理。P19,21 第三章 1.写出晶体外延的意义,列出三种外延生长方法,并比较各自的优缺点。 意义:用同质材料形成具有不同掺杂种类及浓度而具有不同性能的晶体层。外延方法:液态生长,气相外延生长,金属有机物气相外延生长 2.写出掩膜在IC制造过程中的作用,比较整版掩膜和单片掩膜的区别,列举三种掩膜的制造方法。P28,29 3.写出光刻的作用,光刻有哪两种曝光方式?作用:把掩膜上的图形转换成晶圆上的器件结构。曝光方式有接触与非接触两种。 4.X射线制版和直接电子束直写技术替代光刻技术有什么优缺点? X 射线(X-ray)具有比可见光短得多的波长,可用来制作更高分辨率的掩膜版。电子

集成电路设计方法--复习提纲

集成电路设计方法--复习提纲 2、实际约束:设计最优化约束:建立时钟,输入延时,输出延时,最大面积 设计规则约束:最大扇出,最大电容 39.静态时序分析路径的定义 静态时序分析通过检查所有可能路径上的时序冲突来验证芯片设计的时序正确性。时序路径的起点是一个时序逻辑单元的时钟端,或者是整个电路的输入端口,时序路径的终点是下一个时序逻辑单元的数据输入端,或者是整个电路的输出端口。 40.什么叫原码、反码、补码? 原码:X为正数时,原码和X一样;X为负数时,原码是在X的符号位上写“1”反码:X为正数是,反码和原码一样;X为负数时,反码为原码各位取反 补码:X为正数时,补码和原码一样;X为负数时,补码在反码的末位加“1” 41.为什么说扩展补码的符号位不影响其值? SSSS SXXX = 1111 S XXX + 1 —— 2n2n12n1例如1XXX=11XXX,即为XXX-23=XXX+23-24. 乘法器主要解决什么问题? 1.提高运算速度2.符号位的处理 43.时钟网络有哪几类?各自优缺点? 1. H树型的时钟

网络: 优点:如果时钟负载在整个芯片内部都很均衡,那么H 树型时钟网络就没有系统时钟偏斜。缺点:不同分支上的叶节点之间可能会出现较大的随机偏差、漂移和抖动。 2. 网格型的时钟网络 优点:网格中任意两个相近节点之间的电阻很小,所以时钟偏差也很小。缺点:消耗大量的金属资源,产生很大的状态转换电容,所以功耗较大。 3.混合型时钟分布网络优点:可以提供更小的时钟偏斜,同时,受负载的影响比较小。缺点:网格的规模较大,对它的建模、自动生成可能会存在一些困难。 总线的传输机制? 1. 早期:脉冲式机制和握手式机制。 脉冲式机制:master发起一个请求之后,slave在规定的t时间内返回数据。 握手式机制:master发出一个请求之后,slave在返回数据的时候伴随着一个确认信号。这样子不管外设能不能在规定的t时间内返回数据,master都能得到想要的数据。 2. 随着CPU频率的提高,总线引入了wait的概念 如果slave能在t时间内返回数据,那么这时候不能把wait信号拉高,如果slave不能在t时间内返回数据,那么必须在t时间内将wait信号拉高,直到slave将可以返回

2019年集成电路设计半导体IP授权服务企业战略发展规划

2019年集成电路设计半导体IP授权服务企业战略发展规划 2019年11月

目录 一、公司总体发展战略 (3) 二、已采取的措施及实施效果 (3) 1、持续加大研发投入,以IP为核心打造系统级芯片定制平台 (3) 2、积极开拓市场,与行业龙头企业建立良好合作关系 (4) 3、重视人才引进与培养,建立了一支具有丰富经验的研发团队 (4) 三、未来规划采取的措施 (5) 1、升级芯片定制平台 (5) 2、择机投资并购 (5) 3、拓宽融资渠道 (6)

一、公司总体发展战略 公司专注于一站式芯片定制服务及半导体IP 授权服务,致力于打造集成电路设计行业领先的技术创新平台。凭借深厚的半导体IP 储备、成熟的行业应用解决方案、优秀的芯片架构设计能力和丰富的芯片设计经验,公司能够帮助客户高效率、高质量、低成本、低风险地完成芯片的定义、设计和量产出货。公司坚持基础技术研发与应用技术升级同步进行,持续建设高效的从技术到平台,再到应用的研发体系, 加强对具有复用性、关键性、先导性的新技术的预研,以夯实公司的核心技术基础。未来,公司将持续保持对半导体IP 的研发投入, 并择机进行投资或并购,以扩充核心半导体IP 储备;同时,公司还将不断升级基于先进工艺的系统级芯片定制平台(包括基础和应用软件平台),打造面向数据中心、可穿戴设备、智慧城市和智慧家居、智慧汽车等应用领域的芯片核心技术平台。 二、已采取的措施及实施效果 1、持续加大研发投入,以IP为核心打造系统级芯片定制平台 报告期内,公司持续加大对于芯片IP 和系统级芯片定制平台的研发投入,形成一批具有自主知识产权的专利技术。报告期内,公司研发投入占营业收入比例分别为37.18%、30.71%、32.85%、31.99%。 公司以一系列IP 为核心,打造系统级芯片定制平台,使得一站式芯片定制服务和半导体IP 授权服务既可以独立存在,也可以紧密

现代集成制造系统的技术构成精

现代集成制造系统的技术构成 先进制造技术是传统制造技术不断吸收机械、电子、信息、材料、能源和现代管理等方面的成果,并将其综合应用于产品设计、制造、检测、管理、销售、使用、服务的制造全过程,以实现优质、高效、低耗、清洁、灵活的生产,并取得理想技术经济效果的制造技术的总称。它具有如下一些特点: 从以技术为中心向以人为中心转变,使技术的发展更加符合人类社会的需要;从强调专业化分工向模糊分工、一专多能转变,使劳动者的聪明才智能够得到充分发挥;从金字塔的多层管理结构向扁平的网络化结构转变,减少层次和中间环节;从传统的顺序工作方式向并行工作方式转变,缩短工作周期,提高工作质量;从按照功能划分部门的固定组织形式向动态的自主管理的小组工作方式转变。在先进制造技术中,现代集成制造系统在吸收计算机集成制造系统的优秀成果的基础上,继续推动并行工程、虚拟制造、敏捷制造和动态联盟的研究工作深入进行,并不断吸收先进制造技术中的成功经验和先进思想,将它们进行推广应用,由此使现代集成制造系统成为先进制造技术的核心,具体说明如下: 1、并行工程(C E -C o n c u r r e n t Engineering 并行工程是集成地、并行地设计产品及其相关过程(包括制造过程和支持过程的

系统方法。它要求产品开发人员在一开始就考虑产品整个生命周期中从概念形成到产品报废的所有因素,包括质量、成本、进度计划和用户要求。为了达到并行的目的,必须建立高度集成的主模型,通过它来实现不同部门人员的协同工作;为了达到产品的一次设计成功,减少反复,它在许多部分应用了仿真技术;主模型的建立、局部仿真的应用等都包含在虚拟制造技术中,可以说并行工程的发展为虚拟制造技术的诞生创造了条件,虚拟制造技术将是以并行工程为基础的,并行工程的进一步发展就是虚拟制造技术。同时,并行工程是在C A D、C A M、C A P P等技术支持下,将原来分别进行的工作在时间和空间上交叉、重叠,充分利用了原有技术,并吸收了当前迅速发展的计算机技术、网络技术的优秀成果,使其成为先进制造技术中的基础。由于并行工程所处的基础性地位及我国研究工作的不足,就决定了必须将它作为现代集成制造系统的基础 现代集成制造系统技术及发展探讨 武书彦郑州牧业工程高等专科学校 江道节河南中原总机厂石油设备有限公司 性研究工作不断深入地进行。 2、虚拟制造(V M -V i r t u a l Manufacturing 虚拟制造利用信息技术、仿真技术、计算机技术对现实制造活动中的人、物、 信息及制造过程进行全面的仿真,以发现制造中可能出现的问题,在产品实际生产前就采取预防措施,从而达到产品一次性制造成功,来达到降低成本、缩短开发周期,增强产品竞争力的目的。国内的研究刚刚起步,主要集中在三个方面: (1产品虚拟设计技术

集成电路设计流程

集成电路设计流程 . 集成电路设计方法 . 数字集成电路设计流程 . 模拟集成电路设计流程 . 混合信号集成电路设计流程 . SoC芯片设计流程 State Key Lab of ASIC & Systems, Fudan University 集成电路设计流程 . 集成电路设计方法 . 数字集成电路设计流程 . 模拟集成电路设计流程 . 混合信号集成电路设计流程 . SoC芯片设计流程 State Key Lab of ASIC & Systems, Fudan University 正向设计与反向设计 State Key Lab of ASIC & Systems, Fudan University 自顶向下和自底向上设计 State Key Lab of ASIC & Systems, Fudan University Top-Down设计 –Top-Down流程在EDA工具支持下逐步成为 IC主要的设计方法 –从确定电路系统的性能指标开始,自系 统级、寄存器传输级、逻辑级直到物理 级逐级细化并逐级验证其功能和性能 State Key Lab of ASIC & Systems, Fudan University Top-Down设计关键技术 . 需要开发系统级模型及建立模型库,这些行 为模型与实现工艺无关,仅用于系统级和RTL 级模拟。 . 系统级功能验证技术。验证系统功能时不必 考虑电路的实现结构和实现方法,这是对付 设计复杂性日益增加的重要技术,目前系统 级DSP模拟商品化软件有Comdisco,Cossap等, 它们的通讯库、滤波器库等都是系统级模型 库成功的例子。 . 逻辑综合--是行为设计自动转换到逻辑结构 设计的重要步骤 State Key Lab of ASIC & Systems, Fudan University

专用集成电路AD的设计

A/D转换器的设计 一.实验目的: (1)设计一个简单的LDO稳压电路 (2)掌握Cadence ic平台下进行ASIC设计的步骤; (3)了解专用集成电路及其发展,掌握其设计流程; 二.A/D转换器的原理: A/D转换器是用来通过一定的电路将模拟量转变为数字量。 模拟量可以是电压、电流等电信号,也可以是压力、温度、湿度、位移、声音等非电信号。但在A/D转换前,输入到A/D转换器的输入信号必须经各种传感器把各种物理量转换成电压信号。符号框图如下: 数字输出量 常用的几种A/D器为; (1):逐次比较型 逐次比较型AD由一个比较器和DA转换器通过逐次比较逻辑构成,从MSB 开始,顺序地对每一位将输入电压与内置DA转换器输出进行比较,经n次比较而输出数字值。其电路规模属于中等。其优点是速度较高、功耗低,在低分辩率(<12位)时价格便宜,但高精度(>12位)时价格很高。 (2): 积分型 积分型AD工作原理是将输入电压转换成时间(脉冲宽度信号)或频率(脉冲频率),然后由定时器/计数器获得数字值。其优点是用简单电路就能获得高分辨率,但缺点是由于转换精度依赖于积分时间,因此转换速率极低。初期的单片AD转换器大多采用积分型,现在逐次比较型已逐步成为主流。 (3):并行比较型/串并行比较型

并行比较型AD采用多个比较器,仅作一次比较而实行转换,又称FLash(快速)型。由于转换速率极高,n位的转换需要2n-1个比较器,因此电路规模也极大,价格也高,只适用于视频AD转换器等速度特别高的领域。 串并行比较型AD结构上介于并行型和逐次比较型之间,最典型的是由2个n/2位的并行型AD转换器配合DA转换器组成,用两次比较实行转换,所以称为Half flash(半快速)型。还有分成三步或多步实现AD转换的叫做分级型AD,而从转换时序角度又可称为流水线型AD,现代的分级型AD中还加入了对多次转换结果作数字运算而修正特性等功能。这类AD速度比逐次比较型高,电路规模比并行型小。 一.A/D转换器的技术指标: (1)分辨率,指数字量的变化,一个最小量时模拟信号的变化量,定义为满刻度与2^n的比值。分辨率又称精度,通常以数字信号的位数来表示。 (2)转换速率,是指完成一次从模拟转换到数字的AD转换所需的时间的倒数。积分型AD的转换时间是毫秒级属低速AD,逐次比较型AD是微秒级,属中速AD,全并行/串并行型AD可达到纳秒级。采样时间则是另外一个概念,是指两次转换的间隔。为了保证转换的正确完成,采样速率必须小于或等于转换速率。因此有人习惯上将转换速率在数值上等同于采样速率也是可以接受的。常用单位ksps 和Msps,表示每秒采样千/百万次。 (3)量化误差,由于AD的有限分辩率而引起的误差,即有限分辩率AD的阶梯状转移特性曲线与无限分辩率AD(理想AD)的转移特性曲线(直线)之间的最大偏差。通常是1 个或半个最小数字量的模拟变化量,表示为1LSB、1/2LSB。(4)偏移误差,输入信号为零时输出信号不为零的值,可外接电位器调至最小。(5)满刻度误差,满度输出时对应的输入信号与理想输入信号值之差。 (6)线性度,实际转换器的转移函数与理想直线的最大偏移,不包括以上三种误差。 三、实验步骤 此次实验的A/D转换器用的为逐次比较型,原理图如下:

中国集成电路设计企业一览表

一、北京地区集成电路企业 北京华虹NEC集成电路设计有限公司 北京华虹集成电路设计有限公司 北京博旭华达科技有限公司 北京宏思电子技术有限责任公司 北京清华同方微电子有限公司 广州市理惟科技有限公司北京分公司 思略微电子(北京)有限公司 北京清华紫光微电子系统有限公司 北京九方中实电子科技有限公司 北京中科博业科技有限公司 北京明宇科技有限公司 北京英贝多嵌入式网络技术有限公司 北京神州龙芯集成电路设计有限责任公司 北京航天伟盈微电子有限公司 北京时代华诺科技有限公司 北京东世半导体技术有限公司 北京凯赛德航天系统集成设计有限公司 北京创新天地科技有限公司 北京秀策电子技术有限公司 北京吴喜动态科技有限公司 北京赛特克科技有限公司 贵州以太家庭网络项目组 图形芯片项目组 北京卫士通龙马网络技术公司 北京东兴泰思特检测技术有限公司 北京科力测试技术有限公司 北京东润泰思特测控技术有限公司 北京远望经贸信息网络开发公司 北京东越泰思特电子技术有限公司 北京东方泰思特测控装备技术有限责任公司北京东英泰思特测试技术有限公司 北京国芯安集成电路设计公司 北京儒荣科技有限公司 北京鑫泰维科技发展有限公司 北京鑫世恒达商贸有限公司 北京华贝尔兴业机电技术有限公司 北京泛析智能控制技术有限公司 北京世纪千里马商贸有限责任公司 北京捷瑞泰思特科技有限公司 北京硅普泰思特半导体设备有限公司

北京快鱼科技有限公司 北京精技环宇条码技术公司 北京恩联科技有限公司 北京天元伟业科技有限公司 北京惠友天成科技有限公司 二、上海地区集成电路设计企业 1 上海集成电路设计研究中心 2 新涛科技(上海)有限公司 3 上海华龙信息技术开发中心 4 华邦(上海)集成电路有限公司 5 旭上电子(上海)有限公司 6 上海清华晶芯微电子有限公司 7 盛扬半导体(上海)有限公司 8 展讯通讯(上海)有限公司 9 上海大学微电子研究与开发中心 10上海上大众芯微电子有限公司 11科广微电子(上海)有限公司 12全泰电子(上海)有限公司 13上海全景数字技术有限公司 14上海晶进微电子有限公司 15上海华虹集成电路有限责任公司 16上海爱普生电子有限公司 17华东师范大学微电子电路与系统研究所18上海复旦微电子股份有限公司 19上海奇普科技有限公司 20华东计算技术研究所 21泰鼎多媒体技术(上海)有限公司 22上海莱迪思半导体有限公司 23百利通电子(上海)有限公司 24上海华园微电子技术有限公司 25迈世微电子(上海)有限公司 26上海科星电子有限公司 27上海复理南华信息技术有限公司 28上海海岭电子科技有限公司 29上海信语语音芯片有限公司 30上海元方集成电路咨询服务公司 31上海京西电子信息系统有限公司 32上海双岭电子有限公司 33上海海尔集成电路有限公司 34上海圣景科技发展有限公司

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